JPH03266205A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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JPH03266205A
JPH03266205A JP6624990A JP6624990A JPH03266205A JP H03266205 A JPH03266205 A JP H03266205A JP 6624990 A JP6624990 A JP 6624990A JP 6624990 A JP6624990 A JP 6624990A JP H03266205 A JPH03266205 A JP H03266205A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
track width
width regulating
glass
magnetic
winding groove
Prior art date
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Pending
Application number
JP6624990A
Other languages
English (en)
Inventor
Naomi Mitani
三谷 直美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP6624990A priority Critical patent/JPH03266205A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は磁気ヘッドに関し、特に、一対のコアを融着す
るガラスの選択の自由度を向上させるようにした磁気ヘ
ッドに関する。
(従来の技術) 近時、磁気記録再生装置においては、高密度記録の要求
から、メタルテープ及びBa−フェライト媒体等のよう
に、高抗磁力の磁気記録媒体が開発されている。これら
の高抗磁力の磁気記録媒体に対して従来のフェライトヘ
ッドで記録しようとすると、飽和磁束密度が比較的小さ
いことから、ヘッドギャップ近傍において磁気飽和が発
生し、十分な書込磁界強度を得ることができない。そこ
で、ギャップ部を飽和磁束密度が高い金属強磁性体で構
成するメタルヘッドが採用される。金属磁性体は、Mn
−Znフェライトに比して比抵抗が極めて小さく、MH
zオーダーの周波数帯域では、表皮効果による渦電流損
によって実行的な透磁率が低下することから、磁気コア
を金属強磁性体で構成する場合、通常、薄板化及び薄膜
化する。
しかし、金属強磁性体はフェライトに比して摩耗しやす
い。したがって、例えばビデオヘッドのように、ヘッド
と記録媒体との相対速度が比較的速い場合には、薄板化
及び薄膜化によって耐久性が劣化してしまう。そこで、
記録媒体と摺接する摺動面の大部分をフェライトで構成
し、ギャップ近傍のみに金属磁性体を配置するメタルイ
ンギャップ(以下、MIGという)ヘッドが商品化され
ている。
第4図はMIGヘッドと呼ばれる従来の磁気ヘッドを示
す斜視図である。
MIGヘッド1は一対のコア2.3がギャップ4を介し
て接合されたものである。コア2.3にはトラック幅規
制溝5が形成されおり、コア3にはトラック幅規制溝5
の外にトラック幅方向に巻線溝6が形成されている。ト
ラック幅規制溝5によってギャップ4の幅がトラック幅
に規制されるようになっている。コア2.3はいずれも
接合面に金属磁性体膜7が形成されており、巻線溝6及
びトラック幅規制御5内の接合ガラス8のガラス融着に
よってコア2.3が接合されることにより、酸化物のギ
ャップ4の近傍に金属磁性膜7が配設される。
第5図は第4図のMIGヘッド1の製造方法を工程順に
示す斜視図である。
第5図(a>はコアブロックの基となるフェライトウェ
ハ基板10を示している。先ず、フェライトウェハ基板
10の表面を鏡面加工する。次いで、第5図(b)に示
すように、一方のフェライトウェハ基板10の表面に所
定間隔で数条の平行なトラック幅規制溝5を形成してコ
アブロック12を得る。
また、第5図(C)に示すように、他方のフェライトウ
ェハ基板10の表面には所定間隔で数条の平行なトラッ
ク幅規制御15を形成すると共に、このトラック幅規制
溝5と垂直な方向に巻線溝6を形成してコアブロック1
3を得る。
次に、第5図(d)、(e)に示すように、スパッタリ
ング等の方法によって、コアブロック12゜13の表面
に金属磁性体膜7を所定の厚さで形成する。次に、第5
図(f)に示すように、酸化物14を介してコアブロッ
ク12.13を対向させる。次いで、巻線溝6及びトラ
ック幅規制溝5に接合ガラス(図示せず)を適性量配置
し、コアブロック12゜13を両側から加圧すると共に
加熱して、コアブロック12.13をガラス融着する。
次に、テープとの接触を良好にするために、摺動面16
をR状に加工し、アジマス角を考慮した所定の切断面で
切断する。こうして、第4図に示すMIGヘッド1を得
ている。
ところで、金属磁性体107と接合ガラスとはトラック
幅規制溝5及び巻線溝6において直接接合されることか
ら、加熱温疾が比較的高い場合には、接合ガラス及び金
