JPH03261047A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は表示装置、特に表示面前面に反射防止膜を備え
た表示装置に関する。

（従来の技術） 表示装置の表示面は、ガラス面であることが多く、周囲
光の一次反射の為の表示面の内側からの映像が見にくく
なる等の問題があった。

例えば陰極線管のフェースプレート外表面は、通常滑ら
かなガラス面である為、周囲の光源からの一次反射がう
つり込むとフェースプレート内側からの映像と重なって
しまい、非常に見ずらくなってしまう。

この様な問題を解決するためには、大別して２つの手段
がある。第１の手段は、特開昭６１−２９０５１号公報
に示される様にフェースプレート外表面に微細な凹凸を
形成し、周囲光を散乱させてしまう方法であるが、この
方法では、画面全体が白味がかかってしまいコントラス
トが悪化してしまう。

又、画像の解像度も劣化させてしまう。第２の手段は、
フェスプレート外表面に単層又は多層の光学膜を形成し
て反射を防止する方法である。この方法はコントラスト
と、解像度の劣化を招くことはない。

この様な光学膜は、単層の場合、表示面のガラスより屈
折率の低い物質により形威され、その無反射条件は、ｎ
１＝ｎｏｎ２で表わされる。ここでｎ　は薄膜の屈折率
、ｎｏは空気の屈折率、ｎｌ ２は表示装置の表示面の屈折率である。

例えば、陰極線管では、表示面はガラスであるのでｎ２
＝１．５２程度である。空気の屈折率はｎ。

１、口０であるから反射防止膜の屈折率は好ましくはｎ
　１＝　１．２３となる。ところが、この様な屈折率を
有する物質は一般的にほとんど知られておらず、単層で
は、無反射条件を満たす反射防止膜は得ることができな
い。

反射防止膜を二層構造とした場合、表示面の基板の屈折
率をｎｏ−、下層膜の屈折率をｎｌ、上層膜の屈折率を
ｎ　　空気の屈折率をｎ３とすると、２〜 無反射条件は、ｎ　ｏｎ　２　＝　ｎ　１　ｎ　３とな
る。陰極線管では、ｎｏにガラスの屈折率１．５２、ｎ
３に空気の屈折率１．００を代入することによりｎ　１
　／　ｎ　２−１．２３という値を得る。即ち下層膜と
上層膜の屈折率の比が１．２３となる組合せの二層膜を
陰極線管のフェースプレート外表面に形成すれば良い。

このような薄膜を形成する方法として、蒸着法やスパッ
ター法が良く知られているが、これらの方法は、表示装
置の表示面のような比較的大きな基板に適用すると、装
置が大がかりになり、又製造条件の制御も非常に困難に
なる為、実用には、適さない。

大きな基板に光学膜の様な薄膜を形成するには、膜成形
材料を含有した溶液を塗布乾燥する方法による方が容易
である。この方法では、出発材料に金属アルコキシド等
を使用し、加水分解、脱水縮合をさせる事により金属酸
化物を縮合体として得るゾル−ゲル法と呼ばれる方法が
良く用いられる。

特開昭６１−１００４３号公報では、ガラス基板上に下
層膜をＴｉ又はＺｒの酸化物系化合物（例えばＴｉ又は
Ｚｒのアルコキシド）と５ｉ０２系化合物（例えばＳｉ
のアルコキシド）の共縮合体で形威し、上層膜をポリフ
ルオロアルキル基を含有するアルコキシシラン又はクロ
ルシランから得られる含フツ素シリコーン化合物で形成
することにより、無反射条件を満たす反射防止膜が得ら
れることを示している。

下層膜の共縮合体は、金属化合物の加水分解及び脱水縮
合の２つの過程をへて得られる。金属化合物がアルコキ
シドの場合の一般式を以下に示す。

加水分解過程：Ｍ　（ＯＲ）ｎ　＋ｘＨ２０−”Ｍ　（
ＯＨ）　Ｘ　　（ＯＲ）　ｎ−ｘ　＋ｘＲＯＨ 脱水縮合　　：Ｍ−ＯＨ＋ＨＯ−Ｍ→ Ｍ−〇−Ｍ＋Ｈ２０ ここで、ｎ、　　ｘは自然数、Ｍは金属元素、Ｒはアル
キル基。

