JPH032827B2 - - Google Patents

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JPH032827B2
JPH032827B2 JP15431486A JP15431486A JPH032827B2 JP H032827 B2 JPH032827 B2 JP H032827B2 JP 15431486 A JP15431486 A JP 15431486A JP 15431486 A JP15431486 A JP 15431486A JP H032827 B2 JPH032827 B2 JP H032827B2
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JP
Japan
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glaze
calcium silicate
viscosity
weight
glazed
Prior art date
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JP15431486A
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English (en)
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JPS6325283A (ja
Inventor
Tetsuya Koide
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Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
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  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は施釉珪酸カルシウム体の製法に係り、
特にゾノトライト質珪酸カルシウム板の表面に剥
離しにくく、かつ硬質なセラミツク被覆を形成す
る方法に関する。 [従来の技術] ゾノトライト質珪酸カルシウム板は、軽量で耐
火性に優れる等の特長を有し、従来より断熱材等
として有効に使用されている。 [発明が解決しようとする問題点] 従来、表面化粧されたゾノトライト質珪酸カル
シウム板は提供されておらず、ゾノトライト質珪
酸カルシウム板を断熱材等として建築物等に使用
する場合には、その施工面上に更に表面仕上げ材
を施工する必要があり、施工工数が多く、作業が
煩雑であるなどの欠点があつた。 [問題点を解決するための手段] 本発明は上記実情に鑑み、ゾノトライト質珪酸
カルシウム成形体に良好な表面化粧を施す方法を
提供するべくなされたものであつて、全固型分量
に対する全水量が65〜76重量%で、かつ粘度が
1000〜8500cpである釉薬を、ゾノトライト質珪
酸カルシウム成形体に施釉し、次いで100〜150℃
で乾燥した後、最高温度800〜1000℃で0.1〜10時
間焼成することを特徴とする施釉珪酸カルシウム
体の製法、を要旨とするものである。 即ち、本発明者らは、まず、表面仕上げ材とし
て、耐久性に優れ、かつ非常に美麗であり、高級
感を感じさせるものに釉薬を施されたタイルがあ
ることから、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形
体の上にこの釉薬を施すことができれば、断熱材
等としても優れ、かつ、高級感のある表面美麗な
極めて優れた建築材料が得られるものと推察し
た。 そこで、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形体
に釉薬処理を施した施釉珪酸カルシウム体を製造
する方法について検討したが、陶磁器質タイルの
場合には、施釉する時点での成形体吸水率は5〜
15%程度であるのに対し、ゾノトライト質珪酸カ
ルシウム成形体は、150〜200%の吸水率を有する
ため、通常の陶磁器質タイルに施す釉薬をそのま
ま適用することができないという難点が見出され
た。即ち、通常の釉薬をそのまま適用した場合に
は、良好な施釉面が得られず、亀裂、ピンホール
発生等は避けられない。本発明者らは、このよう
な点について更に研究を重ねた結果、特定の水分
量で特定粘度の釉薬であればゾノトライト質珪酸
カルシウム成形体に良好に適用できることを見出
し、本発明を完成させた。 以下に本発明を詳細に説明する。 本発明において、施釉処理するゾノトライト質
珪酸カルシウム成形体は、常法により、珪酸質原
料粉末、石灰質原料粉末、水、必要に応じて耐火
粘土、石綿、バインダ等を混練し、成形、養生し
てゾノトライトを生成させることにより、容易に
製造することができる。この場合、成形法として
は、公知の抄造法、押出法、プレス成形法等のい
ずれも採用可能である。 本発明の方法においては、このようにして得ら
れたゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に施す
釉薬として、全固型分量に対する全水量が65〜76
重量%で、かつ粘度が1000〜8500cpである釉薬
を用いる。 釉薬の全固型分量に対する全水量が65重量%未
満あるいは粘度が8500cpを超えると、平滑な施
釉面が得られず、ピンホール等が多量に発生する
ようになり好ましくない。一方、釉薬の全固型分
量に対する全水量が76重量%よりも多い場合ある
いは粘度が1000cp未満の場合には、釉薬が側面
側へタレ、著しい場合には裏面側にもまわつてし
まい、良好な施釉を行うことができない。このた
め、本発明においては上記範囲の水分量及び粘度
の釉薬を用いる。 このような釉薬は通常の釉薬の調整法におい
て、水分量を適宜調整することにより容易に製造
することができる。 ところで、本発明で用いる、全固型分量に対す
る全水量が65〜76重量%で、かつ粘度が1000〜
8500cpの釉薬は、水分量が多く粘性が小さいこ
とから固型分粒子の沈降速度が速く、長期間安定
に保存することが困難であるため、大量生産には
必ずしも好適とはいえない。 このため、本発明の実施にあたつては、予め、
比較的水分量が少なく粘性の高い、安定な釉薬を
調製しておき、施釉する直前にこの釉薬に水を加
えて再混練し、上記範囲の水分量及び粘度を有す
る釉薬を調製して用いるのが好ましい。この場
合、予め調製しておく釉薬としては、全固型分量
に対する全水量が62重量%以下で、かつ粘度が
13000cp以上のものが、その安定性、使用時に水
を加えた時の混練性、釉薬特性の再現性等から特