属磁性体7の拡散によって磁気特性が劣化してしまう。
この理由から、接合ガラスとしては低融点ガラスが用い
られている。ところが、低融点ガラスはガラス耐久性が
悪く、磨耗による経時変化が著しいという問題点があっ
た。
また、低融点ガラスとコア2.3を構成づるフェライト
との熱膨張係数差は比較的大きい。このため、ガラス融
着工程において応力が発生し、フェライトのコア2.3
と金属磁性体7との間で躾はがれが発生することがある
。この膜はがれによって疑似ギャップが生じ、周波数特
性が劣化してしまうことがあるという問題があった。
(発明が解決しようとする課題) このように、上述した従来の磁気ヘッドにおいては、拡
散による磁気特性の劣化を考慮して、低融点ガラスを使
用する必要があり、耐久性が悪いという問題点があった
。また、ガラスとフェライトとの熱膨張係数の相違によ
ってコアに応力が発生して、金属磁性体の躾はがれが発
生し、周波数特性が劣化してしまうことがあるという問
題点もあった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
接合ガラスの選択の自由度を向上させることにより、耐
久性を向上させると共に金属磁性体の膜はがれ防止する
ことができる磁気ヘッドを提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明に係る磁気ヘッドは、酸化物磁性体の一対の基板
と、この一対の基板の接合面に形成する巻線溝及びトラ
ック幅規制溝と、前記一対の基板の接合面の全面に金属
磁性体の膜を形成した後前記巻線溝及びトラック幅規制
溝と接合面の他の部分とのいずれかにレジストを塗布し
エツチングすることにより、前記巻線溝及びトラック幅
規制溝を除く接合面に形成する金属磁性膜と、前記基板
及び金属磁性膜によって構成される一対のコアを接合面
を当接させて接合した後に前記巻線溝及びトラック幅屑
制溝に挿入され加熱されることにより溶融して前記一対
のコアを融着するガラスとを具備したものである。
(作用) 本発明において、金属磁性膜は、基板の巻線溝及びトラ
ック幅規制溝を除く接合面に形成される。このため、ガ
ラス融着時に、溶融したガラスと金属磁性膜との拡散が
発生することが防止される。したがって、ガラス選択の
自由数が増加し、また、ガラスと酸化物lll1性体と
は直接接合されていることから、両者の熱膨張係数の差
に基づく応力を所定の値に設定することが容易となり、
良好な周波数特性を得ることができる。
(実施例) 以下、図面に基づいて本発明の実施例を詳細に説明する
。第1図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す斜
視図である。
磁気ヘッド20は、酸化物によるギャップ23を介して
、コア21.22をその接合面を対向させて接合したも
のである。コア21.22はいずれもフェライト等の酸
化物磁性体24の表面(接合面)側にセンダスト等の金
属磁性体膜25が形成されている。コア21.22は、
接合面の両端にトラック@規制溝26が鉛直方向に形成
され、このトラック幅規制溝26に垂直なトラック幅方
向には摺動面27から所定位置に巻線溝28が形成され
ている。この巻線溝28によって磁路が形成されると共
に、図示しない巻線が巻回されるようになっている。前
述した金属磁性体W!A25は、トラック幅規制溝26
及び巻線溝27以外の接合面に形成されている。なお、
コア21.22は、トラック幅規制溝26及び巻線溝2
8のエツジ部29に充填されたガラス30によってガラ
ス@着されている。
このように構成された実施例においては、ギャップ23
近傍に金属磁性体!!1125が形成されていることか
ら、ギャップ23近傍において磁気飽和が発生すること
はなく、強い磁界強度を得ることができる。また、摺動
面27の大部分はフェライトで構成されているので、耐
久性に優れている。
更に、本実施例においては、巻線溝28及びトラック幅
規制溝26の表面には金属磁性体膜25が形成されてい
ない。すなわち、接合用のガラス30と金属磁性体膜2
5とは直接接合されないので、ガラス融着工程において
ガラスと金属磁性体との拡散が生じることはない。した
がって、接合用のガラス30として低融点ガラスを用い
る必要はなく、良好な磁気特性が得ると共に、耐久性を
向上させることができる。また、ガラス30と金属磁性
体膜25とが0接反応することがないので、接合に使用
するガラスの選択の自由度が増加する。したがって、コ
ア21.22を構成する酸化物磁性体24(フェライト
)とガラス30との熱膨張係数差を変更可能であり、ま
た、酸化物磁性体24とガラス30とが巻線溝28及び
トラック幅規制溝26において直接接合されていること
から、酸化物磁性体24の応力を所定の値にすることが
容易となり、酸化物磁性体24と金属磁性体1I25と
の間の膜はがれを防止することができる。このため、良
好な周波数特性を得ることができる。
次に、第1図に示す磁気ヘッド20の製造方法を第2図
及び第3図を参照して説明する。第2図(a)乃至(e
)は磁気ヘッド20の製造方法を工程順に示す斜視図で
あり、第3図(a)、(b)は夫々第2図(d)、(e
)の一部を拡大して示す斜視図である。
第2図(a)乃至(C)は、従来例の第5図(a>、(