ところで、金属アルコキシドは、金属の種類によって加
水分解の速度が著しく異なるため、例えばＳｉのアルコ
キシドは、Ｔｉ、Ｚｒに比較して加水分解の速度が小さ
い。

従って、ＳｉとＴｉ、又は、ＳｉとＺｒの酸化物をつく
るときには、出発溶液中で、Ｔｉ又はＺｒのアルコキシ
ドが選択的に速く加水分解してしまい形成された薄膜の
組成が不均一となる。その結果、できあがった膜の強度
が十分に得られない等の問題点があった。

（発明が解決しようとする課題） 以上のように、表示装置の表示面の一次反射を防止する
ために、表示面に微細な凹凸を形成すると、コントラス
トや解像度の劣化をもたらし、又反射防止膜を形成する
場合、単層では、無反射条件を満たす屈折率を有する物
質がなく、二層でも強度等を含め簡単に形成される膜は
、得られない。

本発明は、上記の問題点を解決し、容易に形成でき、十
分な反射防止効果を有し、且つ十分な強度を有する反射
防止膜を備えた表示装置を提供するものである。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） 本発明は、表示装置の表示面外表面にＴｉＯ２を主成分
とし気孔率３０％以上、７５％以下、且つ平均細孔径は
＋ｏｏ　Ａ以下の多孔質薄膜を下層に、フッ素含有基と
シクロキサン結合をそれぞれ、少くとも工つ以上有する
Ｓｉを主成分とする薄膜を上層に形成することにより、
容易に且つ十分な効果を有する反射防止膜を備えた表示
装置を得ることができる。

（作　用） 上層膜に使用されるフッ素含有基とシロキサン結合を少
くとも１つ以上有するＳｉを主成分とした薄膜は、通常
フッ素含有基を１つ以上有するアルコキシシランを加水
分解、脱水縮合することにより得られる。このような化
合物としては、例えば、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ　（Ｏ
Ｍｅ）３．ＣＦ３（ＣＦ２）５０Ｈ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）、３゜ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＭ
ｅ）ＣＦ　　（ＣＦ、、　）　７ＣＨ２ＣＨ，、Ｓ　ｉ
　（０Ｍ３′３ ｅ）　２　、（Ｍｅｎ）　３Ｓ　Ｉ　ＣＨ２ＣＨ２（Ｃ
Ｆ２　）６　ＣＨ２ＣＨ２Ｓ　ｉ　（ＯＭｅ）３　　（
ここでＭｅはメチル基）等があげられる。これらの物質
により形成される薄膜は、プラスチック等の反射防止膜
として従来より、知られていたが、ガラスの基板では、
十分な反射防止効果を得られないため、利用はされてい
なかった。この薄膜は、撥水性、防汚性に非常に優れた
特性を有し、又表面が滑らかである為、見かけ上の強度
が上がる等の利点も有する。従って様々な環境にさらさ
れる上層膜に使用するのに最適の特性をもっている。と
ころで、この薄膜の屈折率は、フッ素の含有量によって
異なるが、１．３〜１．４３程度である。このような薄
膜を上層膜とした場合、表示装置の表示面がガラスであ
るときは、下層膜の屈折率は少くとも１．５〜２．０で
ある必要があり、好ましくは１．６〜１．８である。こ
の範囲の屈折率の薄膜としては、例えばＴｉＯと、Ｓｉ
Ｏ２の混合物等が知られている。

前述した様に表示装置の様な大きな基板に薄膜を形成す
るには、スパッター法や蒸着法は不向きであるため、膜
形成材料を含有した溶液を塗布、乾燥する方法が好まし
いのであるが、ＴｉとＳｉの２つのアルコキシドを出発
材料とした場合、加水分解速度の違い等から膜組成に不
均一を生じ、強度等で十分な特性を得られない。又Ｔｉ
のアルコキシドのみから薄膜を形成すると、強度は十分
に得られるが、屈折率が２．５〜２．９程度になってし
まい所望の屈折率が得られない。逆にＳｉのアルコキシ
ドのみから形成すると、屈折率が１．４５程度となりや
はり所望の屈折率が得られない。

