JPH0330192A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH0330192A
JPH0330192A JP1164970A JP16497089A JPH0330192A JP H0330192 A JPH0330192 A JP H0330192A JP 1164970 A JP1164970 A JP 1164970A JP 16497089 A JP16497089 A JP 16497089A JP H0330192 A JPH0330192 A JP H0330192A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
potential
level
gate
column line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1164970A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0814996B2 (ja
Inventor
Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP16497089A priority Critical patent/JPH0814996B2/ja
Priority to US07/542,084 priority patent/US5175705A/en
Priority to KR1019900009538A priority patent/KR930008413B1/ko
Publication of JPH0330192A publication Critical patent/JPH0330192A/ja
Publication of JPH0814996B2 publication Critical patent/JPH0814996B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/12Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体記憶装置に関し、より詳しくは、メモ
リセルの接続される列線の電位の1.リ御方式に関する
(従来の技術) 半導体記憶装置のうち、フローテイングゲート構遣を有
するMOS}ランジスタをメモリセルとして用いたRO
Mが、例えば特開昭60=136996号公報に記載さ
れている。このようなROMの一例は、第3図に示され
る。即ち、複数の行線1 〜1 および列線2、〜2I
Ilが横方In 向及び縦方向に配列され、その各交差部にはそれぞれフ
ローティングゲート型MOS}ランジスタでなるメモリ
セル311〜3I,321〜32,・・・がマトリクス
状に配列されている。そして、それぞれのメモリセルの
ゲートはそれぞれ対応する行線1■〜1oに接続され、
ドレインは対応する列線2、〜21こ接続され、ソース
はアース電位に接続されている。上記メモリセルのうち
の1つを選択するには、1つの行線および列線を選択す
ることにより行なわれる。この行線および列線の選択は
、行および列デコーダ4.5で行なわれる。行デコーダ
4には、図示しないCPU等から、行アドレスデータA
  −A.が供給される。行デコー0       1 ダ4は、いずれかが論理「1」であるデコー1・12号
R1〜Roを出力する。デコード信号は行線1 〜1 
のいずれかに「1」レベルの信号を発in 生し、その行線を選択する。一方、列デコーダ5には列
アドレスデータAil1 ’=Amが供給される。
列デコーダ5はいずれかが「1」であるデコード信号C
 〜C を出力する。デコード信号C1〜lm C は、列線21〜2II1に直列に接続されているー エンハンスメント型MOSトランジスタ61〜6 のい
ずれか1つをオン状態にして選択する。
− トランジスタ6、〜61のドレインは共通に接続されて
共通接続節点Aを構成している。この節点Aは、負荷用
のエンハンスメント型MOS}ランジスタ12を介して
例えば5Vの電源V。に接続されている。そのトランジ
スター2のゲートは、インバーターの出力節点Bに接続
されている。このインバーターは、ディプレッション型
MOS}ランジスタ13とエンハンスメント型MOSト
ランジスタ14からなる6インバーターの入力端として
のMOS}ランジスタ14のゲートは、上記節点Aに接
続されている。インバーターの出力端(節点B)は、さ
らに、上記節点Aとデータセンス節点Cとの間に接続さ
れたエンハンスメント型MOSトランジスター5のゲー
トに接続されている。上記データセンス節点Cは、負萄
トランジスタ16を介して電源V に接続されている。
トラC ンジスタ16のゲートも電源V に接続されていC る。そして上記データセンス節点Cにはセンスアンブ1
7が接続されている。このセンスアンプ17から前記メ
