JPH03272004A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH03272004A JPH03272004A JP7157590A JP7157590A JPH03272004A JP H03272004 A JPH03272004 A JP H03272004A JP 7157590 A JP7157590 A JP 7157590A JP 7157590 A JP7157590 A JP 7157590A JP H03272004 A JPH03272004 A JP H03272004A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 31
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 238000005304 joining Methods 0.000 abstract description 3
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- QWXYZCJEXYQNEI-OSZHWHEXSA-N intermediate I Chemical compound COC(=O)[C@@]1(C=O)[C@H]2CC=[N+](C\C2=C\C)CCc2c1[nH]c1ccccc21 QWXYZCJEXYQNEI-OSZHWHEXSA-N 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- 210000004379 membrane Anatomy 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000029052 metamorphosis Effects 0.000 description 1
- 210000004303 peritoneum Anatomy 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドに関し、詳しくはHDD(ハードデ
ィスクドライブ)装置に使用されるラミネート型磁気ヘ
ッドに関する。
ィスクドライブ)装置に使用されるラミネート型磁気ヘ
ッドに関する。
外部記憶装置として大型コンピュータから小型のパーソ
ナルコンピュータまで用いられるHDD(ハードディス
クドライブ)装置は、ディスク状の磁気記録媒体が30
00〜3600rpmの高速で回転するため、磁気ヘッ
ドを磁気記録媒体から0.3μm程度わずかに浮上させ
た状態で情報の記録・再生を行うようになっている。し
かしながら、上記磁気記録媒体の回転振れにより磁気ヘ
ッドが磁気記録媒体の磁気記録面に接触することがあり
、これによって上記磁気ヘッドが摩耗する虞があった。
ナルコンピュータまで用いられるHDD(ハードディス
クドライブ)装置は、ディスク状の磁気記録媒体が30
00〜3600rpmの高速で回転するため、磁気ヘッ
ドを磁気記録媒体から0.3μm程度わずかに浮上させ
た状態で情報の記録・再生を行うようになっている。し
かしながら、上記磁気記録媒体の回転振れにより磁気ヘ
ッドが磁気記録媒体の磁気記録面に接触することがあり
、これによって上記磁気ヘッドが摩耗する虞があった。
そこで、上記磁気ヘッドではへンドコアを保護するヘッ
ド基板の素材として、耐摩耗性を有する硬いアルミナチ
タンカーバイドを使用しているのが現状である。
ド基板の素材として、耐摩耗性を有する硬いアルミナチ
タンカーバイドを使用しているのが現状である。
このアルミナチタンカーバイドからなるヘッド基板を使
用した磁気ヘッドを第4図乃至第6図を参照しながら説
明する。
用した磁気ヘッドを第4図乃至第6図を参照しながら説
明する。
この磁気ヘッドAは、第4図に示すように直方体形状の
スライダ部(1)と、スライダ5(1)の−側壁面に接
着固定された略コ字形状のヘッド部(2)とで構成され
る。上記スライダ部(1)及びヘッド部(2)は、アル
ミナチタンカーバイドからなる一対のスライダブロック
(3)と(4)(以下率1のヘッド基板と称す)及びコ
アブロツク(5)と(6)(以下率2のヘッド基板と称
す)間にセンダスト等の金属磁性薄膜(7)(8)を挾
み込んで接合一体化したものである。
スライダ部(1)と、スライダ5(1)の−側壁面に接
着固定された略コ字形状のヘッド部(2)とで構成され
る。上記スライダ部(1)及びヘッド部(2)は、アル
ミナチタンカーバイドからなる一対のスライダブロック
(3)と(4)(以下率1のヘッド基板と称す)及びコ
アブロツク(5)と(6)(以下率2のヘッド基板と称
す)間にセンダスト等の金属磁性薄膜(7)(8)を挾