発明者等は、Ｔｉのアルコキシドを出発材料とし、一定
の条件下で薄膜を形成することによりＴｉＯ２を主成分
とした薄膜中に、気孔を含有させ、０ 屈折率を所望の値に調節できることを見い出した。

第２図に示す様に気孔の割合が大きくなると屈折率は低
く、気孔の割合が小さくなると、屈折率は高くなる。所
望の屈折率１．５〜２．０を得るには気孔率は３０％〜
７５％であれば良い。又好ましくは４５％〜６５％が良
い。

第７図に平均細孔径が約１００Ａ及び約１５０Ａのとき
の気孔率と下層膜のみの膜硬度の関係を示す。

平均細孔径が約１００Ａの場合、気孔率が高くなると膜
硬度は低下していくが７５％までは、６Ｈ以上であり、
実用的には、問題ないレベルである。しかし、平均細孔
径が約１５ＯＡの場合、気孔率が５０％以上で急激な膜
硬度の低下を引きおこし、さらに膜の白濁化が生じると
いう事実がわかった。

ところで、この下層膜に上層膜が形成された場合の膜硬
度は、下層膜の気孔率と第８図に示す関係がある。下層
膜の平均細孔径が約１０ＯＡで気孔率が低い場合、下層
膜のみの硬度は、増加するにもかかわらず、膜全体とし
ての硬度は低くなっている理由は、以下の様に推察され
る。

本発明によるフェースプレート（５）上に形成された下
層膜の模式図を第４図に示す。実際の気孔は小さいので
あるが、説明のために拡大しである。

このような多孔質膜上に上層膜形成液を塗布した場合、
溶液は気孔の中に入り込み、焼成を行なうと、第５図に
示すような構造の二層膜を形成する。

下層膜（１２）と上層膜（１３）の境界に下層膜（１２
）の成分と上層膜（１３）の成分が混在する中間層（１
４）が存在すると考えられ、この層が上層膜と、下層膜
の接着力が強め、結果として膜硬度が高くなると推察さ
れる。従って下層膜の気孔率が低くなると、膜硬度、特
に上層膜の硬度が低下するものと思われる。

又、気孔率が高くなった場合、上層膜と下層膜の接着力
は強くなるが、下層膜自体の硬度が劣化する為、膜全体
としての硬度も劣化するものと思われる。平均細孔径が
約＋ｏｏＡの場合は、実用的な膜硬度６Ｈ以上を得るに
は、第８図より気孔率が３０〜８０％の範囲である必要
がある。又、平均細孔径が約１５０Ａの場合、６Ｈ以上
の膜硬度は、気１ ２ 孔率が３０〜５５％の範囲にある場合だけであり、所望
の屈折率を得ようとした場合に十分な膜硬度を得られな
い場合がでてくる。

従って細孔の平均径は１００Ａ以下でなければならない
。この薄膜を形成する溶液は、Ｔｉのアルコキシドを主
成分としているため、加水分解反応速度の違いによる膜
組成の不均一等の問題はなく平均細孔径、気孔率を所望
の範囲に設定すれば十分な強度を得ることができる。出
発材料となるＴｉのアルコキシド基は少なくともアルコ
キシド基を１つ以上有すれば良い。代表的なものとして
は、Ｔｉ　（０−ｉＣＨ）　　、　Ｔｉ　（ＱＣ，、Ｈ
５）　７４ ４、Ｔｉ　　（０−ｔＣ５Ｈ，７）等があげられる。

（実施例１） 以下、陰極線管を使用した実施例によって本発明の詳細
な説明する。

第１図は、本発明に基づき製造された陰極線管（１）を
示す部分切欠側面図である。この陰極線管（１）は、内
部が排気された気密性のガラス製外囲器（２）を有する
。この外囲器（２）は、ネック（３）及びネック（３）
から連続するコーン（４）を有する。

さらに、外囲器（２）はコーン（０とフリットガラスに
より封着されるフェースプレート（５）を有する。この
フェースプレート（５）の側壁の外周には、防爆のため
に金属製のテンションバンド（６）が巻回されている。

