JPH03260652A - アルカリ現像型感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、アルカリ現像型感光性樹脂組成物に関し、詳
しくは、プリント配線板上に該アルカリ現像型感光性樹
脂組成物よりなる被膜を形成させると、露光後アルカリ
現像が可能であり、Ｎ光硬化部はソルダーレジスト及び
無電解めっきレジストとして、さらには、永久保護マス
クとしても好適に使用できるアルカリ現像型感光性樹脂
組成物に関するものである。

（従来の技術） 近年、ＩＣ，ＬＳＩの高集積度化が進む中で。

これらを搭載するプリント配線板も益々高密度化してお
り、配線間隔を狭めたり、フラットプラスチックパッケ
ージ（ＰＰＰ）のようなＬＳＩ部品を基板の表面に実装
する表面実装方式が採用されたりしている。

ところで、プリント配線板上にソルダーレジストを形成
する際には、熱硬化タイプのレジストインキをスクリー
ン印刷法により印刷し、転写部を熱硬化させて得ていた
。しかし、この方法では高密度化の要求に対応しきれな
くなっているのが実情であり、写真法の原理を利用して
ソルダーレジストを得る方法が開発され、それに伴って
フォトレジストインキの開発が検討されている。フォト
レジストインキにおいても作業環境、処理コストの面で
、有機溶剤で現像するタイプのものに代って、炭酸ソー
ダ水溶液のような弱アルカリ水溶液で現像可能なものが
提案されている。

例えば、特開昭６１−２４３．８６９号公報及び特開昭
６３−２７８．０５２号公報には、ノボラック型もしく
はビスフェノールＡ型エポキシ樹脂骨格を有する樹脂成
分を含み１弱アルカリ水溶液で現像が可能であり、耐熱
性、耐薬品性等に優れた保護マスクが得られるという感
光性被膜組成物が開示されている。

また特開昭６２−１５８．７１０号公報、特開昭６２　
２８５゜９０３号公報及び特開昭６３−ＩＬ　９３０号
公報には無水マレイン酸とスチレンとの共重合体にヒド
ロキシアルキレン（メタ）アクリレートを開環付加した
ものをベースポリマーとするアルカリ現像タイプの樹脂
組成物が開示されている。

（発明が解決しようとする課題） しかし、これらの感光性樹脂組成物を用いて。

写真法によりソルダーレジストを形成させた場合には、
はんだ耐熱性、無電解金めっき耐性、耐酸性さらには耐
アルカリ性が十分でなく、プリント配線板の永久保護マ
スクとして使用するには満足できる性能のものが得られ
ないという問題を有していた。

そこで９本発明の課題は、このような問題のないアルカ
リ現像型感光性樹脂組成物を提供することにある。すな
わち、■光に対する感度が良好で短い露光時間で容易に
光硬化する。■炭酸ナトリウム等のような弱アルカリ水
溶液で容易に現像することができる。■光によって硬化
するばかりでなく熱によっても硬化する。■光と熱で硬
化した被膜ははんだ耐熱性、無電解金めっき耐性、耐酸
性、さらには耐水性に優れているような被膜を形成性す
るアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。

（課題を解決するための手段） 本発胡者らは、このような課題を解決するために鋭意検
討の結果、カルボキシル基とエチレン性不飽和基とを側
鎖に有する特定の光重合性化合物をエポキシ化合物と共
に用いると、前記課題を達成できることを見い出し本発
明に到達した。

すなわち１本発明の要旨は次の通りである。

下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分からなり、　（Ａ）
成分１００重量部に対する（Ｂ）成分の割合が５〜１０
０重量部であり、（Ｃ）成分の割合が０．１〜３０重量
部であるアルカリ現像型感光性樹脂組成物。

（Ａ）成分二ノボラック型樹脂のフェノール性水酸基に
グリシジル（メタ）アクリレートを反応させ、この生成
物に多塩基酸無水物を反応させて得られる光重合性不飽
和化合物。

