JPH03220181A - イソキサゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
イソキサゾール誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03220181A JPH03220181A JP2014239A JP1423990A JPH03220181A JP H03220181 A JPH03220181 A JP H03220181A JP 2014239 A JP2014239 A JP 2014239A JP 1423990 A JP1423990 A JP 1423990A JP H03220181 A JPH03220181 A JP H03220181A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- reaction
- derivative
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
- C07D261/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings
- C07D261/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D261/08—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は一般式
（式中、Ｒ’及びＲ２は同−又は相異なって、水素原子
、低級アルコキシ基、Ｒ３はシアノ基又はフルフキジカ
ルボニル基を示す。）で表わされるイソキサゾール誘導
体の工業的に有利な製造方法に関する。
、低級アルコキシ基、Ｒ３はシアノ基又はフルフキジカ
ルボニル基を示す。）で表わされるイソキサゾール誘導
体の工業的に有利な製造方法に関する。
本発明の方法により製造されるインキサゾール誘導体は
、抗炎症剤、鎖補剤及び解熱剤として有用な一般式 （式中、Ｒ Ｒ２及びＲ１は前記に同じ）で表わさ （式中、Ｒ１及（／” Ｒ’は同−又は相異なって、水
素原ｆ、（ｌＬ級フルコキン基を示す。）で表わされる
（：１．４−ノアリールインキサシ−ルー５−イル）酢
酸誘導体の製造中間体として有用である。
、抗炎症剤、鎖補剤及び解熱剤として有用な一般式 （式中、Ｒ Ｒ２及びＲ１は前記に同じ）で表わさ （式中、Ｒ１及（／” Ｒ’は同−又は相異なって、水
素原ｆ、（ｌＬ級フルコキン基を示す。）で表わされる
（：１．４−ノアリールインキサシ−ルー５−イル）酢
酸誘導体の製造中間体として有用である。
（従来の１支祥ｎ
形成（ＩＩ）で友わされるインキサゾール誘導体のうち
、１テ３がシフ／基である化合物の製ｊ一方法としでは
特開昭６０−７５４７１号公報に開示された方法が知ら
れている。即ち、３，４−ジアリール−５メチルイソキ
サゾールをハロゲン化剤、次いでシアン化削と反応させ
るＨ法である。Ｒ３がアルコキシカルボニル基である化
合物に関しては新規な化合物である。
、１テ３がシフ／基である化合物の製ｊ一方法としでは
特開昭６０−７５４７１号公報に開示された方法が知ら
れている。即ち、３，４−ジアリール−５メチルイソキ
サゾールをハロゲン化剤、次いでシアン化削と反応させ
るＨ法である。Ｒ３がアルコキシカルボニル基である化
合物に関しては新規な化合物である。
（発明が解決しようとする課題）
本発明の目的は、」二足従来方法とは全＜ ５’４なる
新規にして好ｊ＾な方法により、化合物（Ａ）を製造す
るための中間体として有用な一般式（ＩＴ＞のインキサ
ゾール誘導体を製造しうる方法を提供することにある。
新規にして好ｊ＾な方法により、化合物（Ａ）を製造す
るための中間体として有用な一般式（ＩＴ＞のインキサ
ゾール誘導体を製造しうる方法を提供することにある。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は一般式
（式中、Ｒ１及びＲ２は同−又は相異なって、水素原子
、低級アルコキシ基、Ｒ３はシアノ基又はアルコキシカ
ルボニル基を示す、）で表わされるα、β−ｆ飽和ケト
オキシム誘導体を酸化することを特徴とする一般式 （式中、Ｒ’ Ｒ２及びＲ３は前記に同じ）で表わさ
れるインキサゾール誘導体の製造方法に係る。
、低級アルコキシ基、Ｒ３はシアノ基又はアルコキシカ
ルボニル基を示す、）で表わされるα、β−ｆ飽和ケト
オキシム誘導体を酸化することを特徴とする一般式 （式中、Ｒ’ Ｒ２及びＲ３は前記に同じ）で表わさ
れるインキサゾール誘導体の製造方法に係る。
上記式中、Ｒ１及びＲ２で表わされる、低級アルコキシ
基の好ましいものは炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のア
ルコキシ基であり、具体的には、メトキシ、エトキシ、
プロポキン、ｉ：Ｘｏ−プロポキシ、ブトキシ、１１τ
會−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ；ルオキシ基等を
例示て゛きる。
基の好ましいものは炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のア
ルコキシ基であり、具体的には、メトキシ、エトキシ、
プロポキン、ｉ：Ｘｏ−プロポキシ、ブトキシ、１１τ
會−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ；ルオキシ基等を
例示て゛きる。
１−記式中、Ｒ１で表わされるアルフキジカルボニル基
としては、例えばメトキシカルボニル、エトキンカルボ
ニｌし、フロボキシカルボニル、 ＋３０＝プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、しｒ Ｉ−ブトキシ
カルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
ン力ルボニル基等の炭素数２−７の直鎖又は分枝状のア
ルコキシカルボニル基を挙げることができる。
としては、例えばメトキシカルボニル、エトキンカルボ
ニｌし、フロボキシカルボニル、 ＋３０＝プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、しｒ Ｉ−ブトキシ
カルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
ン力ルボニル基等の炭素数２−７の直鎖又は分枝状のア
ルコキシカルボニル基を挙げることができる。
本発明のノｊ法により製造されるインキサゾール誘導体
（ｎ）は抗炎症剤、鎮痛剤及び解熱剤としてｆ１用な一
般式 （式中、Ｒ１及びＲ２は同−又は相異なって、水素原ｒ
、低級アルコキシ基を示す。）で表わされる（３，４−
ジアリールインキサシ−ルー５−イル）酢酸誘導体の製
造中間体として有用である。
（ｎ）は抗炎症剤、鎮痛剤及び解熱剤としてｆ１用な一
般式 （式中、Ｒ１及びＲ２は同−又は相異なって、水素原ｒ
、低級アルコキシ基を示す。）で表わされる（３，４−
ジアリールインキサシ−ルー５−イル）酢酸誘導体の製
造中間体として有用である。
本製法に用いられる化合物（１）は、下記反応工程式に
従って製造できる。
従って製造できる。
（Ｉ）
（式中Ｒ−１Ｒ２及びＲ１は前記に同じ。Ｚは低級アル
キル基を示す。） 上記において、Ｚ″Ｃ表わされる低級フルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、インプロピル、
ブチル、５ｅｅ−ブチル、ｊｐｒｔ−ブチル、ペンチル
、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアル
キル基が挙げられる。
キル基を示す。） 上記において、Ｚ″Ｃ表わされる低級フルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、インプロピル、
ブチル、５ｅｅ−ブチル、ｊｐｒｔ−ブチル、ペンチル
、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状のアル
キル基が挙げられる。
上記反応工程式における各工程は、より詳細には以下の
ごとくして実施される。
ごとくして実施される。
／へ工程〉
一般式（１）で表わされるデオキシベンゾイン誘導体と
一般式（ＩＶ）で表わされるアルコキシ７クリロニトリ
ル又はフルフキジアクリル酸誘導体を適当な溶媒中で塩
基の存在下に反応させることにより、−形成（Ｖ）で表
わされる化合物を得る。溶媒としては反応に関与しない
ものであれば特に制限はなく、例えばメタノール、エタ
ノール、ｂ・ｒｊ −ブタ／−ル、テトラハイドロ７ラ
ン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩
化炭素、クロロホルム、ジクロルメタン、７セトニトリ
ル、ビリノン、ツメチルホルムアミド等の各種有機溶媒
を単独或いは複数混合して使用できる。塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、カリ
ウムＬｐｒｔ−ブトキシド、ブチルリチウム等の無機塩
基、トリエチルアミン、ツメチル７ミノピリクン等の有
機塩基等が使用できる。
一般式（ＩＶ）で表わされるアルコキシ７クリロニトリ
ル又はフルフキジアクリル酸誘導体を適当な溶媒中で塩
基の存在下に反応させることにより、−形成（Ｖ）で表
わされる化合物を得る。溶媒としては反応に関与しない
ものであれば特に制限はなく、例えばメタノール、エタ
ノール、ｂ・ｒｊ −ブタ／−ル、テトラハイドロ７ラ
ン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩
化炭素、クロロホルム、ジクロルメタン、７セトニトリ
ル、ビリノン、ツメチルホルムアミド等の各種有機溶媒
を単独或いは複数混合して使用できる。塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、カリ
ウムＬｐｒｔ−ブトキシド、ブチルリチウム等の無機塩
基、トリエチルアミン、ツメチル７ミノピリクン等の有
機塩基等が使用できる。
反応の割合は、−形成（１’Ｖ）の化合物を一般式（［
［ｒ）の化合物の１〜３倍モル量、塩基を一般式（ＩＩ
Ｉ）の化合物の０．１〜３倍モル量用いるのが好ましい
。
［ｒ）の化合物の１〜３倍モル量、塩基を一般式（ＩＩ
Ｉ）の化合物の０．１〜３倍モル量用いるのが好ましい
。
又、反応温度は２００℃以下で、好ましくは０℃がら溶
媒の沸点程度で行われ、該反応は通常０．５〜２０時間
程度で完結する。
媒の沸点程度で行われ、該反応は通常０．５〜２０時間
程度で完結する。
〈Ｂ工程〉
へ工程で得られた一般式（Ｖ）で表わされる化合物を適
当な溶媒中でヒドロキシルアミンもしくはその塩と反応
させることにより、−形成（１）で表わされる化合物を
得る。反応に使用されるヒドロキシルアミンの塩として
は特に限定されないが、例えば塩酸塩や硫酸塩等が挙げ
られる。溶媒としては反応に関与しないものであれば特
に制限はなく、例えばメタノール、エタ／−ル、Ｌ ｃ
ｒ ｔ−ブタノール、テトラハイドロフラン、ジオキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、ク
ロロホルム、ジクロルメタン、７セトニトリル、ピリノ
ン、ジメチルホルムアミド等の各種有機溶媒を単独或い
は複数混合して使用できる。反応の割合は、ヒドロキシ
ルアミンもしくはその塩を一般式（Ｖ）の化合物の１〜
１０倍モル量用いるのが好ましい。又、反応温度は０〜
２００’Ｃで、好ましくは４０℃から溶媒の沸点程度で
行われ、訊反応は通常１〜７（０時間程度で完結する。
当な溶媒中でヒドロキシルアミンもしくはその塩と反応
させることにより、−形成（１）で表わされる化合物を
得る。反応に使用されるヒドロキシルアミンの塩として
は特に限定されないが、例えば塩酸塩や硫酸塩等が挙げ
られる。溶媒としては反応に関与しないものであれば特
に制限はなく、例えばメタノール、エタ／−ル、Ｌ ｃ
ｒ ｔ−ブタノール、テトラハイドロフラン、ジオキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、ク
ロロホルム、ジクロルメタン、７セトニトリル、ピリノ
ン、ジメチルホルムアミド等の各種有機溶媒を単独或い
は複数混合して使用できる。反応の割合は、ヒドロキシ
ルアミンもしくはその塩を一般式（Ｖ）の化合物の１〜