に好ましい。 本発明においては、釉薬をゾノトライト質珪酸
カルシウム成形体にスプレー、刷毛塗り等により
施釉した後、100〜150℃で乾燥し、次いで最高温
度800〜1000℃で0.1〜10時間焼成する。特に、本
発明においては、100〜150℃で3時間以上の乾燥
を行つた後、800〜1000℃で焼成を行うことによ
り、極めて美麗で高特性の施釉珪酸カルシウム体
を製造することができる。なお、ゾノトライト質
珪酸カルシウム成形体は、780℃付近でワラスト
ナイト質に結晶形が変化するが、建築材料として
要求される軽量性、耐火性等の特性については、
何ら影響を受けることはない。 [実施例] 以下、実施例について説明する。 実施例 1 フリツト釉100重量部、粘土5重量部及び第1
表に示す量の水を、各々ポツトミルにとり、2〜
3時間混合し、更にCMC2重量%溶液を20重量部
加えて1〜2時間混合して、第1表に示す全水量
及び粘度の釉薬No.1〜No.10を調製した。この釉薬
No.1〜No.10を、各々、ゾノトライト質珪酸カルシ
ウム成形体にスプレーにて施釉し、120℃で3時
間乾燥した後、950℃で1時間焼成した。各々の
施釉後の表面の状況と焼成後の表面の状態の観察
結果を第1表に示す。
【表】 第1表より、明らかなように全固型分量に対す
る全水量が65〜76重量%で、粘度が1000〜
8500cpの釉薬(No.7〜10)を使用することによ
り、良好な施釉面を得ることができる。 実施例 2 実施例1で調整された釉薬No.1〜No.7を、
各々、ビーカーにとり、20℃で静置してその安定
性を調べた。結果を第2表に示す。 第2表より、No.3〜No.7の全水量が62重量%を
超える釉薬では、粒子の沈降が速く、静置7日以
後のものは、その沈降量が極めて多いことが明ら
かである。しかして、これらのものは、再度撹拌
しても元の状態には戻らず、異質の釉薬に変性し
ていた。 これに対して、全水量62重量%以下、粘度
13000cp以上のもの(No.1、No.2)であれば、長
期間安定に保存できることが確認された。
【表】 実施例 3 実施例1で調整したNo.1の釉薬、即ち、下記組
成及び物性の釉薬を、各々、第3表に示す期間静
置し、これに、ゾノトライト質珪酸カルシウム成
形体に施釉する直前に、13.75重量部の水を加え
て再混練し、第3表に示す全水量及び粘度の釉薬
とし、この釉薬を用いてスプレーにより施釉を行
つた。 釉薬No.1 フリツト 100重量部 粘 土 4 〃 水 40 〃 CMC2%溶液 20 〃 全水量 57.1重量% 粘 度 27500cp この場合の、施釉作業性と施釉後の施釉面の状
況を第3表に示す。 第3表より、全水量62重量%以下、粘度
13000cp以上の釉薬を作成しておき、これを使用
する直前に、水を加えて再混練することにより、
良好な再現性のもとに、本発明で特定する全水量
及び粘度の釉薬を得ることができることが明らか
である。 なお、得られた施釉ゾノトライト質珪酸カルシ
ウム成形体を120℃で8時間乾燥し、最高温度900
℃で60分間保持して焼成したところ、いずれも極
めて美麗な施釉面を有する施釉珪酸カルシウム体
を得ることができた。
【表】 [発明の効果] 以上詳述した通り、本発明の施釉珪酸カルシウ
ム体の製法は、全固型分量に対する全水量が65〜
76重量%で、かつ粘度が1000〜8500cpである釉
薬を、ゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に施
釉し、次いで100〜150℃で乾燥した後、最高温度
800〜1000℃で0.1〜10時間焼成するものであつ
て、軽量かつ耐火性等に優れ、建材等として極め
て有用なゾノトライト質珪酸カルシウム成形体に
良好な施釉作業性のもとに容易に施釉面を形成す
ることができる。しかして、形成された施釉面は
極めて平滑性に優れ、ピンホールや割れ等の発生
もなく、極めて良好な特性を有する。しかも、施
釉にあたつては、釉薬の水分量と粘性を管理する
ため、釉薬の品質が安定化し、釉薬のロツトによ
る製品品質のバラツキもない。 従つて、本発明によれば、ゾノトライト質の美
麗な表面化粧材を得ることができ、建材等として
適用する場合、施工作業性は著しく改善される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 全固型分量に対する全水量が65〜76重量%
    で、かつ粘度が1000〜8500cpである釉薬を、ゾ
    ノトライト質珪酸カルシウム成形体に施釉し、次
    いで100〜150℃で乾燥した後、最高温度800〜
    1000℃で0.1〜10時間焼成することを特徴とする
    施釉珪酸カルシウム体の製法。 2 全固型分量に対する全水量が62重量%以下
    で、かつ粘度が13000cp以上の釉薬に、施釉直前
    に水を加えて混練し、全固型分量に対する全水量
    が65〜75重量%で、かつ粘度が1000〜8500cpで
    ある釉薬とし、これを前記ゾノトライト質珪酸カ
    ルシウム成形体に施釉することを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載の製法。
JP15431486A 1986-07-01 1986-07-01 施釉珪酸カルシウム体の製法 Granted JPS6325283A (ja)

Priority Applications (1)

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JP15431486A JPS6325283A (ja) 1986-07-01 1986-07-01 施釉珪酸カルシウム体の製法

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JP15431486A JPS6325283A (ja) 1986-07-01 1986-07-01 施釉珪酸カルシウム体の製法

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JPS6325283A JPS6325283A (ja) 1988-02-02
JPH032827B2 true JPH032827B2 (ja) 1991-01-17

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JP15431486A Granted JPS6325283A (ja) 1986-07-01 1986-07-01 施釉珪酸カルシウム体の製法

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