（Ｂ）成分：エポキシ基を少なくとも一個有する化合物
。

（Ｃ）成分：光重合開始剤もしくは増感剤。

以下９本発明の詳細な説明する。

まず９本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物を構成
する各成分について述べる。

（Ａ）成分において、ノボラック型樹脂のフェノール性
水酸基にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させ、
この生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られる光重
合性不飽和化合物におけるノボラック型樹脂とは、下記
一般式［Ｉ］（ただし、一般式〔■〕においてＲ、、Ｒ
２及びＲ３は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基及び
ハロゲン原子からなり群から選ばれる基であり、ｎは２
〜３０の整数を表す。） で表される化合物である。

（Ａ）成分である光重合性不飽和化合物は９例えば１次
のようにして製造することができる。すなわち、ノボラ
ック型樹脂をセロソルブアセテート等のエチレンオキサ
イド系の溶剤に溶解し、これにグリシジル（メタ）アク
リレートと少量の反応触媒及び重合禁止剤を添加し、７
０〜１２０℃で２〜８時間反応させる。この反応生成物
に多塩基酸無水物を添加して７０〜１２０℃で２〜４時
間反応させて目的とする化合物を得る。

このような工程で（Ａ）成分を製造すると、（Ａ）成分
製造における全体的な工程が短縮されるばかりでなく、
グリシジル基に由来して残存する（Ａ）成分中の塩素の
留分が少なくなり、最終的に得られる塗膜の特性（耐劣
化性や絶縁抵抗等）が向上する。

この際、これらの原料はノボラック型樹脂のフェノール
性水酸基１当量に対して、グリシジル（メタ）アクリレ
ート及び多塩基酸無水物を０．１〜１．１当量、好まし
くは０．５〜１．０当量の範囲で反応させることが好ま
しい。この値が１．１を超えるとエポキシ基が過剰とな
り９反応生成物が不安定になるので好ましくない。この
値が０．１未満では塗膜密着性や感光性が不十分になる
ばかりか１弱アルカリ水溶液に対する溶解性が低下する
ので好ましくない。

（Ａ）成分をを構成するノボラック型樹脂の具体例とし
てはフェノールノボラック樹脂、Ｏ−クレゾールノボラ
ック樹脂９ｍ−タレゾールノボラック樹脂、ｐ−タレゾ
ールノボラック樹脂、ｐ−エチルフェノールノボラック
樹脂、０−イソプロピルフェノールノボラック樹脂９ｍ
−イソプロピルフェノールノボラック樹脂、ｐ−イソプ
ロピルフェノールノボラック樹脂、　　ｏ　−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノールノボラック樹脂、ｍ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノールノボラック樹脂、　　ｐ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノールノボラック樹脂、３．５−キシレノール
ノボラック樹脂、ブロムフェノールノボラック樹脂等が
挙げられ、これらの中で、フェノールノボラック樹脂、
０−タレゾールノボラック樹脂９ｍ−タレゾールノボラ
ック樹脂、ｐ−タレゾールノボラック樹脂が好ましい。

なお、これらのノボラック樹脂は２種以上を混合して使
用することもできる。

また、　（Ａ）成分を構成する多塩基酸無水物としては
、無水マレイン酸、無水こはく酸、無水グルタル酸、無
水アジピン酸、テトラプロペニルこはく酸無水物、無水
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸無水物、３−メチルへ
キサヒドロフタル酸無水物、４−メチルへキサヒドロフ
タル酸無水物。

３−エチルへキサヒドロフタル酸無水物、４−エチルへ
キサヒドロフタル酸無水物、３−プロピルへキサヒドロ
フタル酸無水物、３−イソプロピルへキサヒドロフタル
酸無水物、４−プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、
４−イソプロピルへキサヒドロフタル酸無水物、３−メ
チルテトラヒドロフタル酸無水物、４−メチルテトラヒ
ドロフタル酸無水物、３−エチルテトラヒドロフタル酸
無水物、４−エチルテトラヒドロフタル酸無水物。

３−プロピルテトラヒドロフタル酸無水物、３イソプロ
ピルテトラヒドロフタル酸無水物、４プロピルテトラヒ
ドロフタル酸無水物及び４−イソプロピルテトラヒドロ
フタル酸無水物等が挙げられる。

