JPH0325952A - バイポーラcmos混在型半導体集積回路 - Google Patents
バイポーラcmos混在型半導体集積回路Info
- Publication number
- JPH0325952A JPH0325952A JP1161454A JP16145489A JPH0325952A JP H0325952 A JPH0325952 A JP H0325952A JP 1161454 A JP1161454 A JP 1161454A JP 16145489 A JP16145489 A JP 16145489A JP H0325952 A JPH0325952 A JP H0325952A
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- JP
- Japan
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- cmos
- level
- bipolar
- region
- circuit
- Prior art date
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はバイポーラCMOS混在型半導体集積回路に関
し、特にバイポーラトランジスタとCMOS}ランジス
タが同一チップ上に混在するバイポーラCMOS混在型
半導体集積回路に関する。
し、特にバイポーラトランジスタとCMOS}ランジス
タが同一チップ上に混在するバイポーラCMOS混在型
半導体集積回路に関する。
従来、かかるバイポーラCMOS混在型半導体a積回路
(以下、B i CMOS−I C):−称す)は、微
少で高精度な信号をバイポーラリニア回路で処理し、且
つディジタル信号をCMOS回路で処理しており、IC
チップ上ではバイポーラ部とCMOS部とが明確に区分
されて配置されるのが通例である。
(以下、B i CMOS−I C):−称す)は、微
少で高精度な信号をバイポーラリニア回路で処理し、且
つディジタル信号をCMOS回路で処理しており、IC
チップ上ではバイポーラ部とCMOS部とが明確に区分
されて配置されるのが通例である。
しかも、この種のICにおけるバイポーラ部とCMOS
部との相互接続は直接行われている。すなわち、所定の
CMOS回路の出カ信号により所定のバイポーラリニア
回路に対する切換等の制御を行う場合、これら二つの回
路は直接接続され、バイポーラリニア回路はCMOSレ
ベル〈例えば、O−5V)の信号を直接受信している。
部との相互接続は直接行われている。すなわち、所定の
CMOS回路の出カ信号により所定のバイポーラリニア
回路に対する切換等の制御を行う場合、これら二つの回
路は直接接続され、バイポーラリニア回路はCMOSレ
ベル〈例えば、O−5V)の信号を直接受信している。
また、バイポーラ回路のアナログ信号を二値変換してデ
ィジタルCMOS回路にディジタル信号として供給する
場合、個々のアナログ回路内にてCMOSレベルに変換
し、その変換したディジタル信号を直接CMOS回路に
送出している。
ィジタルCMOS回路にディジタル信号として供給する
場合、個々のアナログ回路内にてCMOSレベルに変換
し、その変換したディジタル信号を直接CMOS回路に
送出している。
上述した従来のBiCMOS−ICは、バイポーラリニ
ア回路の内部をCMOSレベルの信号ののった多数の配
線が通ることになる.しかるに、ICチップ上の配線は
通常多層配線が用いられ、配線との交差を可能にし設計
の自由度を拡大している。また、その交差する部分の各
配線の間は眉間絶縁膜を誘電体とする容量で結合されて
いる,従って、CMOSレベルのディジタル信号は振幅
が電源電圧程度であり、且つその立上りおよび立下りが
急峻であるので、前記容量によって結合された他の層の
配線にCMOSレベル信号の微分波形電流がリークして
しまう.通常、アナログ回路では、CMOSレベルに比
べてはるかに微少な信号が扱われているため、アナログ
回路に対して上述の様なディジタル信号からのリークが
あると、IC全体の動作に重大な影響をおよぼすという
欠点がある。また、かかるリークを防止するために多層
配線の交差を避けることは、集積回路設計に大きな制約
を与えるという欠点がある.本発明の目的は、かかるデ
ィジタル回路からアナログ回路への信号干渉を皆無にす
るとともに、設計効率を向上させることのできるバイポ
ーラCMOS混在型半導体集積回路を提供することにあ
る。
ア回路の内部をCMOSレベルの信号ののった多数の配
線が通ることになる.しかるに、ICチップ上の配線は
通常多層配線が用いられ、配線との交差を可能にし設計
の自由度を拡大している。また、その交差する部分の各
配線の間は眉間絶縁膜を誘電体とする容量で結合されて
いる,従って、CMOSレベルのディジタル信号は振幅
が電源電圧程度であり、且つその立上りおよび立下りが
急峻であるので、前記容量によって結合された他の層の
配線にCMOSレベル信号の微分波形電流がリークして
しまう.通常、アナログ回路では、CMOSレベルに比
べてはるかに微少な信号が扱われているため、アナログ
回路に対して上述の様なディジタル信号からのリークが
あると、IC全体の動作に重大な影響をおよぼすという
欠点がある。また、かかるリークを防止するために多層
配線の交差を避けることは、集積回路設計に大きな制約