モリセル3lI〜3nlBに記憶されているデータDが
出力される。
この様に構或された半導体記憶装置において、行および
列デコーダ4,5によりたとえばそれぞれ1つの行線お
よび列線が選択され、それらの交点に位置する1つのメ
モリセル、例えば311が選択される。選択されたメモ
リセル3llが、フローティングゲートに電子が注入さ
れていない、しきい値電圧が低い状態にある場合、この
メモリセル31lはオン状態となり、このメモリセル3
l1を介して列線21が放電され、この後「0」レベル
のデータDがセンスアンプ17から出力される。ま?、
このメモリセノレ3l1は、フローティ冫・グゲートに
予め電子が注入され、しきい値電圧が上昇しており、選
択されてもオンしない場合には、負荷トランジスタ12
.16により列線2■が充電され、「1」レベルがセン
スアンブ17により読み出される。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記構成の半導体記憶装置には、rOJ
データの読み出しの速度が遅いという欠点がある。以下
に、このことを各素子の動作との関係で詳細{こ説明す
る。
先ず、行デコーダ4及び列デコーダ5からの出力により
、例えば、メモリセル311が選択されたとする。この
メモリセル3llがrOJを記憶していて、オンすると
する。これにより、列線21がメモリセル3llを介し
て放電され、A点の電位が下がる。A点の電位低下によ
ってインバータlの出力端のB点の電位が上昇する。こ
のB点の電位上昇により、トランジスタ15の導通抵抗
が下がる。このため、トランジスタ15を介して、C点
の電位がA点の電位に近づ《。このC点の電位低下がセ
ンスアンプで検出される。つまり、メモリセル3、1の
記憶データを「0」と判定し、データDを「0」として
出力する。
次に、メモリセル32lが選択され、このメモリセル3
2、が「1」を記憶していて、その選択によってもオフ
状態にあるとする。この場合には、列線2、は、充電さ
れる。この充電はトランジスタ12.16により行なわ
れる。充電の初めにあっては、インバータ!の出力は「
1」レベルにある。
このため、充電の当初は、トランジスタ12.16によ
り、充電が行われる。これにより、節点Aの電位が急速
に上昇する。インバータIの出力?位が節点Aの電位上
昇に伴ってrOJレベル方向に低下する。これにより、
トランジスタ12,15はオフする。トランジスタ15
のオフにより、節点Cがトランジスタ16を介して充電
される。
この節点Cは「1」レベルに上昇する。この「1」レベ
ルがセンスアンブ17によりデータD「1」として読み
出される。
このようにして、列線2■ (節点A)が充電されるが
、入力に対するインバータIの出力の応答速度の分だけ
、トランジスタ12.15が余分にオンし、過充電され
る。すなわち、トランジスタ12.15のソース側電位
(節点Aの電位)はそのゲート電位からしきい値電圧を
引いた値に安定する。しかるにこの場合、インバータI
の応答速度による遅延時間のため、節点Aの電位はトラ
ンジスタ12.15のゲート電位からそれぞれのしきい
値電圧を引いた値よりも高い電位になってしまう。
以上のことがらを、第4図及び第5図を参照して、さら
に詳しく説明する。即ち、先述した如く、A点が充電さ
れる時、エンハンスメント型トランジスタ12.15の
しきい値電位をvthとすればB点の電位が、A点の電
位とトランジスタ12,15のしきい値電圧■thの和
になった時トランジスタ15.12はオフする。トラン
ジスタ15,12がオフすれば、A点は充電される経路
がなくなり、これ以上の電位上昇はない。これがA点及
びB点の電位のDC的安定充電電位(臨界的な電位)で
あり、これを第4図に示す。ところが、実際には、イン
バータIの動作遅延のために、A点の電位変化に対する
B点の追従性に遅れが生じ、第4図の安定点からずれて
、トランジスタ15.12はオフする。これを第5図に
示す。一般に、A点の電位の上昇によりB点の電位は下
がる。つまり、DC的には、A点の電位に対して、B点
の電位が決まる。ところが、第5図のように、AC的に
列線が充電しつつある時は、インバータ1のB点に対す
る駆動能力により、B点の電位は、DC的に、A点の電
位で決まるB点の電位よりも遅れて変化する。例えばA
点の電位が、時刻t。
のときにX (V)で、時刻11のときにX+α(V)
に変化したとする。このとき時刻trでのB点の電位は
、時刻t1でのA点の電位に対してDC的に決まる電位
ではない。B点に存する負荷容量及びトランジスタの応
答性等のため応答速度が遅れる。このため、時刻t1の
B点の電位は、例えば時刻t。のA点の電位に対するD
C的な安定電位に対応する。例えば、第5図の時刻t1
において、B点の電位は、「A点の電位十Vth」にな
っているとする。しかし、この時刻11におけるB点の