み込んで接合一体化したものである。
上記スライダ部(1)は、第5図に示すように一方の第
1のヘッド基板(3)の接合面に、金属磁性薄膜(7)
をスパッタリング等で被着形威し、更にその上に接着用
ガラス膜(9)を被着させた上で他方の第1のヘッド基
板(4)を衝合し、上記ガラス膜(9)を加熱溶融させ
て接合一体化することにより製造される。また、ヘッド
部(2)も、上述したスライダ部(1)と同様、一対の
第2のヘッド基板(5)(6)を金属磁性¥#膜(8)
を介してガラス(10)で接合一体化したものを略コ字
形状に底形した上で巻線処理することにより製造される
。そして、第6図に示すようにこのようにして得られた
ヘッド部(2)をスライダ部(1)の−側壁面にガラス
で接着固定することにより第4図に示す磁気ヘッドAが
製造される。
1のヘッド基板(3)の接合面に、金属磁性薄膜(7)
をスパッタリング等で被着形威し、更にその上に接着用
ガラス膜(9)を被着させた上で他方の第1のヘッド基
板(4)を衝合し、上記ガラス膜(9)を加熱溶融させ
て接合一体化することにより製造される。また、ヘッド
部(2)も、上述したスライダ部(1)と同様、一対の
第2のヘッド基板(5)(6)を金属磁性¥#膜(8)
を介してガラス(10)で接合一体化したものを略コ字
形状に底形した上で巻線処理することにより製造される
。そして、第6図に示すようにこのようにして得られた
ヘッド部(2)をスライダ部(1)の−側壁面にガラス
で接着固定することにより第4図に示す磁気ヘッドAが
製造される。
ところで、上述した従来の磁気ヘッドAでは、第1、第
2のヘッド基板(3)〜(6)に使用するアルミナチタ
ンカーバイドの熱11張係数が78×10 /℃程度で
あるのに対して、金属磁性¥#膜(7)(8)に使用す
るセンダストの熱膨張係数が130〜140 X 10
/ ”C程度であり、両者の熱膨張係数差が50X
10 /”C以上もある。そのため、ヘッド部(2)
では第2のへラド基板(5)(6)に金属磁性i膜(8
)を直接被着形成した場合、成膜時には問題がないが、
一対の第2のヘッド基板(5)(6)のガラス接合後や
後工程での加工処理時に、上記第2のヘッド基板(5)
(6)と金属磁性vs膜 (8〉間で生した内部応力に
より、金属磁性vI#膜(8)に歪みが発生して磁気ヘ
ッド特性が大幅に低下し、延いては上記金属磁性薄膜(
8)にクランクが発生して金属磁性薄膜(8)が第2の
ヘッド基板(5)(6)から剥離することがあった。
2のヘッド基板(3)〜(6)に使用するアルミナチタ
ンカーバイドの熱11張係数が78×10 /℃程度で
あるのに対して、金属磁性¥#膜(7)(8)に使用す
るセンダストの熱膨張係数が130〜140 X 10
/ ”C程度であり、両者の熱膨張係数差が50X
10 /”C以上もある。そのため、ヘッド部(2)
では第2のへラド基板(5)(6)に金属磁性i膜(8
)を直接被着形成した場合、成膜時には問題がないが、
一対の第2のヘッド基板(5)(6)のガラス接合後や
後工程での加工処理時に、上記第2のヘッド基板(5)
(6)と金属磁性vs膜 (8〉間で生した内部応力に
より、金属磁性vI#膜(8)に歪みが発生して磁気ヘ
ッド特性が大幅に低下し、延いては上記金属磁性薄膜(
8)にクランクが発生して金属磁性薄膜(8)が第2の
ヘッド基板(5)(6)から剥離することがあった。
そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案されたもので
、その目的とするところは、ヘッド基板と金属磁性WI
腹膜間生じた内部応力を簡便な手段により可及的に抑制
し得る磁気ヘッドを提供することにある。
、その目的とするところは、ヘッド基板と金属磁性WI
腹膜間生じた内部応力を簡便な手段により可及的に抑制
し得る磁気ヘッドを提供することにある。
本発明における上記目的を遠戚するための技術的手段は
、アルミナチタンカーバイドからなる一対のヘッド基板
間にギャップスペーサとなる金属磁性薄膜を挾み込んで
接合一体化したバルク型磁気ヘッドであって、上記ヘッ
ド基板と金属磁性薄膜との間に、ジルコニアに安定化剤
を添加した部分安定化ジルコニアからなる中間薄膜を介
在させたことである。
、アルミナチタンカーバイドからなる一対のヘッド基板
間にギャップスペーサとなる金属磁性薄膜を挾み込んで
接合一体化したバルク型磁気ヘッドであって、上記ヘッ
ド基板と金属磁性薄膜との間に、ジルコニアに安定化剤
を添加した部分安定化ジルコニアからなる中間薄膜を介
在させたことである。
本発明に係る磁気ヘッドでは、ヘッド基板と金属磁性i
膜との間に、ジルコニアに安定化剤を添加した部分安定
化ジルコニアからなる中間薄膜を介在させたから、上記
