JPH0341845U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0341845U JPH0341845U JP10380989U JP10380989U JPH0341845U JP H0341845 U JPH0341845 U JP H0341845U JP 10380989 U JP10380989 U JP 10380989U JP 10380989 U JP10380989 U JP 10380989U JP H0341845 U JPH0341845 U JP H0341845U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- opening
- substrate
- main
- main body
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
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- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図〜第５図は本考案の一実施例のイオンプ
レーテイング装置に係り、第１図は模式断面図、
第２図は第１図のＡ−Ａ矢視断面図、第３図は部
分断面図及びブロツク図、第４図は説明図、第５
図はフローチヤートである。第６図は他の実施例
の一部を示す断面図である。第７図及び第８図は
従来のイオンプレーテイング装置に係り、第７図
は模式断面図、第８図は第７図のＢ−Ｂ矢視断面
図である。 Ｐ……基板、Ｍ……薄膜材料、１……真空槽（
密閉容器）、１１……搬送部、１１３……可動遮
蔽板、１２……本体、１３ａ……主開口、１３ｂ
……副開口、１４……光学式膜厚モニタ、２……
蒸発源（放出装置）、４……駆動部。
レーテイング装置に係り、第１図は模式断面図、
第２図は第１図のＡ−Ａ矢視断面図、第３図は部
分断面図及びブロツク図、第４図は説明図、第５
図はフローチヤートである。第６図は他の実施例
の一部を示す断面図である。第７図及び第８図は
従来のイオンプレーテイング装置に係り、第７図
は模式断面図、第８図は第７図のＢ−Ｂ矢視断面
図である。 Ｐ……基板、Ｍ……薄膜材料、１……真空槽（
密閉容器）、１１……搬送部、１１３……可動遮
蔽板、１２……本体、１３ａ……主開口、１３ｂ
……副開口、１４……光学式膜厚モニタ、２……
蒸発源（放出装置）、４……駆動部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 基板が順次搬送される搬送部と、該搬送部と開
口により連通する本体とからなる密閉容器と、 該本体内で該開口に対向して設けられ薄膜材料
を該基板に向かつて放出する放出装置とを具備し
、 該本体より該開口を介して飛来する該薄膜材料
により該基板表面に薄膜が成膜されるように構成
されたインライン式成膜装置において、 該開口は、該基板の搬送方向の後方に形成され
た主開口と、該主開口より搬送方向の前方に形成
された副開口とよりなり、 該密閉容器は、該主開口で成膜された該基板の
膜厚に相当する物理量を検出する膜厚モニタと、
該副開口の開口面積を可変する可動遮蔽板と、該
膜厚モニタの検出により該可動遮蔽板を駆動する
駆動部とを具備したことを特徴とするインライン
式成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10380989U JPH0643176Y2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | インライン式成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10380989U JPH0643176Y2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | インライン式成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341845U true JPH0341845U (ja) | 1991-04-22 |
| JPH0643176Y2 JPH0643176Y2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=31652630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10380989U Expired - Lifetime JPH0643176Y2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | インライン式成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643176Y2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006330485A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Olympus Corp | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法並びに光学薄膜 |
| JP2008193040A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-08-21 | Denso Corp | 電子装置及び電子装置の製造方法 |
| JP2016510297A (ja) * | 2013-01-18 | 2016-04-07 | サン−ゴバン グラス フランス | コーティングを備えた基材を得る方法 |
-
1989
- 1989-09-04 JP JP10380989U patent/JPH0643176Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006330485A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Olympus Corp | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法並びに光学薄膜 |
| JP2008193040A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-08-21 | Denso Corp | 電子装置及び電子装置の製造方法 |
| JP2016510297A (ja) * | 2013-01-18 | 2016-04-07 | サン−ゴバン グラス フランス | コーティングを備えた基材を得る方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0643176Y2 (ja) | 1994-11-09 |
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