JPH0366664A - 光学活性β―ヒドロキシチオエステルの製造方法 - Google Patents
光学活性β―ヒドロキシチオエステルの製造方法Info
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- JPH0366664A JPH0366664A JP1203142A JP20314289A JPH0366664A JP H0366664 A JPH0366664 A JP H0366664A JP 1203142 A JP1203142 A JP 1203142A JP 20314289 A JP20314289 A JP 20314289A JP H0366664 A JPH0366664 A JP H0366664A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野］
本発明は光学活性なβ−ヒドロキシチオエステルの！２
造法に関する。
造法に関する。
本発明によって製造されるβ−ヒドロキシチオエステル
は各種天然物、医薬などの生理活性化合物の合成中間体
として有用である。
は各種天然物、医薬などの生理活性化合物の合成中間体
として有用である。
［従来の技術］
β−ヒドロキシチオエステルはβ−ヒドロキシエステル
等鎖体として用いられ、ながでもα−メチル−β−ヒド
ロキシチオエステルのα−メチル−β−ヒドロキシカル
ボニル部分はマクロライド抗生物質の合成中間体として
用いられている【ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・
ケミカル・ソサイエテ（（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔ
ｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ ＣｈｅｍｌｃａｌＳｏｃｉ
ｅｔｙ）、第１０８（２６）巻、第８２７９頁（１９８
６年）参照Ｌ β−ヒドロキシチオエステルの製造方法としては、スル
ホニウムイリドを還元する方法【プレタン・オプ・ザ・
ケミカル・ソサイエティ・オプ・ジャバ：／
（Ｂｕｌｌｅｔａｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｓｌ
ｃａｌ ５ｏｃ１ｅｔｙ ｏｆＪａｐａｎ）、第５
０（６）巻、第１６４５頁（１９７７年）参照１、炭素
−炭素二重結合を有する光学活性なホウ素化合物とアル
デヒドをアルドール反応させる方法［ジャーナル・オプ
・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ、第１０８
（２６）巻、第８２７９頁（１９８８年）参照］などが
報告されている。
等鎖体として用いられ、ながでもα−メチル−β−ヒド
ロキシチオエステルのα−メチル−β−ヒドロキシカル
ボニル部分はマクロライド抗生物質の合成中間体として
用いられている【ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・
ケミカル・ソサイエテ（（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔ
ｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ ＣｈｅｍｌｃａｌＳｏｃｉ
ｅｔｙ）、第１０８（２６）巻、第８２７９頁（１９８
６年）参照Ｌ β−ヒドロキシチオエステルの製造方法としては、スル
ホニウムイリドを還元する方法【プレタン・オプ・ザ・
ケミカル・ソサイエティ・オプ・ジャバ：／
（Ｂｕｌｌｅｔａｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｓｌ
ｃａｌ ５ｏｃ１ｅｔｙ ｏｆＪａｐａｎ）、第５
０（６）巻、第１６４５頁（１９７７年）参照１、炭素
−炭素二重結合を有する光学活性なホウ素化合物とアル
デヒドをアルドール反応させる方法［ジャーナル・オプ
・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ、第１０８
（２６）巻、第８２７９頁（１９８８年）参照］などが
報告されている。
［発明が解決しようとする課Ｍ］
β−ヒドロキシチオエステルは各種天然物、医藁などの
生理活性物質の合成中間体として有用であり、高い光学
純度でかつ収率よく合成する方法の開発は強く望まれて