ヘッド基板と金属磁性1illi間で生した内部応力に
よって起る部分安定化ジルコニアのアルテンサイド変態
により緩和する。而も、上記部分安定化ジルコニアの熱
膨張係数がヘッド基板と金属磁性膜の中間に位置するの
で上記内部応力を確実に吸収し得る。
膜との間に、ジルコニアに安定化剤を添加した部分安定
化ジルコニアからなる中間薄膜を介在させたから、上記
ヘッド基板と金属磁性1illi間で生した内部応力に
よって起る部分安定化ジルコニアのアルテンサイド変態
により緩和する。而も、上記部分安定化ジルコニアの熱
膨張係数がヘッド基板と金属磁性膜の中間に位置するの
で上記内部応力を確実に吸収し得る。
本発明を第4図乃至第6図に示す磁気ヘッドに通用した
一実施例を第1図乃至第3図を参照しながら説明する。
一実施例を第1図乃至第3図を参照しながら説明する。
尚、第4図乃至第6図と同一、又は相当部分には同一参
照符号を付して重複説明は省略する。
照符号を付して重複説明は省略する。
本発明の特徴は、第1図に示すようにスライダ部(1)
及びヘッド部(2)において、アルミナチタンカーバイ
ドからなる第1、第2のヘッド基板(3)〜(6)とセ
ンダスト等からなる金属磁性膜M (7)(8)との間
に、ジルコニアに安定化剤を添加した部分安定化ジルコ
ニアからなる中間薄III (11) (12)を介
在させたことにある。この中間薄Ml! (11)
(12)を組成する部分安定化ジルコニアは、純ジルコ
ニア(ZrO2)に安定化剤として例えばイツトリア(
Y20a )を2 tao 12%以上5 so 1%
以下で含有させた高靭性セラ宍ソクスで、内在する結晶
相が正方晶相と立方晶相との2籾温合状態となっている
。特にヘッド部(2)での上記中間IF膜(12)は、
磁気へフドBの磁気ギャップとなる金属磁性!膜(8)
の両側に配され、磁気記録媒体がその回転振れにより接
触することがあることから耐摩耗性の点で好適である。
及びヘッド部(2)において、アルミナチタンカーバイ
ドからなる第1、第2のヘッド基板(3)〜(6)とセ
ンダスト等からなる金属磁性膜M (7)(8)との間
に、ジルコニアに安定化剤を添加した部分安定化ジルコ
ニアからなる中間薄III (11) (12)を介
在させたことにある。この中間薄Ml! (11)
(12)を組成する部分安定化ジルコニアは、純ジルコ
ニア(ZrO2)に安定化剤として例えばイツトリア(
Y20a )を2 tao 12%以上5 so 1%
以下で含有させた高靭性セラ宍ソクスで、内在する結晶
相が正方晶相と立方晶相との2籾温合状態となっている
。特にヘッド部(2)での上記中間IF膜(12)は、
磁気へフドBの磁気ギャップとなる金属磁性!膜(8)
の両側に配され、磁気記録媒体がその回転振れにより接
触することがあることから耐摩耗性の点で好適である。
部分安定化ジルコニアに含有される安定化剤がイツトリ
ア(Y20a )の場合、その含有量が2m。
ア(Y20a )の場合、その含有量が2m。
1%よりも少ないと、内在する結晶相がジルコニア単体
の正方晶相となり、逆にS so 1%よりも多くなる
と、安定化ジルコニアの立方晶相となって共に部分安定
化ジルコニアとはならず高靭性が低下するために好まし
くない。上記部分安定化ジルコニアの熱膨張係数は、第
1、第2のヘッド基板(3)〜(6)のアルミナチタン
カーバイドの熱膨張係数78 X 10−′7/’l:
と金属磁性薄膜(7)(8)のセンダストの熱膨張係数
130〜140X10/−7℃7 との中間に位置する100 XIO/”C程度である。
の正方晶相となり、逆にS so 1%よりも多くなる
と、安定化ジルコニアの立方晶相となって共に部分安定
化ジルコニアとはならず高靭性が低下するために好まし
くない。上記部分安定化ジルコニアの熱膨張係数は、第
1、第2のヘッド基板(3)〜(6)のアルミナチタン
カーバイドの熱膨張係数78 X 10−′7/’l:
と金属磁性薄膜(7)(8)のセンダストの熱膨張係数
130〜140X10/−7℃7 との中間に位置する100 XIO/”C程度である。
尚、上述した安定化剤としては、イツトリア(Y2 o
3)以外に、マグネシア(MgO)やカルシア(Ca
O)を使用することも可能で、イツトリアの場合とは異
なる所定の含有量でもって部分安定化ジルコニアを組成
する。
3)以外に、マグネシア(MgO)やカルシア(Ca
O)を使用することも可能で、イツトリアの場合とは異
なる所定の含有量でもって部分安定化ジルコニアを組成
する。
本発明の磁気ヘッドBのスライダ部(1)は、第2図に
示すように一方の第1のヘッド基板(3)の接合面に上
記部分安定化ジルコニアからなる中間薄膜(11)をス
バ)クランクで被着形威し、その上に金属磁性薄ll!