電位は、時刻t。におけるA点の電位に対するDC的な
安定電位である。このため、A点は充電されすぎること
になる。すなわち、時刻t1において、トランジスタ1
2及び15がオフしてA点の充電が止まったとする。し
かし、この時刻11のA点の電位に対するDC的なB点
の電位の安定点は時刻t2に現われることになる。その
ため、時刻t2以後のA点とB点の電位関係は、第4図
のDC的なトランジスタ15がオフするのに必要な、臨
界的な最小の電位関係からずれることになる。データ「
0」を読み出す場合A点側を放電しても、トランジスタ
15がオンしない限りC点の電位は下がらず、センスア
ンプは新しいデータを検出できない。すなわち、A点と
B点の電位の関係が、第4図に示すような関係となるよ
うに充電が止まれば、A点のわずかな放電でトランジス
タ15はオンし、C点の電位も速やかに放電される。と
ころが、B点の電位とA点の電位の関係が第5図の時刻
t2以後のようになると、メモリセルはA点及び列線の
大きな容量を、トランジスタ15がオンするまで、放電
しなければならない。つまり、第5図の時刻t2以後の
関係から第4図の関係となるまでA点の電位を放電する
時間は、第4図の関係で充電が止まった時に比べて無駄
な時間となる。また、A点及び列線には大きな負荷容量
が存在するため、第4図の関係から、ずれればずれるほ
ど、より多くの電萄をメモリセルで放電しなければなら
ないため、放電時間が、より長く必要となる。これらの
理由により、特に列線を放電する時の読み出し速度が遅
くなるという欠点がある。このため、従来は、インバー
タIの応答性を速くするため、インバータIの電流駆動
能力を大きくしていた。しかし、このようにすると、新
たにインバータIでの消!71i力が大きくなるという
欠点が生じる。
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的は、
消費電力の増加を抑えつつ、読み出し速度を向上させ潟
る半導体記憶装置を提供することにある。
〔発明の構或〕
(課題を解決するための手段) 本発明の第1の半導体記憶装置は、行線と、この行線に
より選択的に駆動されるメモリセルと、このメモリセル
に接続される列線と、この列課に接続される負荷トラン
ジスタと、この負殉トランジスタと前記列線との間にソ
ース・ドレイン電流路が接続され前記列線の電位に応じ
てゲート電位が制御される第1のトランジスタと、前記
列線に接続され前記列線の電位が、所定の電位以上の時
、前記列線の電位を前記所定の電位まで放電する放電手
段とを具備したものとして構成される。
本発明の第2の半導体記憶装置は、前記所定の電位は、
前記第1トランジスタのゲート電位よりもその第1トラ
ンジスタのしきい値電圧分だけ低い値であるものとして
構成される。
本発明の第3の半導体記憶装置は、前記数7Fs手段は
、前記列線にドレインとゲートが接続されたしきい値電
圧がほぼ0■の第2トランジスタを備え、その第2トラ
ンジスタのソースを、電源端子とアースとの間に直列に
接続された第3及び第4のトランジスタの接続中点に接
続し、前記第3トランジスタのゲートを前記第1トラン
ジスタのゲートに接続したものであり、さらに前記第1
トランジスタのしきい値電圧と第3トランジスタのしき
い値電圧がほぼ等しいものとして構威される。
本発明の第4の半導体記憶装置は、前記第1トランジス
タはしきい値電圧がほぼ0■のトランジスタであり、前
記放電手段は、前記列線と前記第1トランジスタのゲー
トとの間に接続されたしきい値電圧がほぼOVの第5ト
ランジスタを有し、その第5トランジスタのゲートを前
記列線に接続したものとして構成される。
(作 用) 列線が負荷トランジスタ及び第1トランジスタを介して
充電されて、第1トランジスタのソース、すなわち列線
の電位が、ゲートの電位としきい値電圧と加えた臨界電
位よりも高い過充電状態になると、列線電荷は放電され
、列線電位が臨界電位に低下し、安定する。上記放電は
、第3の発明においては第2のトランジスタを介して行
われ、第4の発明においては第5のトランジスタを介し
て行われる。
(実施例) 第1図は本発明の一実施例を示す。同図において第3図
と同等の構成要素には同一の初号を付している。第1図
が第3図と異なる点は、昂3図に示したトランジスタ1
2〜16からなる目路11に対応する回路11Aの構成
にある。その目路11Aは、以下のように構或される。
即ち、その回路11Aは、7IS源V にドレイン及び
ゲートがC 接続された負荷トランジスター6を備える。このトラン
ジスター6のソースはセンスアンプ17とトランジスタ
(第1トランジスタ)15のドレインとに接続されてい
る。そのトランジスター5のソースには列線の共通接続
節点Aが接続されている。そのトランジスター5のソー
ス(節点A)は、しきい値電圧がほぼOVのトランジス
タ(第2トランジスタ)23のドレインとゲートに接続