いる。
生理活性物質の合成中間体として有用であり、高い光学
純度でかつ収率よく合成する方法の開発は強く望まれて
いる。
しかしながら、従来知られているβ−ヒドロキシチオエ
ステルの製造方法には光学収率が必ずしも高くないこと
、光学活性な原料の合成が煩雑であることなどの問題点
がある。
ステルの製造方法には光学収率が必ずしも高くないこと
、光学活性な原料の合成が煩雑であることなどの問題点
がある。
しかして、本発明の目的は、光学活性なβ−ヒドロキシ
チオエステルを高い光学純度でかつ高収車で製造′する
方法を提供することにある。
チオエステルを高い光学純度でかつ高収車で製造′する
方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段］
本発明によれば、上記の目的は、一般式（１）（１）
（式中、Ｒ＋ はアルキル基、シクロアルキル基、アラ
ルキル基又はアリール基を表す、）で示されるアルデヒ
ドと一般式（ＩＩ ）Ｒ２Ｏ）（＝Ｃ３Ｒ” ０８ｉ（Ｒ’）ｚ （■ ） （式中、Ｒ２及びＲ４はそれぞれアルキル基を表し、Ｒ
２は水素原子又はアルキル基を表す、）で示されるシリ
ルエノールエーテルとを光学活性なジアミンおよびスズ
試薬の存在下に反応させることを特徴とする一般式（ｍ
） （式中、ｌｌ ｌｌ及びに才は上記定義の通りであり
、′Ｃは不斉炭素原子を表す、） で示される光学活性β−ヒドロキシチオエステルを製造
する方法を提供することによって達成される。
ルキル基又はアリール基を表す、）で示されるアルデヒ
ドと一般式（ＩＩ ）Ｒ２Ｏ）（＝Ｃ３Ｒ” ０８ｉ（Ｒ’）ｚ （■ ） （式中、Ｒ２及びＲ４はそれぞれアルキル基を表し、Ｒ
２は水素原子又はアルキル基を表す、）で示されるシリ
ルエノールエーテルとを光学活性なジアミンおよびスズ
試薬の存在下に反応させることを特徴とする一般式（ｍ
） （式中、ｌｌ ｌｌ及びに才は上記定義の通りであり
、′Ｃは不斉炭素原子を表す、） で示される光学活性β−ヒドロキシチオエステルを製造
する方法を提供することによって達成される。
上記一般式においてｌｌ、 Ｒ２、Ｒ１およびＲ′が
それぞれ表すアルキル基としては、炭素［１〜７の低級
アルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などが挙げられる
。またｌｊｌが表すシクロアルキル基としてはシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基などが例示され、アラルキ
ル基としてはベンジル基、フェネチル基などが例示され
、またアリール基としては置換基を有していてもよいフ
ェニル基、ナフチル基などが例示される。ここでフェニ
ル基、ナフチル基が有していてもよいＷ換基としてはメ
チル基、エチル基などの低級アルキル基、塩素原子、臭
素原子などのハロゲン原子またはメトキシ基、エトキシ
基などの低級アルコキシ基などが挙げられる。
それぞれ表すアルキル基としては、炭素［１〜７の低級
アルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などが挙げられる
。またｌｊｌが表すシクロアルキル基としてはシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基などが例示され、アラルキ
ル基としてはベンジル基、フェネチル基などが例示され
、またアリール基としては置換基を有していてもよいフ
ェニル基、ナフチル基などが例示される。ここでフェニ
ル基、ナフチル基が有していてもよいＷ換基としてはメ
チル基、エチル基などの低級アルキル基、塩素原子、臭
素原子などのハロゲン原子またはメトキシ基、エトキシ
基などの低級アルコキシ基などが挙げられる。
本発明において用いられる光学活性なジアミンとしては
ｌ−メチル−２−（１−ピペリジニルメチル〉ピロリジ
ン、ｌ−メチル−２−（１−ナフチルアミノメチル）ピ
ロリジン、２−（２−メトキシメチルピロリジン−１−
イルメチル）−１−メチルビロリジンなどの２−アミノ
アルキルピロリジン誘導体が好ましい、また、スズ試薬
としてはスズ（ＩＩ ） ）リフラードとフッ化トリブ
チルスズの組合せを用いるのが好ましい。
ｌ−メチル−２−（１−ピペリジニルメチル〉ピロリジ
ン、ｌ−メチル−２−（１−ナフチルアミノメチル）ピ
ロリジン、２−（２−メトキシメチルピロリジン−１−
イルメチル）−１−メチルビロリジンなどの２−アミノ