(7)をスパッタリング等で被着形威し、更にその上
に再度中間i!E1! (11)を形成した上で接着用
ガラスII! (9)を被着する。
示すように一方の第1のヘッド基板(3)の接合面に上
記部分安定化ジルコニアからなる中間薄膜(11)をス
バ)クランクで被着形威し、その上に金属磁性薄ll!
(7)をスパッタリング等で被着形威し、更にその上
に再度中間i!E1! (11)を形成した上で接着用
ガラスII! (9)を被着する。
この時、上記中間i!Il! (11)の膜厚は0.0
5〜0.5μm程度に設定され、最適値としては0.2
μ■が好ましい。この膜厚が0.05μ■よりも小さい
と部分安定化ジルコニアが十分作用せず、0.5μ蒙よ
りも大きいと成膜時に剥離し易くなって後工程での加工
処理が困難となる。尚、金属磁性薄膜(7〉及び接着用
ガラス膜(9〉の各膜厚は、5〜20μm及び1μmに
夫々設定されることが好ましい。上述した1f;L膜後
、上記第1のヘッド基板(3)に他方の第1のヘッド基
板(4)を街合し、上記ガラス膜(9〉を加熱溶融させ
て接合一体化する。また、ヘッド部(2)も、上述した
スライダ部(1)と同様、第2のヘッド基板(5)(6
)で金属磁性i1[!(8)をその両側に中間薄膜(1
2) (12)を配して挾み込んでガラス(10)で
接合一体化した上で略コ字形状に底形し巻線処理する。
5〜0.5μm程度に設定され、最適値としては0.2
μ■が好ましい。この膜厚が0.05μ■よりも小さい
と部分安定化ジルコニアが十分作用せず、0.5μ蒙よ
りも大きいと成膜時に剥離し易くなって後工程での加工
処理が困難となる。尚、金属磁性薄膜(7〉及び接着用
ガラス膜(9〉の各膜厚は、5〜20μm及び1μmに
夫々設定されることが好ましい。上述した1f;L膜後
、上記第1のヘッド基板(3)に他方の第1のヘッド基
板(4)を街合し、上記ガラス膜(9〉を加熱溶融させ
て接合一体化する。また、ヘッド部(2)も、上述した
スライダ部(1)と同様、第2のヘッド基板(5)(6
)で金属磁性i1[!(8)をその両側に中間薄膜(1
2) (12)を配して挾み込んでガラス(10)で
接合一体化した上で略コ字形状に底形し巻線処理する。
そして、第3図に示すように、このようにして得られた
直方体形状のスライダ部(1)の−側壁面に、上記スラ
イダ部(1)と同様にして得られた巻線処理済みの略コ
字形状のヘッド部(2)をガラスで接着固定する。
直方体形状のスライダ部(1)の−側壁面に、上記スラ
イダ部(1)と同様にして得られた巻線処理済みの略コ
字形状のヘッド部(2)をガラスで接着固定する。
上記磁気ヘッドBのヘッド部(2)では、一対の第2の
ヘッド基板(5)(6)のガラス接合後や後工程での加
工処理時に、上記第2のヘッド基板(5)(6)と金属
磁性11膜(8)間で生じた内部応力を中間薄膜(12
)で緩和する。即ち、上記内部応力によりマイクロクラ
ンクが発生すると、中間薄P (12)の部分安定化ジ
ルコニアはその結晶相が正方晶(を相)から単斜晶(m
相)に移行するマルテンサイト変態が発現し、これによ
り上記クランクが進行することを阻止する。また、中間
″1rJi (12)の部分安定化ジルコニアの熱膨張
係数が、第2のヘッド基板(5)(6)のアルミナチタ
ンカーバイドと金属磁性薄膜(8)のセンダストとの中
間に位置するので上記内部応力を確実に吸収する。
ヘッド基板(5)(6)のガラス接合後や後工程での加
工処理時に、上記第2のヘッド基板(5)(6)と金属
磁性11膜(8)間で生じた内部応力を中間薄膜(12
)で緩和する。即ち、上記内部応力によりマイクロクラ
ンクが発生すると、中間薄P (12)の部分安定化ジ
ルコニアはその結晶相が正方晶(を相)から単斜晶(m
相)に移行するマルテンサイト変態が発現し、これによ
り上記クランクが進行することを阻止する。また、中間
″1rJi (12)の部分安定化ジルコニアの熱膨張
係数が、第2のヘッド基板(5)(6)のアルミナチタ
ンカーバイドと金属磁性薄膜(8)のセンダストとの中
間に位置するので上記内部応力を確実に吸収する。
尚、上記実施例では、HDD装置に使用される磁気ヘッ
ドについて説明したが、本発明はこれに限定されること
なく、一対のヘッド基板で金属磁性i*mを挾み込んだ
構造のラミネート型磁気ヘッドであれば通用可能である
。
ドについて説明したが、本発明はこれに限定されること
なく、一対のヘッド基板で金属磁性i*mを挾み込んだ
構造のラミネート型磁気ヘッドであれば通用可能である
。
本発明に係る磁気ヘッドによれば、ヘッド基板と金属磁
性is間に部分安定化ジルコニアの中間薄膜を介在させ
たから、ヘッド基板と金属磁性薄膜間で生した内部応力
を上記中間薄膜で十分に緩和することが可能となり、金
属磁性i膜が歪むことなく良好な磁気ヘッド特性が得ら