１０倍モル量用いるのが好ましい。又、反応温度は０〜
２００’Ｃで、好ましくは４０℃から溶媒の沸点程度で
行われ、訊反応は通常１〜７（０時間程度で完結する。
本製法は、」二足反応工程式により得られた化合物（１
）を酸化することを特徴とする化合物（ＩＩ）でルわさ
れるインキサゾール調導体の製造方法である。より詳細
には本製法は化合物（１）を適当な溶媒中又は無溶媒中
で酸化剤と反応させるものである。
）を酸化することを特徴とする化合物（ＩＩ）でルわさ
れるインキサゾール調導体の製造方法である。より詳細
には本製法は化合物（１）を適当な溶媒中又は無溶媒中
で酸化剤と反応させるものである。
本発明における酸化方法としては、日本化学会編、“新
実験化学講座１５巻 １−１．ｌ−２酸化とＭｉ”、丸
首出版に記載されている方法が挙げられる。例えば、過
マン〃ン酸カリウム、二酸化マン〃ン、過ヨウ素酸カリ
ウム等の酸化物、四ＷＦ酸鉛、酢酸水銀等の金属塩、過
酸化水素、過酢＃等の過酸化物等の酸化試剤を用いるノ
ｊ法、空気や酸素等を用いる酸素酸化の方法、陽極酸化
を利用する有機電解酸化法等が挙げられる。
実験化学講座１５巻 １−１．ｌ−２酸化とＭｉ”、丸
首出版に記載されている方法が挙げられる。例えば、過
マン〃ン酸カリウム、二酸化マン〃ン、過ヨウ素酸カリ
ウム等の酸化物、四ＷＦ酸鉛、酢酸水銀等の金属塩、過
酸化水素、過酢＃等の過酸化物等の酸化試剤を用いるノ
ｊ法、空気や酸素等を用いる酸素酸化の方法、陽極酸化
を利用する有機電解酸化法等が挙げられる。
酸化試斉曜を用いる反応においては酸化試剤の割合は一
般式（１）の化合物の０．２〜１０倍モル量使用すｉの
が好ましい。溶媒としては反応に関与しないものであれ
ば特に制限はなく、例えばジクロルメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、７セトン、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、メタノール、エタノール、エーテル、テトラハイ
ドロフラン、酢酸等の各種有機溶媒を単独或いは複数混
合して、又は、これら有機溶媒と水との混合溶媒等いず
れも使用できる。又、反応温度は一２０〜１００℃で、
好ましくは５〜７０℃で行われ、該反応は通常５分間〜
１０時間程度で完結する。又、本反応の際に、必要に応
じて酸、塩基を加えるか、緩衝液等の混合溶媒中で行っ
てもよい。
般式（１）の化合物の０．２〜１０倍モル量使用すｉの
が好ましい。溶媒としては反応に関与しないものであれ
ば特に制限はなく、例えばジクロルメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、７セトン、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、メタノール、エタノール、エーテル、テトラハイ
ドロフラン、酢酸等の各種有機溶媒を単独或いは複数混
合して、又は、これら有機溶媒と水との混合溶媒等いず
れも使用できる。又、反応温度は一２０〜１００℃で、
好ましくは５〜７０℃で行われ、該反応は通常５分間〜
１０時間程度で完結する。又、本反応の際に、必要に応
じて酸、塩基を加えるか、緩衝液等の混合溶媒中で行っ
てもよい。
酸素酸化法並びに有機電解酸化法においては適当な溶媒
中、空気もしくは酸素を通気するか、通電することによ
り行われる。溶媒としては反応に関与しないものであれ
ば特に制限はな（、例えばジクロルメタン、クロロホル
ム、西ｔｎ化炭１１．．７セトン、ヘキサン、ベンゼン
、トルエン、メタノール、エタノール、エーテル、テト
ラハイドロ７ラン、酢酸等の各種有機７８媒を嘔独或い
は複数混合して、又は、これら有へ溶媒と水との混合溶
媒等いずれも使用できる。又、反応温度は−２０〜１０
（＋ ’（”で、好ましくは５〜７０′Ｃで打われ、
該反応１よ通；’ｉ？ Ｓ分１ｊｌｌ −１０時間程度
で完結する。一般にこれらの反応は触媒の存在■ζに効
率良く進行することが知られ′ζおＩ）、触媒の割合は
一般式（１）の化作物の＋ＸＨｊ−’〜１０倍モル量使
用するのが好ましい。触媒としては待に限定されないが
、例えば、コバルト、ロジウム、パラノウム、銅、セリ
ウム、ルテニウム等の金属らしくは金属塩、金属酸ｆヒ
物、金属錯体等の金属１ヒ会物等が挙げられる。又、本
反応の際に、必隻に応じて酸、塩基を加えるか、緩衝液
等のｉＷ会）８媒中で行ってもよい。
中、空気もしくは酸素を通気するか、通電することによ
り行われる。溶媒としては反応に関与しないものであれ
ば特に制限はな（、例えばジクロルメタン、クロロホル
ム、西ｔｎ化炭１１．．７セトン、ヘキサン、ベンゼン
、トルエン、メタノール、エタノール、エーテル、テト
ラハイドロ７ラン、酢酸等の各種有機７８媒を嘔独或い
は複数混合して、又は、これら有へ溶媒と水との混合溶
媒等いずれも使用できる。又、反応温度は−２０〜１０
（＋ ’（”で、好ましくは５〜７０′Ｃで打われ、
該反応１よ通；’ｉ？ Ｓ分１ｊｌｌ −１０時間程度
で完結する。一般にこれらの反応は触媒の存在■ζに効
率良く進行することが知られ′ζおＩ）、触媒の割合は
一般式（１）の化作物の＋ＸＨｊ−’〜１０倍モル量使
用するのが好ましい。触媒としては待に限定されないが
、例えば、コバルト、ロジウム、パラノウム、銅、セリ
ウム、ルテニウム等の金属らしくは金属塩、金属酸ｆヒ
物、金属錯体等の金属１ヒ会物等が挙げられる。又、本
反応の際に、必隻に応じて酸、塩基を加えるか、緩衝液
等のｉＷ会）８媒中で行ってもよい。
カベして得られｊこ本発明の化合物は通常公知の５１離
精製■・段、具体的には蒸留、再結晶、ンリカデル力う
ムクロ７Ｆグラフィー等により単離精製することができ
る。
精製■・段、具体的には蒸留、再結晶、ンリカデル力う
ムクロ７Ｆグラフィー等により単離精製することができ
る。
本発明の化合物を一般式（Ａ）で表わされる消炎鎮痛作
用を有する（３．４−ノアリールイソキサゾール−５−
イル）酢酸誘導体に誘導するには、ギｊ記製法により合
成しｒこ一般式（ＩＩ）で表わされるインキサゾール化
合物を単離し、又は単離せずにそのまま酸又は塩基の存
在下、加温ｖＬ分解又は加水５１解する二とにより達成
される。加溶媒分解又は加水分解は特開昭６０−７５４
７１号に記載の加温ｔ＆分解方法、又はち分野で慣用さ