されている。そのトランジスタ23のソース(節点N1
)は、電源V とアースとの間に直列に接続さC れた2つのトランジスタ(第3、第4トランジスタ)2
1.22の接続点に接続されている。トランジスタ22
はトランジスタ21に比べて電流駆動能力が十分小さく
設定される。トランジスタ22としては、ディプレッシ
ョン型のものを用いることもできる。この時は、ゲート
もアース電位に接続した方がよい。トランジスタ22の
ゲートには電源V が接続されている。トランジスタC 21のゲートはトランジスター5のゲートに接続されて
いる。トランジスター5のソースとゲートとの間には、
インバータlが接続されている。このインバータIとし
ては、例えば、第3図のインバータ■のようなものを用
いてもよいし、第2図で説明するトランジスタ24.2
5のように{ト1成されたものを用いたちよい。あるい
はPチャンネルトランジスタとNチャンネルトランジス
タからなるCMOSインバータでもよい。
上記節点N1の電位はトランジスタ21によって決定さ
れる。即ち、節点N1の電位は、B点の電位からトラン
ジスタ21のしきい値電圧を引いた値に決定される。ま
た、トランジスタ23のしきい値電圧はOVである。よ
って、トランジスタ21によって決められる節点N1の
電位がA点の電位よりも下がれば、トランジスタ23は
オンする。そのオンによって、A点の電荷はB点にJl
される。これにより、例えば、A点が過充電されても、
過充電が解消される。
回路11Aの動作をより詳しく説明する。B点の電位を
vBSA点の電位をVA及び節点N〕の電位をvN1と
する。さらに、トランジスタ1521のしきい値電圧を
v   ■  とする。
thl5゜  th21 v >■ の時とV N t < V Aの時の2つの
場合にNI    A 分けて考える。
(l)VNl>VAの時 v−v−v  である。今、vLhl5−8    t
h21    NI ■  とすれば、VB − ” Lbl5− vNlと
なる。
th2l V  >V  であるから、VB  ’ thl5〉■
AとなNI    A る。これは、A点が放電状態であることを示している。
(2〉vN0くvAの時 先述のように、VB−vthl5−VN1であるから、
VB−vthl5くVAとなる。つまり、A点が過充電
である状態を示している。しかしながら、A点の電荷は
、トランジスタ23を介して、V八一■ となるまで、
放電され、その状態に落ちつく。
Nl 即ち、v−v−v  となる。つまり、VAB    
 thl5    A とV との電位差はvth1.となり、先述の第4図B のような理想的な値に戻る。
第1図においては、第3図の回路11中のトランジスタ
12は省略されているが、第1図の回路11Aにおいて
も、トランジスター2に対応するものを用いても良い。
第2図は回路11に換えて用いられる回路11Aに対応
した異なる例を示す。この第2図の回路11Bは、第1
図のトランジスター5に代えてトランジスタ15Aを用
いたものである。より詳しくは、その回路11Bは、電
源V にドレイン及C びゲートが接続された負荷トランジスター6を篩える。
このトランジスター6のソースは、しきい値電圧がほぼ
OVのトランジスタ(第1トランジスタ)15Aのドレ
イン、ソースを介して前記節点Aに接続されている。一
方、電源■ とアースC との間にトランジスタ24.25が直列に接続されてい
る。これらのトランジスタ24.25はインバータIV
を構成する。トランジスタ24のゲートには電源V が
接続されている。トランジスC 夕25のゲート(人力端)は節点A(トランジスタ15
Aのソース)に接続されている。トランジスタ24,2
5の接続中点、即ち、インバータIVの出力端はトラン
ジスター5Aのゲー1・に接続されている。節点Aとト
ランジスタ15Aのゲートとの間にはしきい値電圧がほ
ほOVのトランジスタ(第5トランジスタ)26が接続
されている。そのトランジスタ26のゲートも節点Aに
接続されている。
このような構成の回路11Bにおいても、節点Aの過充
電は防止される。即ち、VAとVBとの関係は、V+V
    −V(V    :トラA   thl5A 
  B   thl5Aンジスタ15Aのしきい値電圧
)である。ただし、■   L:OVである。ヨッテ、
VA>VBのとthl5^ きには、トランジスタ26がオンして、A点の電荷がB
点に放電される。トランジスタ26のしきい値電圧がほ
ぼOVであることから、vA−VBとなってその放電は
停止する。つまり、一時的にV^〉VBという状態にA
点が過充電されようとしても、A点の電位は下がり、V
 A ”” V Bという理想的な状態に落ちつく。
トランジスタ24の代わりに、ゲートとソースが接点B
に接続されたデブレッション型トランジスタを用い、第
3図のように、インバータを形成してもよい。
以上説明したように本発明の丈施例によれば、A点が一