このネック（３）には、電子ビームを放射する電子銃（
７）が配置されている。フェスプレート（５）の内面に
は、電子銃（７）からの電子ビームにより励起されて発
光する蛍光体層よりなる蛍光体スクリーン（８）が設け
られている。またコーン（４）の外側には、蛍光体スク
リーン上を走査する様に電子ビームを偏向させる偏向装
置（図示せず）が装着される。

ところで、この陰極線管（１）のフェースプレト（５）
の外表面には、反射防止効果を有する二層構造の反射防
止膜（９）が形成されており、フェスプレート（５）の
−次反射が大幅に低減されている。この薄膜（９）は、
以下の如く製造される。

以下の組成の液Ａ及びＢを調整した。

Ａ液　チタンイソプロポキシド ３ 工４ （Ｔ　ｉ　（０−ｉ　Ｃ３Ｈ７）　４）　・５ｗｔ％イ
ソプロピルアルコール　　　・・・９５ｗｔ％Ｂ液　（
Ｍｅ○）　　５ｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ、、）６ＣＢ２　
ＣＢ２　Ｓ　１　（ＯＭ　ｅ　）３Ｉｗ−ｔ％ 純水　　　　　　　　　　　・・・Ｉｗｊ％ＨＣＩＩ　
　　　　　　　　　　　−０，０５ｗ１％イソプロピル
アルコール　　・・・残部先ずＡ液を攪拌し、空気中の
水分と反応（加水分解）させながら２時間熟成を行なっ
た。その後、Ａ液を相対湿度４０〜５０％の雰囲気中で
、組立終了後の２５インチサイズのカラー陰極線管のフ
ェースプレート前面にスピンコードにより塗布し、スピ
ンさせながら１００°Ｃ程度の温風を吹きかけ約１分程
乾燥した後、Ｂ液をスピンコードにより塗布した。その
後、２００°Ｃで２０分焼成し、反射防止膜を形成した
。第５図にフェースプレート（５）上に形成された膜の
模式図を示した。この時、下層膜（ｌ値試験用鉛筆を用
いてＪＩＳ規格に従って行なった結果、７Ｈであった。

又、反射率は、第３図に示す様に、蛍光灯（１）を用い
て、入射角３０°における正反射の輝度を輝度計（ＴＯ
ＰＣＯＮ　ＢＭ−５）を用いて測定する事により行なっ
た結果、反射防止膜を形成していない陰極線管に比べ、
正反射が２７％と低減していた。

この反射防止膜は、下層膜の形成条件によって、下層膜
の屈折率が変化し、反射防止効果に差が出てくる。形成
条件の中で下層膜の屈折率に影響をあたえる要因は、Ａ
液の組成、塗布時の相対湿度、Ｂ液塗布後の焼成温度で
ある。Ａ液の組成は、加水分解に用いられる純水の添加
量が少ない方が、又塗布時の相対湿度は高い方が、又焼
成温度は、約２００℃以下で、気孔率の高い膜を得るこ
とができる。本実施例においては、Ａ液の組成に純水を
添加せず、空気中の水分を用いて、熟成（加水分解）を
行ない、相対湿度が４０〜５０％の環境下で塗布、２０
０℃で２０分間乾燥することにより、気孔率の調節を行
なった。この条件下で、形成されたＢ５ ６ 液を塗布せずに２００℃で焼成したときの薄膜の気孔率
は約５５％であり、１．７程度の屈折率であった。

塗布時の相対湿度を３０％以下にした場合、Ｂ液を塗布
せずに２００℃で焼成したときの気孔率は２５％程度と
なり、屈折率は２以上であった。この条件下（相対湿度
３０％以上）でＡ液をスピンコードにより塗布し、スピ
ンさせなからｌＩ］０００程度の温風で１分間乾燥した
後、Ｂ液を塗布、２００’Ｃで焼威し、反射防止膜を得
ると、反射防止効果はほとんど得られなかった。又、膜
強度も５Ｈと低下した。