b)、(d)と同様の工程である。すなわち、第2図(
a)はコアブロックの基となる酸化物磁性体基板31を
示している。先ず、酸化物磁性体基板31の表面を鏡面
加工する。次に、第2図(b)に示すように、酸化物磁
性体基板31の表面(接合面)に所定間隔で数条の平行
なトラック幅規制溝26を形成してコアブロック32を
得る。次に、酸化物磁性体基板31の表面(接合面)に
所定間隔で数条の平行なトラック幅規制御I26を形成
すると共に、このトラック幅規制溝26に垂直な巻線溝
28を形成してコアブロック33(第2図(e)参照)
を得る。次に、第2図(C)に示すように、これらのコ
アブロック32.33の接合面にスパッタリング等の方
法によってセンダスト等の金属磁性体膜25を形成する
。次いで、ギャップ形成面に5i02等の酸化物膜34
(第2図(e)参照)を形成する。
次に、第2図(d)及び第3図(a)に示すように、コ
アブロック32の接合面において、トラック幅規制溝2
6を形成していない部分に半導体プロセス等で採用され
ているフォトレジスト35をはけやローラ等によって塗
布し、ブリベーキングして固化する。また、コアブロッ
ク33の接合面において、トラック幅規制溝26及び巻
線l!28を形成していない部分にフォトレジスト35
を塗布し、ブリベーキングして固化する。
次に、第3図(b)にて示すように、イオンビームエツ
チング等の手段により、トラック溝26及び巻線溝28
に形成された金属磁性体膜25を除去する。次いで、レ
ジスト剥離液によってフォトレジスト35を除去する。
これにより、コアブロック32゜33の接合面において
は、フォトレジスト35を塗布した部分、すなわち、溝
加工された部分以外の接合面のみに金属磁性体1125
が形成される。
次に、第2図(e)に示すように、コアブロック32.
33同士を接合面を対向させて接合させ、巻線溝28及
びトラック幅規υノ満26に適性器の接合ガラス(図示
せず)を配置し、コアブロック32.33を加圧しなが
ら加熱する。接合ガラスは溶融しコアブロック32.3
3はガラス融着される。次に、摺動面をR状に加工し、
アジマス角を考慮した所定の切断面で切断して第1図の
磁気ヘッド20を得ている。
このように、本実施例においては、金属磁性体膜25は
コア21.22の巻線?lI28及びトラック幅規制溝
26以外の接合面に形成されており、ガラスg&着時に
、溶融したガラス30と金属磁性体1125とが直接接
合してしまうことを防止している。したがって、ガラス
30と金属磁性体1125との拡散による磁気特性の悪
化を考慮する必要はなく、ガラス30を適宜選択するこ
とにより、耐久性を向上させることができる。また、ガ
ラス30と酸化物磁性体24との熱膨張係数の設定によ
って、酸化物磁性体24に与える応力を制御し、膜はが
れの発生を防止することもできる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、接合ガラスの選択
の自由度が増加するので、耐久性を向上させると共に金
属磁性体の躾はがれ防止することができるという効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図、第2図及び第3図は第1図の磁気ヘッドの製造方法
を説明するための斜視図、第4図は従来の磁気ヘッドを
示す斜視図、第5図は第4図の磁気ヘッドの製造方法を
工程順に示す斜視図である。 20・・・磁気ヘッド、21.22・・・コア、24・
・・酸化物磁性体、25・・・金属磁性体膜、26・・
・トラック幅規制溝、28・・・巻I溝、30・・・ガ
ラス。 (0) (b) 2 (C) (d) スス 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 酸化物磁性体の一対の基板と、 この一対の基板の接合面に形成する巻線溝及びトラック
    幅規制溝と、 前記一対の基板の接合面の全面に金属磁性体の膜を形成
    した後前記巻線溝及びトラック幅規制溝と接合面の他の
    部分とのいずれかにレジストを塗布しエッチングするこ
    とにより、前記巻線溝及びトラック幅規制溝を除く接合
    面に形成する金属磁性膜と、 前記基板及び金属磁性膜によって構成される一対のコア
    を接合面を当接させて接合した後に前記巻線溝及びトラ
    ック幅規制溝に挿入され加熱されることにより溶融して
    前記一対のコアを融着するガラスとを具備したことを特
    徴とする磁気ヘッド。
JP6624990A 1990-03-15 1990-03-15 磁気ヘッド Pending JPH03266205A (ja)

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JP6624990A JPH03266205A (ja) 1990-03-15 1990-03-15 磁気ヘッド

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JP6624990A JPH03266205A (ja) 1990-03-15 1990-03-15 磁気ヘッド

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