本発明における樹脂組成物を構成する（Ｂ）成分である
エポキシ基を少なくとも１個有する化合物は、加熱硬化
を目的として配合されるものである。このような（Ｂ）
成分としては１例えば、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂、０−タレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エ
ポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、フ
ェニルグリシジルエーテル、Ｐ−ブチルフェノールグリ
シジルエーテル、タレジルグリシジルエーテル、ジグリ
シジルイソシアヌレート、トリグリシジルイソシアヌレ
ート、了りルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリ
レート等のエポキシ基を有する化合物等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物を構成する（Ｃ）成分である光重合
開始剤もしくは増感剤は、前記（Ａ）成分や必要に応じ
て配合される光重合性のモノマーやオリゴマーに作用し
て光重合を開始させるものである。このような（Ｃ）成
分としては１例えば。

了セトフエノン、２．２−ジェトキシアセトフェノン、
ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロ
ピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロア
セトフェノン、　　ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロア
セトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、
２−クロロペンゾフエノン、ｐ、ｐ−ジクロロベンゾフ
ェノン、　　ｐ、ｐビスジメチルアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトンともいう）、ｐ、ｐ’−ビスジエチル
アミノベンゾフェノン、　　３．３’、　　４．４’−
テトラ　（ｔｅｒｔブチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ペンツインイソプロピルエーテル、ペンツインイ
ソブチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル等
のベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール、
テトラメチルチウラムモノサルファイド、テトラメチル
チウラムジサルファイド、チオキサンソン、２−クロロ
チオキサンソン。

２．４−ジエチルチオキサンソン、２−メチルチオキサ
ンソン等のイオウ化合物、２−エチルアントラキノン、
　　２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン。

オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラ
キノン、２，３−ジフェニルアントラキノン等のアント
ラキノン類、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイル
パーオキシド、ジーｔｅｒｔ−ブチルパ〜オキシド、ク
メンパーオキシド等の有機過酸化物、２．４．５−）’
Ｊアリールイミダゾールニ量体、リボフラビンテトラブ
チレート、２−メルカプトベンゾイミダソ′−ル、２−
メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾ
チアゾール等のチオール化合物、２，４．６−）リス（
トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン、２，２゜２−ト
リブロモエタノール、トリブロモメチルフェニルスルホ
ン等の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。これらの化
合物は、２種以上を組合せて使用することもできる。ま
た、それ自体は光重合開始剤として作用しないが、上記
の化合物と組合せて用いると、光重合開始剤の能力を増
大させ得るような化合物を添加することもできる。その
ような化合物としては１例えば、トリエタノールアミン
等の第３級アミンを挙げることができ、これらはベンゾ
フェノンと組み合わせて使用すると効果的である 本発明のアリカリ現像型感光性樹脂組成物は。

（Ａ）成分、　（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分からなるもの
であり、この樹脂組成物における各成分の配合割合は、
（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｂ）成分が５〜１０
０重量部、好ましくは１０〜８０重量部。

（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｃ）成分を０．１〜
３０重量部好ましくは１〜３０重量部とする。

（Ａ）成分１００重量部に対する（Ｂ）成分の配合割合
が５重量部未満の場合には本発明の樹脂組成物の加熱に
よる硬化性が低下する。一方、１００重量部を超える場
合には、光重合速度が遅くなって感度が低下したり１弱
アルカリ水による現像が難しくなる。

また、（Ａ）成分１００重量部に対する（Ｃ）成分の配
合割合が０．１重量部未満の場合には、光重合速度が遅
くなって感度が低下する。３０重量部を超える場合には
、光が基板まで到達しにくいため。

基板と樹脂との密着性が悪くなる。

本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物は。

次に述べるようにプリント配線板のソルダーレジストと
して好適に使用することができる。例えば。

プリント配線板の表面に本発明の感光性樹脂組成物を溶
媒に溶解して塗布するか、あるいは本発明のアルカリ現
像型感光性樹脂組成物からなるドライフィルムをプリン
ト配線板の表面に張り付ける等の方法によって被膜を形
成させ１次いで、このようにして得た被膜の上にネガフ
ィルムをあて。