反射防止効果が得られない理由は、下層膜の気孔率が低
いために屈折率が高くなりすぎてしまったためであると
考えられる。

（実施例２） 実施例１で用いたＡ液にアシドローダミンＢを１．０ｗ
ｔ％の割合で添加し、実施例１と同様にして、反射防止
膜を形成した。このカラー陰極線管の正反射を測定した
ところ、従来の反射防止膜を形成していないカラー陰極
線管に対して２５％と実施例°１とほぼ同じ値が得られ
た。本実施例による反射防止膜は、第６図に示す光選択
吸収作用を有する光フィルター機能を備え、このカラー
陰極線管のＢＣＰ　（Ｂｒｉｇｈｌｎｅ＋ｉ　Ｃｏｎｔ
ｒａｓｔ　ＰｅｒｆｏＴｍａｎｃｅ）は、１．２５と良
好なコントラスト特性及びボディカラを示した。本実施
例のカラー陰極線管の下層膜は、染料を封入することに
より、光選択吸収機能が付加されている。光フィルター
の特性としては、視感度が最も低く、蛍光体の発光エネ
ルギーの大きな４５０ｎｍ付近および６３０ｎｍ付近で
最大透過率として外光吸収効率が最大となり、さらに、
蛍光体の発光エネルギーが少ない５７５ｎｍ付近で最小
透過率として視感度が高くなり、しかも、緑色発光用の
発光ピークである５３０ｎｍ付近で透過率が中間となる
。さらに加えると、この光フィルターの特性としては、
５７５ｎｍ〜５３０ｎｍの間では、５５０ｎｍ付近は５
３０ｎｍより外光のエネルギーが大きく、かつ、緑色発
光用の蛍光体の発光エネルギーが小さいので、この間の
光透過率は５３０ｎｍにおける透過率よりも小さくする
。即ち、波長が４５０ｎｍ　ｚ　５３０ｎｍ　％　５５
０ｎｍ　、　６３０ｎｍ　、および最大吸収波長の光に
対する透７ ８ 過率を、それぞれ、Ｔ４５０　、　Ｔ５３０　、　Ｔ５
５１］　、Ｔａ２０５およびＴｍｉｎとしたときに、Ｔ
ｍｉｎ≦Ｔ５５０　＜Ｔ５３０　、Ｔ５３０≦Ｔ　６３
０の関係を満足するフィルター特性とすれば、コントラ
スト改善の最大効率が得られる。

また、光フィルターのボディカラーのコントロルは、各
点における透過率の割合を以下の（１）〜（３）式を満
足する様に規制することで実用レベルまで改善されるこ
とが確認できた。

Ｔ４５０　／Ｔ５３０　＝　１〜２　　　　　・・・（
１）Ｔ６３０　／Ｔ５３０　＝１〜２　　　　　・・・
（２）Ｔ４５０　／Ｔ６３［＋　＝［１，７〜１．４３
　　　　・・・（３）上述の関係において、（１）式の
値が２を超えるか（３）式の値が１．４３を上回る場合
は、青味が強いボディカラーとなり、また、（２）式の
値が２を超えるか（３）式の値が０．７を下回る場合は
、赤味が強いボディカラーとなり、実用的でなくなる。

さらに、（１）、（２）式の値が１を下回った場合は、
コントラストの向上が低下し、ＢＣＰの値が小さくなり
、実用的でない。

又、上層膜は、この下層膜の保護膜としても働く。上層
膜は、前述したように、撥水性、防汚性に非常に優れた
特性を有し、下層膜への水、化学物質の侵入を防ぐため
、下層膜の光選択吸収機能の耐環境特性を大幅に改善さ
せる。例えば、本実施例の光選択吸収機能を有する反射
防止膜を室温の水に５ｆ）０時間浸漬したところ、光透
過率特性に何ら変化は認められなかったが、下層膜のみ
の光選択吸収膜は、室温の水に４８時間浸漬したところ
、はぼ完全に染料が溶出してしまい光選択吸収機能は、
全く残っていなかった。さらに市販の次亜塩素酸ナトリ
ウムを含有する漂白剤をしみ込ませた布を用いて、コス
リ試験を行なったところ本実施例のフィルターは、変化
がなかったのに対し、下層膜のみのものは、光選択吸収
特性は、全く残っていなかった。

又、耐紫外線特性においても顕著な改善が得られ、メタ
ルハライドランプで１００ｍｗ／ｃｒｌの紫外線を４時
間照射した後の光吸収残存率は、本実施例の光選択吸収
膜が９３％であったのに対し、下層膜の９ ０ みのものは、７５％であった。以上の様に周囲光のうつ
り込みがなく、コントラストも良好で、長時間にわたっ
て安定に特性を維持できるカラー陰極線管を得ることが
できた。

