JPH0350332B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 Ａ 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体のような基板上の磁気粒
子を配向させるための処理方法に関する。

Ｂ 従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点 米国特許第4189508号は磁気デイスクの表面側
及び裏面側の磁気粒子の行列を教示している。然
しながら、磁気粒子の対は相互に対向していな
い。表面側の磁石によつて印加された磁界の大き
さは裏面に印加された磁界の大きさよりも強い。
米国特許第4440106号は、磁気記録媒体面の２面
の何れかの側に磁石を用いて磁気粒子を媒体面に
与える方法を教示している。米国特許第4580966
号はデイスクの何れかの側の永久磁石を使つてデ
イスク上の磁気粒子を方向付ける概念を開示して
いる。然しながら、これらの特許は磁気被膜の中
間点で磁界を平衡させるという考えは開示してい
ない。

Ｃ 問題点を解決するための手段 本発明は例えば磁気記録媒体のような基板上で
磁気粒子を整列させるための処理方法である。本
発明の処理方法は、基板磁気粒子を方向付けるた
めに使用する縁磁界に存在する好ましくない磁束
成分の悪影響を除去する。特に、これらの好まし
くない影響は、「バーン・マーク」（burn
marks）の問題と、周辺部の整列の相違が生じる
ことを含む。基板が被覆媒体中に磁気粒子を含む
被膜で被覆されている間に、被膜の一方の面の磁
界と他方の面の磁界の強さを整合させて、２つの
磁界の強さが被膜の中間部で相互に平衡するよう
に、被膜を２つの磁界にさらすことにより、上述
の問題が克服されることが分つた。

磁界の強さを平衡させるための方法は２つあ
る。第１の方法においては、磁気被膜の中間部が
上面の磁石の磁極と、下面の磁石の磁極との間の
等価距離（equi−distant）にあることを保証す
ることによつて、Ｙ座標軸方向の磁気成分の正味
の影響がゼロになるように、Ｙ座標軸方向の磁気
成分を平衡させる。空気障壁式被覆（若しくは塗
布）装置の性能に悪影響を与えないで上述の方法
を達成するために、上方の磁石は基板の厚さに等
しい大きさだけ上部保持パツド中に埋込まれる。
この方法を用いた時、磁気粒子の極めて秀れた均
一性が達成される。加えて、バーン・マークは除
去され、そして均一の周辺の方向付けが達成され
る。更に付加的な利益は、磁気被膜を与える被覆
行程の所要サイクルが短縮される利点がある。

他の方法として、上部磁石に比べて被膜からよ
り遠い距離にある下部磁石からの磁界であつて、
被膜の中間部に存在する磁界が、より近くにある
上部磁石から与えられている磁界と等しくなるこ
とを保証するように、上部磁石に対向する下部磁
石のコイの電流を増加し十分な強さの磁界によつ
て、Ｙ方向の磁気成分を平衡させる他の方法があ
る。この方法は上述の方法と同様な結果を達成す
る。然しながら、第１の方法は現在使用されてい
る被覆装置に簡単な修正を施すだけで実施出来る
ので、より好ましい方法である。

Ｄ 実施例 第１図は磁界のインターフエースが被膜の中間
部にあることを保証するように、上部の磁石が基
板の厚さに対して等価距離だけ増加されている場
合の本発明の方法を示す図である。第１図におい
て、基板３は磁気粒子被膜４で被覆されている。
代表的な例では、基板は約3.8ミリメートルの厚
さであり、被膜の厚さは約１／２乃至１ミクロン
の大きさである。電磁石５は装置の下側にあり、
他の電磁石６は、装置の上側にある。参照数字７
は下側電磁石と基板の間の間隙を示し、８は空隙
である。上側電磁石６は、磁化空隙が増加しても
空隙を維持するために、例えばエポキシ樹脂の保
持部９中に埋込まれている。磁力１０は１１で示
した磁気粒子被膜の中間部で相互に平衡してい
る。

第２図は、下側の電磁石の磁束が、被膜の中間
部内で磁界のインターフエイスを保証するために
必要とする大きさに増加されている装置を示して
いる。第２図において、基板は２３で示されてお
り、磁気粒子被膜は２４で示されている。２５は
下側の電磁石を示し、２６は上側の電磁石を示
す。下側電磁石と基板の間の空隙を２７で示し、
上側電磁石の空隙は２８で示している。磁界２９
は被覆の中間部３０で相互に平衡している。

本発明において、被膜材料は、容量濃度25％乃
至35％の顔料を混入したエポキシ／フエノール・
バインダ系に、界面活性剤で処理した針状ガンマ
酸化鉄粒子を分散させたものである。

それぞれ界面活性剤によつて包囲されている微
細に分散された多数の磁気粒子を含む被膜材料
が、水平空気障壁式の被覆装置において、緩やか
に回転しているデイスク上に与えられる。次の行
程で基板の表面が磁気被膜で被われるのを保証す
るように、十分な被膜材料が与えられた後、予め
プログラムされている被覆装置は、基板全体にわ
たつて磁気被膜を均一に広げる予備スピン・ステ
ツプに入る。次に、基板は高速度のスピン・オ
フ・スチツプに加速され、上側磁石の保持パツド
が降下位置に置かれる。このスピン・オフの回転
速度は、必要な磁気被膜の厚さと、被膜の粘度
と、ヘリウムまたは他の気体の流速に従つて、毎
分3000回転乃至5000回転の範囲にある（米国特許
第4587139号を参照）。ヘリウムまたは他の気体流
は、高速スピン・オフ・ステツプの間で連続して
流され、減速ステツプの間か、または減速ステツ
プの後にオフにされる。次に、磁気被膜は周辺に
沿つて磁気粒子を整列されるように水平縁磁界に
差向けられる。

Ｅ 発明の効果 本発明の目的は基板の上の磁気被膜中の磁気粒
子の適正な配向を達成する。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の処理に使用する装
置の断面を示す模式図（図示した寸法関係の比率
は実際の装置の寸法関係を示すものではない）で
ある。 ３，２３……基板、４，２４……磁気粒子被
膜、５，２５……上側の電磁石、６，２６……下
側の電磁石、９……保持部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気粒子を含む被膜を基板上に形成し、上記被
   膜の中間部において互いの強さが平衡するように
   整合させた２つの磁界を上記被膜の上側及び下側
   から上記被膜に印加する磁気粒子配向方法。