れる加水分解方法によりなされる。酸としては塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸、塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基が一般的
に用いられる。
用を有する（３．４−ノアリールイソキサゾール−５−
イル）酢酸誘導体に誘導するには、ギｊ記製法により合
成しｒこ一般式（ＩＩ）で表わされるインキサゾール化
合物を単離し、又は単離せずにそのまま酸又は塩基の存
在下、加温ｖＬ分解又は加水５１解する二とにより達成
される。加溶媒分解又は加水分解は特開昭６０−７５４
７１号に記載の加温ｔ＆分解方法、又はち分野で慣用さ
れる加水分解方法によりなされる。酸としては塩酸、硫
酸、硝酸等の無機酸、塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基が一般的
に用いられる。
（実 施 例）
次に実施例及び参考例を挙げて本発明を具体的に説明す
る。
る。
参考例１
メチル ４ 、５−ビス（４−メトキシフェニル）−５
−オキソ−３−ペンテノエートの合成１、ｐ ｒ Ｌ−
ブタノール４３０艶ｌ中に、デオキシアニンイン１２８
６、カリウムｔ ｔｒ ｒ ｔ−ブトキシド６７．３ｇ
１及びメチル ３−ノＦキシアクリレート１１６ｇを加
ん、７０゛Ｃにて、３時間撹拌した。反応終了後、反応
７１５ Ａ物に１１−ヘキサンを加え、室温Ｖ：放装し
た。
−オキソ−３−ペンテノエートの合成１、ｐ ｒ Ｌ−
ブタノール４３０艶ｌ中に、デオキシアニンイン１２８
６、カリウムｔ ｔｒ ｒ ｔ−ブトキシド６７．３ｇ
１及びメチル ３−ノＦキシアクリレート１１６ｇを加
ん、７０゛Ｃにて、３時間撹拌した。反応終了後、反応
７１５ Ａ物に１１−ヘキサンを加え、室温Ｖ：放装し
た。
析出物を枦取し、ｍ酸エチル１００ＯＪと３Ｎ−硫酸：
１ＯＯｎ＋ｉ’を加えて溶解した後、有機層を分取し、
（ｊ磯層を３Ｎ−硫酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧上濃縮し、標記
化合物を油状物として１５３ｇ（収率９０％）を得た。
１ＯＯｎ＋ｉ’を加えて溶解した後、有機層を分取し、
（ｊ磯層を３Ｎ−硫酸、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧上濃縮し、標記
化合物を油状物として１５３ｇ（収率９０％）を得た。
、二の化合物はＮ Ｍ Ｒスペクトルから二重結合に括
づ＜ ５％性体（ＩＪｆｉ：４）の混合物であった。こ
の混合物は必要に応じてヘキサン−酢酸エチルから結晶
ｆヒを行う、：とにより、−力の異性体を白色結晶とし
て単離した。
づ＜ ５％性体（ＩＪｆｉ：４）の混合物であった。こ
の混合物は必要に応じてヘキサン−酢酸エチルから結晶
ｆヒを行う、：とにより、−力の異性体を白色結晶とし
て単離した。
融、−７，Ｉ Ｏ１〜 １０３°Ｃ
赤外吸収スペクトル （ＫＲｒ）
シーａｘ（ｃｏＡ−’ ） １７：’１２．１６４０
．１６０ＯＮ Ｎｑ Ｒスペクトル （ＣＩ’） Ｃ１
コ） δ（１Ｂ＋ｍ）３．３１（２１１，ｄ）、３．
７２（：（ｔｌ、 ｓ）、：１．８０（：（ＩＩ、 ｓ
）、：（，８５（Ｉｔｌ、Ｓ）、６．３７（ｌｔｌ、
ｔ）、６．９０（４Ｈ，ｄ）、７．２ｆｌ（２Ｈ，、Ｊ
）、７．８９（２１１，ｃｌ ）史にｍ液から上記化合
物の異性体である油状物を得た。
．１６０ＯＮ Ｎｑ Ｒスペクトル （ＣＩ’） Ｃ１
コ） δ（１Ｂ＋ｍ）３．３１（２１１，ｄ）、３．
７２（：（ｔｌ、 ｓ）、：１．８０（：（ＩＩ、 ｓ
）、：（，８５（Ｉｔｌ、Ｓ）、６．３７（ｌｔｌ、
ｔ）、６．９０（４Ｈ，ｄ）、７．２ｆｌ（２Ｈ，、Ｊ
）、７．８９（２１１，ｃｌ ）史にｍ液から上記化合
物の異性体である油状物を得た。
赤外吸収スペクトル （ＫＢｒ）
νｗａｘ（ｃｏＡ−’ ） １７：１２．１６６２．
１５９ＯＮＭＲスペクトル （ＣＤＣＬ） δ（ｐＨ
１ｌｌ）３．１５（２＋１． ｄ）、３．６５（３１１
，ｓ）、３．７７（３ｔｌ、 ｓ）、３、Ｆ１３（３Ｌ
ｓ）、６．３０（ｌｔｌ、 ｔ）、６．６〜７．１（
４１１，ｍ）、７．３０（２！＋、 、Ｊ）、７．９２
（２Ｈ，ｄ）参考例２ ４．５−ビス（４−７トキシフエニル）−５−オキソ−
３−ペンテンニトリルの合成 ３−７トキシアクリレートの代りに３−メトキシアクリ
ロニトリルを使用し、参考例１と同様に反応させること
により標記化合物である油状物を得た。
１５９ＯＮＭＲスペクトル （ＣＤＣＬ） δ（ｐＨ
１ｌｌ）３．１５（２＋１． ｄ）、３．６５（３１１
，ｓ）、３．７７（３ｔｌ、 ｓ）、３、Ｆ１３（３Ｌ
ｓ）、６．３０（ｌｔｌ、 ｔ）、６．６〜７．１（
４１１，ｍ）、７．３０（２！＋、 、Ｊ）、７．９２
（２Ｈ，ｄ）参考例２ ４．５−ビス（４−７トキシフエニル）−５−オキソ−
３−ペンテンニトリルの合成 ３−７トキシアクリレートの代りに３−メトキシアクリ
ロニトリルを使用し、参考例１と同様に反応させること
により標記化合物である油状物を得た。
赤外吸収スペクトル （ＮａＣ１）
ｖ ｗａｘ（ｃｍ−’ ） ２２５０．１６６０．１
６０ＯＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ２） δ（１１
１１１１）３．１７（２ｔｌ、ｄ ）、３．７８（３１
１，ｓ）、３．８５（３）１． ｓ）、６．０３（３１
１，ｔ）、８．７−７．０（４１１，＋ａ）、７．２７
（２＋１． ｄ）、７．９０（２＋１． ｔＪ） 参考例３ メチル ５−ヒドロキシイミ／−４，５−ビス（４メト
キシフェニル）−３−ペンテ／エートの合成 参考例１で得たメチル ４．５−ビス（４−メトキシフ
ェニル）−５−オキソ−３−ペンテ７エートの異性体混
作物２４．５＠及び塩酸ヒトａキシルアミン５１，５Ｈ
をメタノール６５０＋ｎ／、水７２ ｕ＋ １中、２：
１時間加熱還流した。この時、反応液に炭酸水素す）
＋７ウムＱ 、 ９ Ｗ５１ｕを反応の進行に合わせて
分；別して加えた。反応終了後、メタノールを減圧留去
した。
６０ＯＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ２） δ（１１
１１１１）３．１７（２ｔｌ、ｄ ）、３．７８（３１