活性光線を照射して露光部を硬化させた後１弱アルカリ
水溶液を用いて未露光部を溶出させて現像して、ソルダ
ーレジストを形成させる。

本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物を溶解するの
に適した溶剤としては１例えば、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン類、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブ
アセテート等のセロソルブ類が挙げられる。

本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物を溶解した溶
液をプリント配線板に塗布する方法としては、溶液浸漬
法、スプレー法の他、ローラーコーター機やスピンナー
塗布機を用いて塗布する方法等があり、いずれの方法を
も採用することができる。これらの方法によって２例え
ば２０〜３０μｍの厚さに塗布した後、溶剤を除去すれ
ばプリント配線板上に被膜が形成される。

また１本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物の溶液
をポリエチレンテレフタレートフィルム等の可撓性の支
持体上に塗布して乾燥するとドライフィルムを作成する
ことができる。なお、ドライフィルムには、保護のだと
ポリエチレンフィルム等を被覆してもよい。

本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物を硬化させる
ために適した光としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀
ランプあるいはメタルハライドランプ等のランプから発
振される光等が挙げられる。

なお１本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物は光ば
かりでなく、熱によっても硬化させることができる。

露光後アルカリ現像するのに適した現像液としては９例
えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶
液やアルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることが
できる。中でも炭酸す）ＩＪウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウム等の炭酸塩の１〜３重量％からなる弱アルカリ
性水溶液を用いると微細な画像を精密に現像することが
できる。

アルカリ現像は、１０〜５０℃、好ましくは２０〜４０
℃の温度で、市販の現像機や超音波洗浄機を用いて行な
うことができる。

アルカリ現像後、露光部の耐蝕性を向上させるため、加
熱処理を施してさらに硬化させることが望ましく、加熱
処理を施すと強アルカリ水に対する耐久性、銅等の金属
に対する密着性、耐熱耐久性１表面硬度等が著しく向上
し、プリント配線板の保護マスクに要求される諸性質が
より向上する。

加熱処理条件は、８０〜２００℃で１０分間〜２時間と
するのが好ましい。

本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物には。

（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分以外に、光重合性の千ツ
マ−やオリゴマー　エポキシ基硬化促進剤。

熱重合禁止剤、フィラー、染料、顔料、可塑剤。

レベリング剤、密着性向上剤、消泡剤、難燃剤等の添加
剤や有機溶剤等の配合剤や添加剤を配合することができ
る。

このような配合剤や添加剤等の種類や使用量は。

本発明の感光性樹脂組成物の性質を損なわない範囲で適
宜選択することができる。

光重合性の千ツマ−やオリゴマーとしては１例えば、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレート等の水酸基を有するモノマー、
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レート。

テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラメチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、クリセロ−ルアクリレート等のアクリル酸エステ
ル、エチレングリコールジメタクリレート。

ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート
、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールへキサメタク
リレート、グリセロールメタクリレート等のメタクリル
酸エステル等の不飽和カルボン酸と脂肪族ポリオール化
合物とのエステル類、ジイソシアネートと少なくとも１
個のアクリレート基又はメタクリレート基を有する１価
アルコールとの反応によって得られるウレタンアクリレ
ート化合物等を挙げることができる。また、これらの化
合物は、２種以上を併用して使用することもできる。

これらの化合物は、粘度調整剤あるいは光架橋剤として
作用する。

エポキシ基硬化促進剤としては、アミン化合物類、イミ
ダゾール化合物類、カルボン酸類、フェノール類、第４
級アンモニウム塩類又はメチロール基含有化合物類等が
挙げられる。これらを少量併用して得た被膜を後加熱す
ると、耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐メツキ性、密着性
、電気特性及び硬度等の緒特性が向上する。したがって
、特にソルダーレジスト、無電界金約つきレジスト及び
永久保護マスクとして用いる場合は好適なものが得られ
る。

熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、ピロガロール。

ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等が挙げ
られる。

フィラーとしては、アルミナ白、クレー、タルク、微粉
末シリカ、硫酸バリウム、炭酸バリウム。

酸化マグネシウム、酸化チタン等が挙げられる。

染料、顔料としては、フタロシアニングリーン。

フタロシアニンブルー、フタロシアニンイエローベンジ
ジンイエロー　パーマネントレッドＲ，ブリリアントカ
ーミン６Ｂ等が挙げられる。

可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタ
レート、トリクレジル等が挙げられる。

消泡剤、レベリング剤としては９例えば、シリコン系、
フッ素系、アクリル系の化合物が挙げられる。

難燃剤としては１例えば、水酸化アルミニウム。

ホウ酸亜鉛等の無機系の難燃剤、トリス−（β−クロロ
エチル）−ホスフェート、ペンタクロロフェノールメタ
アクリレート等のハロゲン含有リン酸塩等の有機系の難
燃剤が挙げられる。

（実施例） 以下１本発明を実施例によって具体的に説明する。なお
、以下において、「部」は「重量部」を示す。

参考例１ 撹拌機、還流冷却器及び温度計を備えた三つロフラスコ
に、０−タレゾールノボラック樹脂〔ブライオーフェン
　ＺＡ−１１６５，大日本インキ化学工業■製１１２０
　ｇ　（フェノール性水酸基１当量）とセロソルブアセ
テ−）１２０ｇとを加え８０℃に加熱して溶解した。次
いで、グリシジルメタクリレート８５ｇ　（０，６０モ
ル）、トリエチルアミン１ｇ及ヒハイドロキノンモノメ
チルエーテル０．１　ｇ　トを添加し、９０℃で３時間
反応させた後３０℃まで冷却し、無水こはく酸６０ｇ　
（０，６０モル）をを加えて１００℃で２時間反応させ
ることにより化合物ａを得た。

参考例２ 参考例１において０−クレゾ・−ルツボラック樹脂に代
えて、フェノールノボラック樹脂（バーカムＴＯ−２０
９３．大日本インキ化学工業■製〕１０７ｇ（フェノー
ル性水酸基１当量）を用いる以外は参考例１と同様に処
理して化合物すを得た。

参考例３ 参考例１において無水こはく酸に代えて、テトラヒドロ
フタル酸無水物９０ｇ　（０，６０モル）を用いる以外
は参考例１と同様に操作することにより化合物Ｃを得た
。

参考例４ 参考例１においてグリシジルメタクリレートに代えて、
グリシジルアクリレート７７ｇ　（０，６０モル）を用
いる以外は参考例１と同様に操作することにより化合物
ｄを得た。

参考例５ 撹拌機、還流冷却器及び温度計を備えた三つロフラスコ
に、ｐ−クレゾールノボラック樹脂〔ショーノールＭＣ
Ｍ−７０９．昭和高分子■製：ｌ　１２０ｇ　（フェノ
ール性水酸基１当量）とブチルセロソルブ／カルピトー
ルアセテートの混合溶剤（体積比１：１）１２０ｇとを
加え、８０℃に加熱して溶解した。

次いで、グリシジルメタクリレ−）１１４　ｇ　（０，
８０モル）、）　！Ｊフェニルホスフィン１．０ｇ及び
ハイドロキノンモノメチルエーテル０．２ｇとを添加し
。

８０℃で５時間反応させた後、３０℃まで冷却し、テト
ラヒドロフタル酸無水物１２０ｇ　（０，８０モル）を
加えて８０℃で３時間反応させることにより化合物ｅを
得た。

参考例６ 参考例５においてｐ−タレゾールノボラック樹脂に代え
て、ブロムフェノールノボラック樹脂１８６ｇを用いる
以外は参考例５と同様に操作することにより化合物ｆを
得た。

参考例７ 参考例５においてテトラヒドロフタル酸無水物に代えて
、無水マレイン酸７８ｇ（０，８０モル）用いる以外は
参考例５と同様に操作することにより化合物ｇを得た。

参考例８ 参考例１においてグリシジルメタクリレートの配合量を
７ｇ（０，０５モル）に代える以外は参考例１と同様に
操作することにより化合物りを得た。

参考例９ 参考例１において無水こはく酸の配合量を５ｇ（０，０
５モル）に代える以外は参考例１と同様に操作すること
により化合物ｉを得た。

実施例１〜７．比較例１〜２ 参考例１〜９で得た（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ
）成分、光重合性モノマー、フィラー、顔料。