を与えるという欠点がある.本発明の目的は、かかるデ
ィジタル回路からアナログ回路への信号干渉を皆無にす
るとともに、設計効率を向上させることのできるバイポ
ーラCMOS混在型半導体集積回路を提供することにあ
る。
本発明のBiCMOS−ICは、アナログ回路をバイポ
ーラトランジスタで形成した同一チップ上にディジタル
回路をCMOS}ランジスタで形成するバイポーラCM
OS混在型半導体集積回路において、バイポーラ領域と
CMOS領域の境界領域にECL−CMOS間の入出力
レベルを変換するレベル変換器を配置し、前記アナログ
回路および前記ディジタル回路の相互接続を前記レベル
変換器を介して行うように構或される。
ーラトランジスタで形成した同一チップ上にディジタル
回路をCMOS}ランジスタで形成するバイポーラCM
OS混在型半導体集積回路において、バイポーラ領域と
CMOS領域の境界領域にECL−CMOS間の入出力
レベルを変換するレベル変換器を配置し、前記アナログ
回路および前記ディジタル回路の相互接続を前記レベル
変換器を介して行うように構或される。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例を示すBiCMOS−ICの
回路配置図である。
回路配置図である。
第1図に示すように、本実施例はICチップ1上にボン
ディングバッド2と、CMOS領域3と、レベル変換器
領域4と、バイポーラ領域5とを有し、相互の回路はバ
イポーラCMOS間接続配線6および7により接続され
ている。レベル変換器領域4には、CMOSからECL
へ、およびECLからCMOSへの双方向のレベル変換
器が含まれ、前述したバイポーラ領域5とCMOS領域
3の接続は各レベル変換器を介して行われる。
ディングバッド2と、CMOS領域3と、レベル変換器
領域4と、バイポーラ領域5とを有し、相互の回路はバ
イポーラCMOS間接続配線6および7により接続され
ている。レベル変換器領域4には、CMOSからECL
へ、およびECLからCMOSへの双方向のレベル変換
器が含まれ、前述したバイポーラ領域5とCMOS領域
3の接続は各レベル変換器を介して行われる。
従って、バイポーラ領域5内には、CMOSレベルの信
号ラインは存在しなくなる。
号ラインは存在しなくなる。
第2図(a).(b)はそれぞれ第1図におけるレベル
変換器の一例を示すCMOSレベルからのECLレベル
へのレベル変換器の回路図とECLレベルからCMOS
レベルへの変換器の回路図である。
変換器の一例を示すCMOSレベルからのECLレベル
へのレベル変換器の回路図とECLレベルからCMOS
レベルへの変換器の回路図である。
第2図(a)に示すように、このレベル変換器は、CM
OSレベルに入力端I1〜I4と基準電圧人力REFに
接続されたバッファアンブ8と抵抗R,〜R&とECL
レベル出力端0.〜04とを有している。例えば、電源
電圧が5■のとき、CMOSレベルには5Vp−pも必
要となるが、ECLレベルは約300mVp−pで充分
である。
OSレベルに入力端I1〜I4と基準電圧人力REFに
接続されたバッファアンブ8と抵抗R,〜R&とECL
レベル出力端0.〜04とを有している。例えば、電源
電圧が5■のとき、CMOSレベルには5Vp−pも必
要となるが、ECLレベルは約300mVp−pで充分
である。
従って、R2 / (Rl +R2 ) =0 . 3
/ 5 . 0に設定し且つR3〜88も同様に設定す
れば、適当なECLレベルに変換される。
/ 5 . 0に設定し且つR3〜88も同様に設定す
れば、適当なECLレベルに変換される。
また、第2図(b)に示すように、このレベル変換器は
、前述したように、ECLレベルからCMOSレベルへ
の変換器であり、ECL入力端I,,I6に微少差電圧
が印加されると、CMOSレベル出力端07までの電圧
利得が大きいため、出力はほぼ電源電圧VCC又は接地
電圧GNDのCMOSレベルが得られる。尚、Q1〜Q
8はバイポーラトランジスタであり、R9は低電流源と
なる抵抗である。
、前述したように、ECLレベルからCMOSレベルへ
の変換器であり、ECL入力端I,,I6に微少差電圧
が印加されると、CMOSレベル出力端07までの電圧
利得が大きいため、出力はほぼ電源電圧VCC又は接地
電圧GNDのCMOSレベルが得られる。尚、Q1〜Q
8はバイポーラトランジスタであり、R9は低電流源と
なる抵抗である。
これら第2図(a),(b)に示す両レベル変換器を第
1図に示すレベル変換領域4に配置することにより、ア
ナログ信号を扱うバイポーラ領域5内のディジタル信号
振幅が全て0〜3Vp−p程度のECLレベルに低減さ
れ、大振幅のCMOSレベルディジタル信号は一掃され
る。これによって、ディジタル信号ラインからアナログ
信号ラインへの微分波形電流は無視出来る程度のレベル
となり得る。
1図に示すレベル変換領域4に配置することにより、ア
ナログ信号を扱うバイポーラ領域5内のディジタル信号
振幅が全て0〜3Vp−p程度のECLレベルに低減さ
れ、大振幅のCMOSレベルディジタル信号は一掃され
る。これによって、ディジタル信号ラインからアナログ
信号ラインへの微分波形電流は無視出来る程度のレベル
となり得る。
以上説明したように、本発明のBiCMOS−ICは、
バイポーラ領域とCMOS領域の境界領域にレベル変換
器を配置することにより、バイポーラ領域内のCMOS