１，ｓ）、３．８５（３）１． ｓ）、６．０３（３１
１，ｔ）、８．７−７．０（４１１，＋ａ）、７．２７
（２＋１． ｄ）、７．９０（２＋１． ｔＪ） 参考例３ メチル ５−ヒドロキシイミ／−４，５−ビス（４メト
キシフェニル）−３−ペンテ／エートの合成 参考例１で得たメチル ４．５−ビス（４−メトキシフ
ェニル）−５−オキソ−３−ペンテ７エートの異性体混
作物２４．５＠及び塩酸ヒトａキシルアミン５１，５Ｈ
をメタノール６５０＋ｎ／、水７２ ｕ＋ １中、２：
１時間加熱還流した。この時、反応液に炭酸水素す）
＋７ウムＱ 、 ９ Ｗ５１ｕを反応の進行に合わせて
分；別して加えた。反応終了後、メタノールを減圧留去
した。
残渣に水及び酢酸エチルを加えて溶解し、有機層を分取
し、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
した。有機層を減圧上濃縮し、残渣をシリカゾルカラム
クロマトグラフィー（展開）８媒、ｍ゛酸エチル−１１
−へキサン）にて分Ｒ精製し、標記化合物である油状物
２３ｇ（収率９０％）を得た。
し、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
した。有機層を減圧上濃縮し、残渣をシリカゾルカラム
クロマトグラフィー（展開）８媒、ｍ゛酸エチル−１１
−へキサン）にて分Ｒ精製し、標記化合物である油状物
２３ｇ（収率９０％）を得た。
赤外吸収スペクトル （Ｎ ａＣ１）
ν＋ｎａｘ（ｃＩＩ＋−’ ） ＋７３２．１６０８
Ｎ Ｍ Ｒスペクトル （ｃＤｃｐ３） δ（１月１
１１１）］、ｉ−３，２（２１１，ｍ）、３．６５（３
１１，ｓ）、：’１．７６（３１１，：；）、３．７７
（：Ｉｌｌ、 ！：）、６．４８（Ｉｌｌ、 ｔ）
、（ｉ、８１（４＋１． ｄ）、７．３５（２１１，Ｊ
）、７．５８（４Ｈ，ｄ）、８．７２（Ｉｌｌ、 １
ｚｓ）参考例４ ５−ヒドロキシイミノ−４，５−ビス（４−メトキシフ
ェニル）−３−ペンテンニトリルの合成メチル ４，５
−ビス（４−メトキシフェニル）−５−オキソ−３−ペ
ンテ７エートの代りに４，５ビス（４−メトキシフェニ
ル）−５−オキソ−３−ペンテンニトリルを使用し、参
考例３と同様に塩酸ヒドロキシルアミンと反応させるこ
とにより標記化合物である油状物を得た。
Ｎ Ｍ Ｒスペクトル （ｃＤｃｐ３） δ（１月１
１１１）］、ｉ−３，２（２１１，ｍ）、３．６５（３
１１，ｓ）、：’１．７６（３１１，：；）、３．７７
（：Ｉｌｌ、 ！：）、６．４８（Ｉｌｌ、 ｔ）
、（ｉ、８１（４＋１． ｄ）、７．３５（２１１，Ｊ
）、７．５８（４Ｈ，ｄ）、８．７２（Ｉｌｌ、 １
ｚｓ）参考例４ ５−ヒドロキシイミノ−４，５−ビス（４−メトキシフ
ェニル）−３−ペンテンニトリルの合成メチル ４，５
−ビス（４−メトキシフェニル）−５−オキソ−３−ペ
ンテ７エートの代りに４，５ビス（４−メトキシフェニ
ル）−５−オキソ−３−ペンテンニトリルを使用し、参
考例３と同様に塩酸ヒドロキシルアミンと反応させるこ
とにより標記化合物である油状物を得た。
赤外吸収スペクトル （Ｎ ａＣＩ）
ν鵠ａに（ｃｍ−’） ２２５２．１５９６ＮＭＲｘ
ベク）ル （ＣＩ）Ｃ／３） δ（ｐｕ＋）３．１２
、：１．＋５（２１１，ｄｄ）、３．７７（３１１，ｓ
）、３．７８＜３８． ｒ−、＞、６．１８（ＩＩＩ、
Ｌ）、６．８４（４Ｈ，ｄ）、７、：’１２（２１１
，ｄ）、７．５５（２１１，ｄ）、８．４６（１１１，
１，ｓ）実施例１ ５−メトキンカルボニルメチル−３，＝ｉヒス（，１−
／）キンフェニル）イソキサゾール（ｎ、）の３１＆メ
チル へ−ヒドロキシルミ／ ４ Ｔ ５−ビス（・
１− 、／ トキシフェニル）−３−ペンテ／エート
：（，７ｇを酢酸４０岬中、酢酸コバルト・１水和物０
．４ｔｒｆ在「、空気を通気させ６０℃にて２４時間加
８撹拌した。
ベク）ル （ＣＩ）Ｃ／３） δ（ｐｕ＋）３．１２
、：１．＋５（２１１，ｄｄ）、３．７７（３１１，ｓ
）、３．７８＜３８． ｒ−、＞、６．１８（ＩＩＩ、
Ｌ）、６．８４（４Ｈ，ｄ）、７、：’１２（２１１
，ｄ）、７．５５（２１１，ｄ）、８．４６（１１１，
１，ｓ）実施例１ ５−メトキンカルボニルメチル−３，＝ｉヒス（，１−
／）キンフェニル）イソキサゾール（ｎ、）の３１＆メ
チル へ−ヒドロキシルミ／ ４ Ｔ ５−ビス（・
１− 、／ トキシフェニル）−３−ペンテ／エート
：（，７ｇを酢酸４０岬中、酢酸コバルト・１水和物０
．４ｔｒｆ在「、空気を通気させ６０℃にて２４時間加
８撹拌した。
反応ｔＰｃ、３Ｎ−硫酸を加えて酢酸エチルにて抽出後
、有機層を飽和炭酸カリウム溶液、飽和食塩水にて順次
洗浄し、無水硫酸マグネジ・７ムにて乾燥した。（１機
７Ｍを減圧上濃縮し、残渣をシリカゾルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒、酢酸エチル−１１−へキサン）
にて分離精製し、標記化合物である白色固体３．１．（
収率９０％）を得た。
、有機層を飽和炭酸カリウム溶液、飽和食塩水にて順次
洗浄し、無水硫酸マグネジ・７ムにて乾燥した。（１機
７Ｍを減圧上濃縮し、残渣をシリカゾルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒、酢酸エチル−１１−へキサン）
にて分離精製し、標記化合物である白色固体３．１．（
収率９０％）を得た。
融、−，ξＧ’７−６８℃
赤外吸収スペクトル （ＫＢｒ）
ν＋ａａｘ（ｃＩ６−’） １７１ＯＮ Ｍ Ｒスペ
クトル （ＣＩ’）（１’、） 、δ（ｌｌｌｌＩｌ
）１．７１（：ＩＩｌ、 ９）、：１．７７（２１１，
ｓ）、３．７９（３１１−ｓ）、７Ｊ２（：Ｉｌｌ、−
ｉ）、６．８：１（２Ｈ，ｄ）、６．９０（２１１，ｄ
）、７．１５（２１１，Ｊ）、７．４０（２１１，Ｊ）
Ｍａ・１ｓスペクトル Ｍ”（ｍ／）） ３５：１ 実施例２ ５−シア／メチル−３，４−ビス（４−メトキシフェニ
ル）イソキサゾール（Ｉｌｂ）の合成メチル ５−ヒド
ロキシイミノ−４，５−ビス（４−メトキシフェニル）
−３−ペンテノエートの代りに５−ヒドロキシイミノ−
４，５−ビス（４−メトキシフェニル）−３−ベンテン
ニトリルヲ（ｆｆｉ 用Ｌ、実施例１と同様にして標記
化合物である白色固体（収率８０％）を得た。