（実施例３） 実施例１で用いたＢ液にアシドローダミンＢを０．３ｗ
ｔ％の割合で添加し、実施例１と同様にして、反射防止
膜を形成した。このカラー陰極線管の正反射を測定した
ところ、従来の反射防止膜を形成していないカラー陰極
線管に対して２７％と実施例１とほぼ同じ値が得られた
。本実施例による反射防止膜は、第６図に示す光選択吸
収作用を有し、このカラー陰極線管のＢＣＰ　（Ｂｒｉ
ｇｈｔｎｅｓｓ　Ｃｏｎ１＋ａｓｔ　Ｐｅｒｆｏｒｍａ
ｎｃｅ）は、１．２２と良好なコントラスト特性を示し
た。又、この膜の光選択吸収機能は、染料を封入した上
層膜自身が撥水性、防汚性に優れているところから耐水
性、耐薬品性、耐紫外線特性は、実施例２と同様に著し
く向上した。

（実施例４） 実施例１で用いたＡ液に吸湿性金属塩とじて硝酸リチウ
ムをり、　５ｗｔ％添加して、実施例１と同様に反射防
止膜を形成した。正反射は、従来の反射防止膜を形成し
ていないカラー陰極線管に比べて２８％となり、実施例
１とほぼ同等の値を得た。この反射防止膜は、下層膜に
吸湿性金属塩として、硝酸リチウムが含まれているため
、導電性を有し、表面抵抗値は］、０Ｘ１０９Ω／　ｃ
ｎｆであった。

本実施例の陰極線管は、動作中の帯電は全くおこらなか
った。

（実施例５） 実施例１で用いたＢ液に吸湿性金属塩として、硝酸リチ
ウムをＯ，１ｗ１％添加して、実施例１と同様に反射防
止膜を形成した。正反射は、従来の反射防止膜を形成し
ていないカラー陰極線管と比較して、２７％となり実施
例１と同等であった。この反射防止膜の表面抵抗値は３
．０Ｘ１０９Ω／ｃｄで、帯電防止機能を有していた。

（実施例６） 実施例１で用いたＡ液にケイ酸テトラエチル（Ｓ　１　
　（ＯＣ２Ｈ５）　４　）をＧ、　４５ｗｔ％、１．２
ｗｔ％、１ ２．１ｗ１％の割合で添加して実施例１と同様にして、
反射防止膜を形成した。正反射は、従来の陰極線管と比
較して、２６〜３０％であったが、膜強度はそれぞれ７
Ｈ，６Ｈ，５Ｈと添加量が増加する程低下した。実使用
条件において、膜強度は最低６Ｈ以上必要であることか
ら、下層膜のＴ　１０２の割合は８０％以上であること
が好ましい。

（実施例７） 第９図はこの発明の一実施例によって得られる液晶表示
器（２０）を示す断面図である。第９図において、ガラ
スからなる一対の基板（２１）、　（２２）の−主面上
にそれぞれ、例えばＩＴＯ（インジウム・チン・オキサ
イド）からなる電極（２３）、（２４）が所望のパター
ンに形成されるとともに、ポリイミド樹脂等の配向膜（
２５）、　（２６）が塗布形成されている。配向膜（２
５）、　（２６）にはラビング処理が施されている。基
板（２＋）、　（２２）のうちの一方例えば基板（２２
）の−主面上に熱硬化型接着スペーサー（２７）が散布
され、約１００°Ｃの温度で加熱を行うことにより、熱
硬化型接着スペーサー（２７）は硬化して基板（２２）
に固着される。そして、基板（２１）　　（２２）はシ
ル剤（２８）によって封着されている。そして基板（２
１）、　（２２）間に液晶（２９）が封入されている。