れると共に上記金属磁性alII!jiが剥離すること
も皆無となり、製品の歩留まりが大幅に向上すると共に
信頼性の高い良品質の磁気ヘッドを提供できる。
性is間に部分安定化ジルコニアの中間薄膜を介在させ
たから、ヘッド基板と金属磁性薄膜間で生した内部応力
を上記中間薄膜で十分に緩和することが可能となり、金
属磁性i膜が歪むことなく良好な磁気ヘッド特性が得ら
れると共に上記金属磁性alII!jiが剥離すること
も皆無となり、製品の歩留まりが大幅に向上すると共に
信頼性の高い良品質の磁気ヘッドを提供できる。
第1図乃至第3図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例
を説明するためのもので、第1図は磁気ヘッドの組立完
了斜視図、第2図は第1図のスライダ部の組立分解斜視
図、第3図は第1図の磁気ヘッドの組立分解斜視図であ
る。 第4図乃至第6図は磁気ヘッドの従来例を説明するため
のもので、第4図は磁気ヘッドの組立完了斜視図、第5
図はj84図のスライダ部の組立分解斜視図、第6図は
第4図の磁気ヘッドの組立分解斜視図である。 (3)〜(6)−・・ヘッド基板、 (7)<81−一金属磁性Wi膜、 (11) (12)−一中間si*。 特 許 出 願 人 関西日本電気株式会社代
理 人 江 原 省 吾
23−
を説明するためのもので、第1図は磁気ヘッドの組立完
了斜視図、第2図は第1図のスライダ部の組立分解斜視
図、第3図は第1図の磁気ヘッドの組立分解斜視図であ
る。 第4図乃至第6図は磁気ヘッドの従来例を説明するため
のもので、第4図は磁気ヘッドの組立完了斜視図、第5
図はj84図のスライダ部の組立分解斜視図、第6図は
第4図の磁気ヘッドの組立分解斜視図である。 (3)〜(6)−・・ヘッド基板、 (7)<81−一金属磁性Wi膜、 (11) (12)−一中間si*。 特 許 出 願 人 関西日本電気株式会社代
理 人 江 原 省 吾
23−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アルミナチタンカーバイドからなる一対のヘッド基板間
に金属磁性薄膜を挟み込んで接合一体化した磁気ヘッド
であって、 上記ヘッド基板と金属磁性薄膜との間に、ジルコニアに
安定化剤を添加した部分安定化ジルコニアからなる中間
薄膜を介在させたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7157590A JPH03272004A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7157590A JPH03272004A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03272004A true JPH03272004A (ja) | 1991-12-03 |
Family
ID=13464637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7157590A Pending JPH03272004A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03272004A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5485332A (en) * | 1992-11-30 | 1996-01-16 | Minebea Co., Ltd. | Floating magnetic head having a chamfered magnetic head core |
| US5548459A (en) * | 1992-12-14 | 1996-08-20 | Minebea Co., Ltd. | Floating magnetic head |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP7157590A patent/JPH03272004A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5485332A (en) * | 1992-11-30 | 1996-01-16 | Minebea Co., Ltd. | Floating magnetic head having a chamfered magnetic head core |
| US5548459A (en) * | 1992-12-14 | 1996-08-20 | Minebea Co., Ltd. | Floating magnetic head |
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