クトル （ＣＩ’）（１’、） 、δ（ｌｌｌｌＩｌ
）１．７１（：ＩＩｌ、 ９）、：１．７７（２１１，
ｓ）、３．７９（３１１−ｓ）、７Ｊ２（：Ｉｌｌ、−
ｉ）、６．８：１（２Ｈ，ｄ）、６．９０（２１１，ｄ
）、７．１５（２１１，Ｊ）、７．４０（２１１，Ｊ）
Ｍａ・１ｓスペクトル Ｍ”（ｍ／）） ３５：１ 実施例２ ５−シア／メチル−３，４−ビス（４−メトキシフェニ
ル）イソキサゾール（Ｉｌｂ）の合成メチル ５−ヒド
ロキシイミノ−４，５−ビス（４−メトキシフェニル）
−３−ペンテノエートの代りに５−ヒドロキシイミノ−
４，５−ビス（４−メトキシフェニル）−３−ベンテン
ニトリルヲ（ｆｆｉ 用Ｌ、実施例１と同様にして標記
化合物である白色固体（収率８０％）を得た。
融点１０３〜１０４℃
赤外吸収スペクトル （Ｋｎｒ）
１７ ｗａｘ（Ｃｉｍ−’ ） ２２６４Ｎ Ｍ Ｒ
スペクトル （ＣＯＣｌコ） δ（ｌｌｌｌ論）３．８
０（３１１，Ｓ）、３．８３（２１１，９）、３．８５
（３Ｈ，ｓ）、６．８〜７．５（８１１，鰺） Ｍａｓｓスペクトル Ｍ”（鋤／ｚ）３２０ 上記実施例１で得た５−メトキシカルボニルメナルー′
３．４−ビス（４−メトキシフェニル）インキサゾール
Ｎ１ｄ）１．７７ｇを２％水酸化ナトリウム水溶液１５
ｎ＋ １中に加え、４０℃にて一夜撹拌した。反応終
了後、反応液をエーテルにて２回洗浄し、次いて・水冷
下、１０％塩酸 ５１ａ１を加え、酢酸エチルにて抽出
し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥した。有機層を減圧Ｆ濃縮し、白色固体（融点１４７
〜１４８°Ｃ）である３、４−ビス（４−７トキシフエ
ニル）−イソキサゾール−５−Ｉ’ｌｌ−酸を得ｊこ８ 実施例！（ ｎ −／ ） Ｎンカルポニルメチル−３，４−ビス（
４−メトキシフェニル）インキサゾール（Ｉｌａ）の合
成メチル へ−ヒドロキシイミ／−４，５−ビス（４メ
トキシフエニル）−３−ペンテノエート１．７５６ （
’、ｒ ＋ａＩ＠ｏ ｌ ）をノクロルメタン８．５＋
ａ／と酢酸 ４ｎｆ’に溶解し、室温下、過マンガン酸
カリウム０．７９．を徐々に加え、４時間撹拌した。反
応終了後、過酸化水素水を反応液が透明になるまで加え
ｒこ。ノクロルメタンｌ Ｏ＋ｎ １で希釈後、水、炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−１１へキ
サン）にて分離精製し、標記化合物である白色固体＋０
．２．（収率６０％）を得た。
スペクトル （ＣＯＣｌコ） δ（ｌｌｌｌ論）３．８
０（３１１，Ｓ）、３．８３（２１１，９）、３．８５
（３Ｈ，ｓ）、６．８〜７．５（８１１，鰺） Ｍａｓｓスペクトル Ｍ”（鋤／ｚ）３２０ 上記実施例１で得た５−メトキシカルボニルメナルー′
３．４−ビス（４−メトキシフェニル）インキサゾール
Ｎ１ｄ）１．７７ｇを２％水酸化ナトリウム水溶液１５
ｎ＋ １中に加え、４０℃にて一夜撹拌した。反応終
了後、反応液をエーテルにて２回洗浄し、次いて・水冷
下、１０％塩酸 ５１ａ１を加え、酢酸エチルにて抽出
し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥した。有機層を減圧Ｆ濃縮し、白色固体（融点１４７
〜１４８°Ｃ）である３、４−ビス（４−７トキシフエ
ニル）−イソキサゾール−５−Ｉ’ｌｌ−酸を得ｊこ８ 実施例！（ ｎ −／ ） Ｎンカルポニルメチル−３，４−ビス（
４−メトキシフェニル）インキサゾール（Ｉｌａ）の合
成メチル へ−ヒドロキシイミ／−４，５−ビス（４メ
トキシフエニル）−３−ペンテノエート１．７５６ （
’、ｒ ＋ａＩ＠ｏ ｌ ）をノクロルメタン８．５＋
ａ／と酢酸 ４ｎｆ’に溶解し、室温下、過マンガン酸
カリウム０．７９．を徐々に加え、４時間撹拌した。反
応終了後、過酸化水素水を反応液が透明になるまで加え
ｒこ。ノクロルメタンｌ Ｏ＋ｎ １で希釈後、水、炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−１１へキ
サン）にて分離精製し、標記化合物である白色固体＋０
．２．（収率６０％）を得た。
このものの融点、赤外＠収スペクトル、Ｎ Ｍ ｎスペ
クトルは実施例１で得た化合物と一致した。
クトルは実施例１で得た化合物と一致した。
（発明の効果）
本発明によれば、次の如き優れた効果が奏される。
（１）目的とする一般式（ｎ）のイソキサゾール誘導体
を高純度且つ高収率で製造できる。
を高純度且つ高収率で製造できる。
（２）危険な試薬であるシアン化合物を使用しないので
安全性の面からも好ましい。
安全性の面からも好ましい。
（３）繰作性及び作業効率上問題がないのて゛、スケー
ルアップするのも容易で工業的に有利である。
ルアップするのも容易で工業的に有利である。
（４）従来法よりも短工程で且つ入手しやすい試薬で製
造できるので、経済的にも有利である。
造できるので、経済的にも有利である。
（以 上）
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は同一又は相異なって、水素
原子、低級アルコキシ基、Ｒ＾３はシアノ基又はアルコ
キシカルボニル基を示す。）で表わされるａ，β−不飽
和ケトオキシム誘導体を酸化することを特徴とする一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は前記に同じ）で表
わされるイソキサゾール誘導体の製造方法。
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014239A JP2796749B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | イソキサゾール誘導体の製造方法 |
| DE69112297T DE69112297T2 (de) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Verfahren zur herstellung eines isoxazolderivats. |
| KR1019910701137A KR940008746B1 (ko) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | 이소옥사졸 유도체의 제조방법 |