時的に過充電されたとしても、A点に放電経路を設けて
、A点の電荷をトランジスタ15,15Aのオンする限
界の電位まで放電することかできる。しかも、消費電力
の増加や充電速度の低下を坐じさせることなく、A点か
らの赦市を速やかに実施することができる。なお、!・
ランジスタ23,26は、そのしきい電圧が正確にOV
てなくても、正あるいは負にずれていてもよい。この場
合でも、従来よりも、上記臨昇電泣に、より近い電位に
列線を保つことができるため従来よりも読み出し速度は
速くできる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、選択したメモリセルからのデータを読
み出す列線の電位を所定の電泣、例えば、第1トランジ
スタのゲート電位からそのしきい値電圧を引いた臨界電
位に安定させて、過充電を防止することができ、よって
、その後のデータ読み出しを、消費電流の増加を防ぎつ
つ、迅速に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を適用した半導体記憶装置
の全体回路図、第2図は本発明の第2実施例の回路図、
第3図は従来例の半導体装置の全体回路図、第4図及び
第5図は第3図の装置の動作を説明する線図である。 2■〜2,・・・列線、15.15A・・・第1トラン
ジスタ、16・・・負荷トランジスタ、17・・・セン
スアンプ、18ll〜18o1・・メモリセル、21・
・・第3トランジスタ、22・・・第4トランジスタ、
23・・・第2トランジスタ、26・・・第5トランジ
スタ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、行線と、この行線により選択的に駆動されるメモリ
    セルと、このメモリセルに接続される列線と、この列線
    に接続される負荷トランジスタと、この負荷トランジス
    タと前記列線との間にソース・ドレイン電流路が接続さ
    れ前記列線の電位に応じてゲート電位が制御される第1
    のトランジスタと、前記列線に接続され前記列線の電位
    が、所定の電位以上の時、前記列線の電位を前記所定の
    電位まで放電する放電手段とを具備したことを特徴とす
    る半導体記憶装置。 2、前記所定の電位は、前記第1トランジスタのゲート
    電位よりもその第1トランジスタのしきい値電圧分だけ
    低い値であることを特徴とする請求項1記載の半導体記
    憶装置。 3、前記放電手段は、前記列線にドレインとゲートが接
    続されたしきい値電圧がほぼOVの第2トランジスタを
    備え、その第2トランジスタのソースを、電源端子とア
    ースとの間に直列に接続された第3及び第4のトランジ
    スタの接続中点に接続し、前記第3トランジスタのゲー
    トを前記第1トランジスタのゲートに接続したものであ
    り、さらに前記第1トランジスタのしきい値電圧と第3
    トランジスタのしきい値電圧がほぼ等しい、請求項1記
    載の半導体記憶装置。 4、前記第1トランジスタはしきい値電圧がほぼOVの
    トランジスタであり、 前記放電手段は、前記列線と前記第1トランジスタのゲ
    ートとの間に接続されたしきい値電圧がほぼOVの第5
    トランジスタを有し、その第5トランジスタのゲートを
    前記列線に接続したものである、請求項1記載の半導体
    記憶装置。
JP16497089A 1989-06-27 1989-06-27 半導体記憶装置 Expired - Lifetime JPH0814996B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16497089A JPH0814996B2 (ja) 1989-06-27 1989-06-27 半導体記憶装置
US07/542,084 US5175705A (en) 1989-06-27 1990-06-22 Semiconductor memory device having circuit for prevention of overcharge of column line
KR1019900009538A KR930008413B1 (ko) 1989-06-27 1990-06-27 반도체기억장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16497089A JPH0814996B2 (ja) 1989-06-27 1989-06-27 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0330192A true JPH0330192A (ja) 1991-02-08
JPH0814996B2 JPH0814996B2 (ja) 1996-02-14

