JPH03219069A - 真空槽のクリーニング方法 - Google Patents
真空槽のクリーニング方法Info
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- JPH03219069A JPH03219069A JP1394690A JP1394690A JPH03219069A JP H03219069 A JPH03219069 A JP H03219069A JP 1394690 A JP1394690 A JP 1394690A JP 1394690 A JP1394690 A JP 1394690A JP H03219069 A JPH03219069 A JP H03219069A
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- Japan
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- vessel
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- gas
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Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は真空槽のクリーニング方法に関する。
詳しくは、スパッタリング、真空蒸着等の真空槽（減圧
槽）内で薄膜を形成する装置において、真空槽内のダス
ト等を除去して槽内を清浄化するクリーニング方法に関
する。
槽）内で薄膜を形成する装置において、真空槽内のダス
ト等を除去して槽内を清浄化するクリーニング方法に関
する。
真空中にて薄膜を形成する技術は、例えばスパッタリン
グ、真空蒸着、イオンブレーティング、化学蒸着等種々
の方法が知られている。この種の技術は精密物品の製造
に適用されることが多く極めて精度の高い薄膜が要求さ
れる。従って真空槽内に微量のダスト等が残留していて
も製品不良の大きな問題となる。このためこの種の真空
槽内のクリーニングを迅速かつ完全に行なう方法の開発
が望まれていた。クリーニング方法の一つとして例えば
特開昭６２−１９６３６７号に開示されているようなり
リーンエアーをブロアで供給し、排気系へ押し出す方法
も考えられている。しかしこの方法では、たとえばクリ
ーニング中にダストの有無を検知装置を差し込んで確認
するため、確認窓を開けた時に、内圧が高いために槽内
の気体が外に吹き出し、同伴されたダストが周囲に敗っ
て汚染する等の問題があった。
グ、真空蒸着、イオンブレーティング、化学蒸着等種々
の方法が知られている。この種の技術は精密物品の製造
に適用されることが多く極めて精度の高い薄膜が要求さ
れる。従って真空槽内に微量のダスト等が残留していて
も製品不良の大きな問題となる。このためこの種の真空
槽内のクリーニングを迅速かつ完全に行なう方法の開発
が望まれていた。クリーニング方法の一つとして例えば
特開昭６２−１９６３６７号に開示されているようなり
リーンエアーをブロアで供給し、排気系へ押し出す方法
も考えられている。しかしこの方法では、たとえばクリ
ーニング中にダストの有無を検知装置を差し込んで確認
するため、確認窓を開けた時に、内圧が高いために槽内
の気体が外に吹き出し、同伴されたダストが周囲に敗っ
て汚染する等の問題があった。
［課題を解決するための手段］
本発明者等は、上述したような従来の技術の課題につき
種々検討した結果、槽内を減圧状態に保ちつつ清浄気体
を流通させることにより問題を解決し得ることを見出し
、本発明を完成するに至った。
種々検討した結果、槽内を減圧状態に保ちつつ清浄気体
を流通させることにより問題を解決し得ることを見出し
、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は、真空槽内をクリーニングす
るにあたり、真空槽内に清浄な気体を導入しつつ槽内の
気体を強制的に吸引排気することを特徴とする真空槽の
クリーニング方法に存する。
るにあたり、真空槽内に清浄な気体を導入しつつ槽内の
気体を強制的に吸引排気することを特徴とする真空槽の
クリーニング方法に存する。
真空槽中でスパッタリング等により薄膜を形成するため
には、薄膜形成用基材を槽外（大気）から槽内（真空）
に導入する工程、成膜工程、薄膜形成後に槽内から取り
出す工程があり、真空槽は真空状態と常圧状態とが繰り
返される。
には、薄膜形成用基材を槽外（大気）から槽内（真空）
に導入する工程、成膜工程、薄膜形成後に槽内から取り
出す工程があり、真空槽は真空状態と常圧状態とが繰り
返される。
特に、真空状態の槽を大気圧に戻すために槽内に気体を
導入する際には槽内の壁面等に付着していたダストが舞
い上り汚染源となる。
導入する際には槽内の壁面等に付着していたダストが舞
い上り汚染源となる。
本発明の方法は、このように大気圧に戻った真空槽内の
気体をすみやかに強制排気しつつ槽内に清浄な気体を導
入し減圧状態を保ちながらダストを吸引除去するもので
ある。このようにすることによりたとえばクリーニング
中にダスト測定用の検知機を窓から差し込む等してもダ
ストが吹き出して槽外に準備した基材等を汚染するよう
なことがない。
気体をすみやかに強制排気しつつ槽内に清浄な気体を導
入し減圧状態を保ちながらダストを吸引除去するもので
ある。このようにすることによりたとえばクリーニング
中にダスト測定用の検知機を窓から差し込む等してもダ
ストが吹き出して槽外に準備した基材等を汚染するよう
なことがない。
以下に実施例を示し、本発明方法を一例をもって具体的
に説明する。
に説明する。
実施例１
スパッタリング装置の基材導入部に当る２００ｍｍＸ
５００ｍｍＸ ８００ｍｍの内部空間を有する真空槽を
一旦５ Ｘ １０−５ｔｏｒｒまで排気し、次いで清浄
空気を導入し５秒間で大気圧まで戻したところ、導入さ
れた空気流によって層内のダストが舞い上りダストカウ
ンターによる測定ではクリーン度はクラス１５０００で
あった（クリーン度とはｌｆｔ”当りのダスト粒子の個
数を表わす。）。
５００ｍｍＸ ８００ｍｍの内部空間を有する真空槽を
一旦５ Ｘ １０−５ｔｏｒｒまで排気し、次いで清浄
空気を導入し５秒間で大気圧まで戻したところ、導入さ
れた空気流によって層内のダストが舞い上りダストカウ
ンターによる測定ではクリーン度はクラス１５０００で
あった（クリーン度とはｌｆｔ”当りのダスト粒子の個
数を表わす。）。
次いで、排気装置を働らかし、かつ０．０３μのフィル
ターを通した清浄空気を供給したところクリーン度は速
かにクラス５まで低下した。
ターを通した清浄空気を供給したところクリーン度は速
かにクラス５まで低下した。
排気装置を働かしたことにより層内は若干の減圧状態と
なっており、周囲の空気を吸引する状態となり槽内のダ
ストが周囲に吹き出すようなことはなかった。
なっており、周囲の空気を吸引する状態となり槽内のダ
ストが周囲に吹き出すようなことはなかった。
本発明の方法によれば真空槽内のダストを速かに排出す
ることができ、また周囲を汚染するようなこともない。
ることができ、また周囲を汚染するようなこともない。
従ってスパッタリング装置の基材導入槽等をこの方法で
クリーニングすることにより高速化が可能となり実用上
大変好適である。
クリーニングすることにより高速化が可能となり実用上
大変好適である。
Claims (1)
- （１）真空槽内をクリーニングするにあたり、真空槽内
に清浄な気体を導入しつつ槽内の気体を強制的に吸引排
気することを特徴とする真空槽のクリーニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1394690A JPH03219069A (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 真空槽のクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1394690A JPH03219069A (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 真空槽のクリーニング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03219069A true JPH03219069A (ja) | 1991-09-26 |
Family
ID=11847372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1394690A Pending JPH03219069A (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 真空槽のクリーニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03219069A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6067664A (ja) * | 1983-09-24 | 1985-04-18 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
-
1990
- 1990-01-24 JP JP1394690A patent/JPH03219069A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6067664A (ja) * | 1983-09-24 | 1985-04-18 | Shimadzu Corp | 真空成膜装置 |
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