| CA002050345A CA2050345C (en) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Process for producing isoxazole derivatives |
| DK91902739.1T DK0464218T3 (da) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Fremgangsmåde til fremstilling af asoxazolderivat |
| AU70577/91A AU623306B2 (en) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Process for producing isoxazole derivative |
| PCT/JP1991/000064 WO1991011443A1 (en) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Process for producing isoxazole derivative |
| AT91902739T ATE126791T1 (de) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Verfahren zur herstellung eines isoxazolderivats. |
| EP91902739A EP0464218B1 (en) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Process for producing isoxazole derivative |
| ES91902739T ES2080295T3 (es) | 1990-01-24 | 1991-01-22 | Procedimiento para producir derivados de isoxazol. |
| US08/121,557 US5310926A (en) | 1990-01-24 | 1993-09-16 | Process for producing isoxazole derivatives |
| GR950403206T GR3018088T3 (en) | 1990-01-24 | 1995-11-15 | Process for producing isoxazole derivative. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014239A JP2796749B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | イソキサゾール誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03220181A true JPH03220181A (ja) | 1991-09-27 |
| JP2796749B2 JP2796749B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=11855534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014239A Expired - Lifetime JP2796749B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | イソキサゾール誘導体の製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0464218B1 (ja) |
| JP (1) | JP2796749B2 (ja) |
| KR (1) | KR940008746B1 (ja) |
| AT (1) | ATE126791T1 (ja) |
| AU (1) | AU623306B2 (ja) |
| CA (1) | CA2050345C (ja) |
| DE (1) | DE69112297T2 (ja) |
| DK (1) | DK0464218T3 (ja) |
| ES (1) | ES2080295T3 (ja) |
| GR (1) | GR3018088T3 (ja) |
| WO (1) | WO1991011443A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0633254A1 (en) * | 1991-05-01 | 1995-01-11 | Taiho Pharmaceutical Co., Ltd. | Novel isoxazole derivative and salt thereof |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1128526A (en) * | 1979-10-05 | 1982-07-27 | Cdc Life Sciences Inc. | 3,4-diarylisoxazol-5-acetic acids |
| JPS6075471A (ja) * | 1983-10-03 | 1985-04-27 | Sankyo Kasei Kogyo Kk | ３，４−ジフエニルイソオキサゾ−ル−５−酢酸類の製造方法 |
| JPH0675471A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Canon Inc | 現像装置及びそれを用いたプロセスカートリッジ |
-
1990