Family

ID=15803341

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16497089A Expired - Lifetime JPH0814996B2 (ja) 1989-06-27 1989-06-27 半導体記憶装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5175705A (ja)
JP (1) JPH0814996B2 (ja)
KR (1) KR930008413B1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0478097A (ja) * 1990-07-13 1992-03-12 Sony Corp メモリ装置
JP3404127B2 (ja) * 1994-06-17 2003-05-06 富士通株式会社 半導体記憶装置
US5675539A (en) * 1994-12-21 1997-10-07 Sgs-Thomson Microelectronics, S.A. Method and circuit for testing memories in integrated circuit form
DE69520495T2 (de) * 1995-08-04 2001-07-12 Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza Leseschaltung für nichtflüchtige Speicher
JP4469531B2 (ja) * 1999-10-04 2010-05-26 セイコーエプソン株式会社 半導体集積回路、インクカートリッジ及びインクジェット記録装置
FR2853444B1 (fr) * 2003-04-02 2005-07-15 St Microelectronics Sa Amplificateur de lecture a double etage de lecture
US7813157B2 (en) * 2007-10-29 2010-10-12 Contour Semiconductor, Inc. Non-linear conductor memory

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02301100A (ja) * 1989-05-16 1990-12-13 Fujitsu Ltd センスアンプ回路

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2070372B (en) * 1980-01-31 1983-09-28 Tokyo Shibaura Electric Co Semiconductor memory device
US4542485A (en) * 1981-01-14 1985-09-17 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit
JPS58185094A (ja) * 1982-04-24 1983-10-28 Toshiba Corp 半導体集積回路
JPS5977700A (ja) * 1982-10-25 1984-05-04 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ装置
JPS60136996A (ja) * 1983-12-26 1985-07-20 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US4694429A (en) * 1984-11-29 1987-09-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device
US4769784A (en) * 1986-08-19 1988-09-06 Advanced Micro Devices, Inc. Capacitor-plate bias generator for CMOS DRAM memories
US4797856A (en) * 1987-04-16 1989-01-10 Intel Corporation Self-limiting erase scheme for EEPROM

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02301100A (ja) * 1989-05-16 1990-12-13 Fujitsu Ltd センスアンプ回路

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0814996B2 (ja) 1996-02-14
US5175705A (en) 1992-12-29
KR930008413B1 (ko) 1993-08-31
KR910001775A (ko) 1991-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4783764A (en) Semiconductor integrated circuit device with built-in memories, and peripheral circuit which may be statically or dynamically operated
US4651304A (en) EPROM memory device having a test circuit
EP0121217A2 (en) Output buffer circuit
US6373315B2 (en) Signal potential conversion circuit
US5696722A (en) Level-shifter, semiconductor integrated circuit, and control methods thereof
US5258669A (en) Current sense amplifier circuit
US6385099B1 (en) Reducing level shifter standby power consumption
JPH0330192A (ja) 半導体記憶装置
KR20020093593A (ko) 반도체 메모리 장치
US6392447B2 (en) Sense amplifier with improved sensitivity
EP0063357A2 (en) Drive circuit
JP2790495B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH11162188A (ja) センスアンプ回路
JPH0766675B2 (ja) プログラマブルrom
US6456559B1 (en) Semiconductor integrated circuit
US6650147B2 (en) Sense amplifier with extended supply voltage range
US4439697A (en) Sense amplifier circuit
US6442069B1 (en) Differential signal path for high speed data transmission in flash memory
US6353560B1 (en) Semiconductor memory device
US5708615A (en) Semiconductor memory device with reduced current consumption during precharge and reading periods
JP3086043B2 (ja) 半導体読み出し専用メモリのセンス増幅回路
JPS60136996A (ja) 半導体記憶装置
US5546024A (en) Dynamic NOR decoder using current mode sensing techniques
JP2737475B2 (ja) 半導体記憶装置
KR100424676B1 (ko) 전하분배법에 의한 저전력 롬

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080214

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100214

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100214

Year of fee payment: 14