熱硬化剤１重合禁止剤及び有機溶剤とを第１表に示した
割合（重量部）で配合し、テスト用３本ロールミルを用
いて混練し、レジストインキを調製した。次いで、脱脂
洗浄した銅張積層板上に、得られたレジストインキを塗
布し、乾燥させた後。

ネガフィルムを密着させ、Ｎ光し、Ｎ先後、現像し、熱
処理を行った。この際、塗膜の乾燥性、露光感度、アル
カリ溶液に対する現像性、塗膜硬度。

塗膜と基板との密着性、はんだ耐熱性、塗膜の無電界金
めっき耐性、耐薬品性及び絶縁抵抗について後に詳述す
るようにして、評価した。それらの結果を第２表に示し
た。

なお、塗膜乾燥性については厚さ１．６ｍｍの銅張積層
板上にレジストインキを１７〜２５μｍの厚さで塗布し
たものについて試験し、露光感度、アルカリ溶液にたい
する現像性については、さらに７０℃で３０分間乾燥し
て得た塗膜について試験した。

また、基板との密着性、はんだ耐熱性、無電解金メツキ
耐性、耐薬品性、耐溶剤性及び絶縁抵抗については、前
記のようにして露光、現像した後。

１４５℃で５０分間加熱を行い、完全硬化した後のソル
ダーレジストとしての塗膜について試験した。

各評価については次のようにしておこなった。

（１）塗膜の乾燥性 Ｊ　Ｉｓ　Ｋ−５４００に準じて試験した。評価のラン
クは次のとおりである。

○：全くタックが認められないもの △：わずか１こタックがｔ忍められるものＸ：顕著にタ
ックが認島られるもの （２）露光感度 コダックステップタブレットＮ［１２（イーストマンコ
ダック社製、光学濃度段差０，１５．２１段差のネガフ
ィルム）を塗膜に密着し、ＩＫＷ超高圧水銀ランプ〔−
オーク製作新製、ＨＭＷ−６−Ｎ〕を用いて波長３６５
ｎｍ付近の紫外線を照度５ｍｗ／ｃｍ２で１００秒間（
光量５００　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ２）照射し、後記（３
）の弱アルカリ水溶液に対する現像性試験と同様に処理
して、銅箔上に残存するステップタブレットの段数を調
べた。この評価法では、高感度であるほど残存する段数
が多くなる。

（３）弱アルカリ水溶液に対する現像性前記（２）のよ
うにして露光処理したものについて。

１重量％の炭酸ナトリウム水溶液を使用して、現像機（
古谷商会■製、ＹＣＥ−８５）により、２．１ｋｇ　／
　ｃｎｆの圧力下、３０℃で８０秒間現像を行なった。

現像後、３０倍に拡大して観察し、残存する樹脂を目視
で評価した。

評価のランクは次のとおりである。

○：現像性の良好なもの （銅面上にレジストが全く残らないもの）×：現像性の
不良なもの （銅面上にレジストが少し残るもの） （４）塗膜硬度 前記（２）及び（３）のようにして露光、現像し、１４
５℃で５０分間加熱した塗膜の硬度を、　ＪＩＳ　Ｋ−
５４００の試験法に準じて鉛筆硬度試験機を用いて荷重
１　ｋｇを掛けた際、被膜に傷が付かない最も高硬度を
もって表示した。鉛筆は、「三菱ハイユニ」　（三菱鉛
筆社製）使用した。

（５）基板との密着性 前記（２）及び（３）のようにして露光、現像し、１４
５℃で５０分間加熱した塗膜に、少なくとも１００個の
基盤目が得られるようにクロスカットを入れ１次いで、
粘着テープを用いてピーリング試験を行い。