- 1990-01-24 JP JP2014239A patent/JP2796749B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-22 DE DE69112297T patent/DE69112297T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-22 CA CA002050345A patent/CA2050345C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-22 KR KR1019910701137A patent/KR940008746B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-22 AU AU70577/91A patent/AU623306B2/en not_active Ceased
- 1991-01-22 ES ES91902739T patent/ES2080295T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-22 EP EP91902739A patent/EP0464218B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-22 WO PCT/JP1991/000064 patent/WO1991011443A1/ja not_active Ceased
- 1991-01-22 DK DK91902739.1T patent/DK0464218T3/da active
- 1991-01-22 AT AT91902739T patent/ATE126791T1/de active
-
1995
- 1995-11-15 GR GR950403206T patent/GR3018088T3/el unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2796749B2 (ja) | 1998-09-10 |
| ES2080295T3 (es) | 1996-02-01 |
| DE69112297T2 (de) | 1996-01-25 |
| DK0464218T3 (da) | 1995-09-25 |
| CA2050345A1 (en) | 1991-07-25 |
| ATE126791T1 (de) | 1995-09-15 |
| EP0464218A4 (en) | 1992-06-17 |
| DE69112297D1 (de) | 1995-09-28 |
| AU623306B2 (en) | 1992-05-07 |
| WO1991011443A1 (en) | 1991-08-08 |
| GR3018088T3 (en) | 1996-02-29 |
| AU7057791A (en) | 1991-08-21 |
| KR940008746B1 (ko) | 1994-09-26 |
| EP0464218B1 (en) | 1995-08-23 |
| KR920701175A (ko) | 1992-08-11 |
| EP0464218A1 (en) | 1992-01-08 |
| CA2050345C (en) | 1996-05-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03109384A (ja) | （Ｓ）―４―ヒドロキシメチル―γ―ラクトンの製造方法 | |
| JPH0489464A (ja) | メトキシイミノアセトアミド化合物の製造法 | |
| JPH03220180A (ja) | イソキサゾリン誘導体 | |
| JPH03220181A (ja) | イソキサゾール誘導体の製造方法 | |
| US5310926A (en) | Process for producing isoxazole derivatives | |
| JP2523026B2 (ja) | α，β―不飽和ケトン及びケトオキシム誘導体 | |
| US6143900A (en) | Stereoselective synthesis of oxazoline derivative | |
| JPH02255673A (ja) | ４―アリールオキシー１，３―ベンゾジオキソール類およびその製造方法 | |
| JPH04316531A (ja) | シクロヘキサノン誘導体 | |
| JP3360867B2 (ja) | ビフェニル−４−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
| JPS5931497B2 (ja) | ２−ヒドロキシ−３−メチル−３−（６−メトキシ−２−ナフチル）アクリロニトリル化合物およびその製造法 | |
| JP2893906B2 (ja) | 不飽和ケトン化合物の製造方法 | |
| JPS61246176A (ja) | アミノラクトンの調製方法 | |
| JPS6118734A (ja) | リグナン類の製造方法 | |
| CN119192028A (zh) | 一种dippn的合成方法 | |
| JP4973210B2 (ja) | 新規合成方法 | |
| JPH07252183A (ja) | フェノール誘導体の製造方法 | |
| JPS58154555A (ja) | α−ケトカルボチオ酸Ｓ−メチルの製造法，および中間体 | |
| WO1999003827A1 (en) | NOVEL PROCESS FOR PRODUCING DIBENZO[b,f]THIEPINE DERIVATIVES | |
| JPS62223157A (ja) | ニトロン類の製造方法 | |
| JPS63258877A (ja) | チオフエン誘導体の製造法 | |
| JPH1087640A (ja) | Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体の製造中間体 | |
| JPH04243855A (ja) | フッ素含有化合物 | |
| JP2002326979A (ja) | ニトロベンゼンカルボン酸アミド化合物、その製造方法、および５−ニトロ−１−テトラロン化合物の製造方法 | |
| JPH04211646A (ja) | キノン誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100703 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100703 Year of fee payment: 12 |