レベル配線を一掃したので、ディジタル回路からアナロ
グ回路への信号干渉を皆無にすることが出来るという効
果があり、また設計時においても信号干渉に対する配慮
が不要となるので、設計効率を向上させることができる
という効果がある, 第l図は本発明の一実施例を示すB i CMOS−I
Cの回路配置図、第2図(a),(1:+)はそれぞれ
第1図におけるレベル変換器の一例を示すCMOS−E
CLレベル変換器の回路図とE C L−CMOSレベ
ル変換器の回路図である。
バイポーラ領域とCMOS領域の境界領域にレベル変換
器を配置することにより、バイポーラ領域内のCMOS
レベル配線を一掃したので、ディジタル回路からアナロ
グ回路への信号干渉を皆無にすることが出来るという効
果があり、また設計時においても信号干渉に対する配慮
が不要となるので、設計効率を向上させることができる
という効果がある, 第l図は本発明の一実施例を示すB i CMOS−I
Cの回路配置図、第2図(a),(1:+)はそれぞれ
第1図におけるレベル変換器の一例を示すCMOS−E
CLレベル変換器の回路図とE C L−CMOSレベ
ル変換器の回路図である。
1・・・ICチップ、2・・・ボンディングパッド、3
・・・CMOS領域、4・・・レベル変換領域、5・・
・バイポーラ領域、6.7・・・バイポーラCMOS接
続配線、8・・・バッファアンプ、■1〜I4・・・C
MOSレベル入力端、01〜04・・・ECLレベル出
力端、I5,I6・・・ECLレベル入力端、0フ・・
・CMOSレベル出力端。
・・・CMOS領域、4・・・レベル変換領域、5・・
・バイポーラ領域、6.7・・・バイポーラCMOS接
続配線、8・・・バッファアンプ、■1〜I4・・・C
MOSレベル入力端、01〜04・・・ECLレベル出
力端、I5,I6・・・ECLレベル入力端、0フ・・
・CMOSレベル出力端。
Claims (1)
- アナログ回路をバイポーラトランジスタで形成した同一
チップ上にディジタル回路をCMOSトランジスタで形
成するバイポーラCMOS混在型半導体集積回路におい
て、バイポーラ領域とCMOS領域の境界領域にECL
−CMOS間の入出力レベルを変換するレベル変換器を
配置し、前記アナログ回路および前記ディジタル回路の
相互接続を前記レベル変換器を介して行うことを特徴と
するバイポーラCMOS混在型半導体集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1161454A JPH0325952A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | バイポーラcmos混在型半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1161454A JPH0325952A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | バイポーラcmos混在型半導体集積回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0325952A true JPH0325952A (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15735413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1161454A Pending JPH0325952A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | バイポーラcmos混在型半導体集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0325952A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8365122B2 (en) | 2007-04-30 | 2013-01-29 | Innovations Holdings, L.L.C. | Method and apparatus for configurable systems |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6432647A (en) * | 1987-07-29 | 1989-02-02 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP1161454A patent/JPH0325952A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6432647A (en) * | 1987-07-29 | 1989-02-02 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8365122B2 (en) | 2007-04-30 | 2013-01-29 | Innovations Holdings, L.L.C. | Method and apparatus for configurable systems |
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