基盤目の剥離の状態を目視によって評価した。評価のラ
ンクは次のとおりである。

○：全での測定点で全く剥離が認狛られなかったもの △：１００の測定点中１〜２０の点で剥離が認められた
もの Ｘ　：　１００の測定点中２１以上の点で剥離が認めら
れたもの （６）はんだ耐熱性 前記（２）及び（３）のようにして露光、現像し、１４
５℃で５０分間加熱した塗膜について、　ＪＩＳ　Ｄ−
０２０２に準じて、２６０℃のはんだ浴に２０秒間浸漬
し、浸漬後の塗膜の状態を評価した。評価のランクは次
のとおりである。

○：塗膜の外観に異常なし ×：塗膜の外観に膨れ、溶融、剥離あり（７〕無電解金
とつき耐性 前記（２）及び（３）のようにして露光、現像し、１４
５℃で５０分間加熱してパターン形成した基板を脱脂洗
浄し、触媒活性化処理し、市販の無電解ニッケルめっき
液（ＰＨ＝６）を用いて９０℃で１５分処理した。さら
に、無電解金めっき液［ＰＨ＝６．　ＫＡｕ　（ＣＮ）
　３ｇ／　Ｒ］を用いて９０℃で９０分間処理すること
により２μｍの厚みの金を付着させ、粘着テープを用い
てピーリング試験を行い、銅回路上の剥離の状態を目視
によって評価した。評価のランクは次のとおりである。

○：銅回路上の剥れが認約られなかったもの△：１〜２
個所で剥れが認められたもの×：３個以上の剥れが認め
られたもの （８）耐薬品性 前記（２）及び（３）のようにして露光、現像し、１４
５℃で５０分間加熱した塗膜に対して下記の薬品にそれ
ぞれ２５℃で１時間浸漬し、浸漬後の外観、密着性を評
価した。

■耐酸性 １０重量％ＨＣｊ２水溶液 ■耐アルカリ性 １０重量％ＮａＯＨ水溶液 ■耐溶剤性 トリクロルエタン 塩化メチレン イソプロピルアルコール 評価のランクは次のとおりである。

○：異常なし ×：溶解又は膨潤あり （９）絶縁抵抗 前記（２）及び（３）のようにして露光、現像し、１４
５℃で５０分間加熱した塗膜に、　ＪＩＳ　Ｚ−３１９
７に従って円形電極を作成し、常態及び５５℃、９５％
ＲＨ，１００時間後の絶縁性を東亜電波■製、　５ｕｐ
ｅｒ　ＭｅｇｏｈｍｅｔｅｒＭｏｄｅｌ　Ｓ　Ｍ　−５
ｈを用いて測定した。

第１表及び第２表から明らかなように９本発明の樹脂組
成物よりなる塗膜は、無電解金めっき耐性を初めとし、
その他の特性にも優れていることが分かる。

（発明の効果） 本発明は以上のように構成されているので５本発明のア
ルカリ現像型感光性樹脂組成物よりなる被膜をプリント
配線板上に形成させ、露光後、アルカリ現像すると、耐
酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性、はんだ耐熱性、電気絶
縁性９機械的強度。

表面硬度等に優れた保護マスクが得られる。さらに、露
光部を熱硬化するとこれらの特性は向上する。また、無
電解めっき耐性も有するようになるので、この上に無電
解金めっきを施すことができ。

高価な金の無駄使いを省くことができる。

本発明のアルカリ現像型感光性樹脂組成物は。

レジストインキを初めとして、プリント配線板関連のエ
ツチングレジストや層間絶縁材料、感光性接着剤、塗料
、プラスチックレリーフ、プラスチックのハードコート
剤、オフセット印刷板とじてのＰＳ版及びスクリーン印
刷用の感光液等に用いることができ１幅広い分野に使用
することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分からなり、（
   Ａ）成分１００重量部に対する（Ｂ）成分の割合が５〜
   １００重量部であり、（Ｃ）成分の割合が０．１〜３０
   重量部であるアルカリ現像型感光性樹脂組成物。 （Ａ）成分：ノボラツク型樹脂のフェノール性水酸基に
   グリシジル（メタ）アクリレートを反応させ、この生成
   物に多塩基酸無水物を反応させて得られる光重合性不飽
   和化合物。 （Ｂ）成分：エポキシ基を少なくとも一個有する化合物
   。 （Ｃ）成分：光重合開始剤もしくは増感剤。