この様な液晶表示器（２０）の基板（２１）の外表面に
は本発明による上層膜と下層膜からなる反射防止膜（３
０）が形成されている。

この反射防止膜（３０）は、以下の方法により形成した
。液晶表示器の基板外表面部分を残し、その他を全てシ
ールし、実施例↓で用いたＡ液に浸漬し、垂直に引き上
げて、Ａ液を塗布した。その後、相対湿度４０〜５０％
の雰囲気中で約５０°Ｃの温風を吹きかけ、約１分間乾
燥した後に、Ｂ液に浸漬し、垂直に引き上げＢ液を塗布
した。次に約５０°Ｃの熱風で２０分間焼焼成、反射防
止膜を形成した。引き上げ速度は下層膜が約１５００Ａ
、上層膜が約１０００Ｘになる様調節した。この結晶表
示器の正反射は、従来の液晶表示器に比較し、正反射が
約２８％と低減された。

［発明の効果］ 以上述べた様に本発明によれば、容易に形成３ ４ でき、十分な反射防止効果を有し、且つ十分な強度を有
する反射防止膜を備えた表示装置を得ることが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す陰極線管を示す部分切
欠断面図、第２図は気孔率と屈折率との関係を示すグラ
フ、第３図は反射率の測定法を示す模式図、第４図は本
発明を適用した陰極線管のフェースプレート上に形成さ
れた下層膜の模式図、第５図は本発明を適用した陰極線
管のフェスプレート上に形成された反射防止膜の模式図
、第６図は本発明の一実施例を示す反射防止膜のフィル
ター特性を示す特性図、第７図は気孔率と下層膜のみの
膜強度の関係を示すグラフ、第８図は反射防止膜の気孔
率と膜硬度の関係を示すグラフ、第９図は本発明の一実
施例を示す液晶表示器の概略断面図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）表示面前面にＴｉＯ＿２を主成分とする薄膜と、
   前記薄膜の表面にフッ素含有基を１つ以上、シロキサン
   結合を１つ以上有するＳｉを主成分とした薄膜を備えた
   表示装置において、前記ＴｉＯ＿２を主成分とする薄膜
   は、細孔を有する多孔質薄膜であり、その気孔率は３０
   ％以上、７５％以下且つ、細孔の平均径は１００Å以下
   であることを特徴とする表示装置。 （２）前記ＴｉＯ＿２を主成分とする薄膜は、光選択吸
   収フィルター作用を有し、且つ、その吸収特性は、４０
   ０〜６５０ｎｍの領域で５７５±２０ｎｍの波長領域に
   最大吸収波長を有し、しかも、波長が４５０ｎｍ、５３
   ０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍ、および、最大吸収波
   長の光に対する透過率を、それぞれＴ４５０、Ｔ５３０
   、Ｔ５５０、Ｔ６３０、およびＴｍｉｎとしたときに、 Ｔｍｉｎ≦Ｔ５５０＜Ｔ５３０ １≦Ｔ４５０／Ｔ５３０≦２ １≦Ｔ６３０／Ｔ５３０≦２ ０．７≦Ｔ４５０／Ｔ６３０≦１．４３ の関係を満足することを特徴とする請求項１記載の表示
   装置。 （３）前記フッ素含有基を１つ以上、シロキサン結合を
   １つ以上有するＳｉを主成分とする薄膜は、光選択吸収
   フィルター作用を有し、且つ、その吸収特性は、４００
   〜６５０ｎｍの領域で５７５±２０ｎｍの波長領域に最
   大吸収波長を有し、しかも、波長が４５０ｎｍ、５３０
   ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍ、および、最大吸収波長
   の光に対する透過率を、それぞれＴ４５０、Ｔ５３０、
   Ｔ５５０、Ｔ６３０、およびＴｍｉｎとしたときに Ｔｍｉｎ≦Ｔ５５０＜Ｔ５３０ １≦Ｔ４５０／Ｔ５３０≦２ １≦Ｔ６３０／Ｔ５３０≦２ ０．７≦Ｔ４５０／Ｔ６３０≦１．４３ の関係を満足することを特徴とする請求項１記載の表示
   装置。 （４）前記ＴｉＯ＿２を主成分とする薄膜は、吸湿性の
   金属塩を含有することを特徴とする請求項１記載の表示
   装置。 （５）前記フッ素含有基を１つ以上、シロキサン結合を
   １つ以上有するＳｉを主成分とした薄膜は、吸湿性金属
   塩を含有することを特徴とする請求項１記載の表示装置
   。