アルキルピロリジン誘導体が好ましい、また、スズ試薬
としてはスズ（ＩＩ ） ）リフラードとフッ化トリブ
チルスズの組合せを用いるのが好ましい。
本発明の好適な実施態様をスズ試薬としてスズ（■〉ト
リフラートとフッ化トリブチルスズとの組合せを用いる
場合を例にとって次に説明する。
リフラートとフッ化トリブチルスズとの組合せを用いる
場合を例にとって次に説明する。
スズ（ＩＩ）トリフラートと該スズ（■）トリフラート
に対して１．０〜１．２モル当量のフッ化トリブチルス
ズ及び該スズ（ＩＩ）トリフラートに対して１．０〜１
．５モル当量の光学活性ジアミンをジクロロメタン、ク
ロロホルムなどの不活性溶媒に溶解し、得られた溶液に
該スズ（ＩＩ）トリフラートに対して０．９〜１．１モ
ル当皿の一般式（１１）で示されるシリルエノールエー
テルを−１００〜−３０℃の範囲の温度、好ましくは一
７８°Ｃで添加し、次いで同温度で該スズ（ＩＩ）ｌ−
リフラードｌこ対して０．９〜１．１モル当量の一般式
（１）で示されるアルデヒドを加えたのち、１〜１５時
間攪拌することにより、一般式（ＩＩＩ）で示される光
学活性β−ヒドロキシチオエステルを製造することがで
きる。
に対して１．０〜１．２モル当量のフッ化トリブチルス
ズ及び該スズ（ＩＩ）トリフラートに対して１．０〜１
．５モル当量の光学活性ジアミンをジクロロメタン、ク
ロロホルムなどの不活性溶媒に溶解し、得られた溶液に
該スズ（ＩＩ）トリフラートに対して０．９〜１．１モ
ル当皿の一般式（１１）で示されるシリルエノールエー
テルを−１００〜−３０℃の範囲の温度、好ましくは一
７８°Ｃで添加し、次いで同温度で該スズ（ＩＩ）ｌ−
リフラードｌこ対して０．９〜１．１モル当量の一般式
（１）で示されるアルデヒドを加えたのち、１〜１５時
間攪拌することにより、一般式（ＩＩＩ）で示される光
学活性β−ヒドロキシチオエステルを製造することがで
きる。
反応液からの一般式（１１１）で示される光学活性β−
ヒドロキシチオエステルの分離・精製は常法に従って行
うことができる０例えば、反応液を重曹水にあけ、ジク
ロロメタン、ジエチルエーテルなどで抽出したのち、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィ、薄層クロマトグラフ
ィなどの分離・鞘型手段に付することにより、一般式（
ＩＩＩ）で示される光学活性β−ヒドロキシチオエステ
ルを得ることができる。
ヒドロキシチオエステルの分離・精製は常法に従って行
うことができる０例えば、反応液を重曹水にあけ、ジク
ロロメタン、ジエチルエーテルなどで抽出したのち、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィ、薄層クロマトグラフ
ィなどの分離・鞘型手段に付することにより、一般式（
ＩＩＩ）で示される光学活性β−ヒドロキシチオエステ
ルを得ることができる。
一般式（１）で示されるアルデヒド及び一般式（■１）
で示されるシリルエノールエーテルは公知化合物である
。
で示されるシリルエノールエーテルは公知化合物である
。
【実施ｆＲＪ
以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれにより限定されるものではない。
発明はこれにより限定されるものではない。
スズ（■）トリフラート０．４ｓｓｏｌ及び（Ｓ）−１
−メチル−２−（＋−ピペリジニルメチル）ピロリジン
０．４８園■ｏ１をジクロロメタン１ｍｌに溶解し、こ
の溶液に室温にてフッ化トリブチルスズ０．４４−ｍａ
ｌを加え、３０分間攪拌した０反応液を一７８°Ｃ＋こ
冷却したのち、その反応液に１−エチルチオ−１−トリ
メチルシロキシ上テン０．４−■Ｏ１をジクロロメタン
０．５ｍｌに溶解した溶液を滴下し、３０分間撹拌した
。得られた反応液にベンズアルデヒド０．３６−ｍａｌ
とジクロロメタン１ｍｌからなる溶液を加え、１２時間
撹拌したのち、得られた反応液に重曹水を加え、ジクロ
ロメタンで抽出した。抽出液を乾燥徨、減圧下に濃縮し
、得られた残漬をシリカゲル薄層クロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する（Ｓ）−５−一
エチル ３−ヒドロキシ−３−フェニルプロパンチオア
ート５９．０Ｉｇを得た（収率７８χ）。
−メチル−２−（＋−ピペリジニルメチル）ピロリジン
０．４８園■ｏ１をジクロロメタン１ｍｌに溶解し、こ
の溶液に室温にてフッ化トリブチルスズ０．４４−ｍａ
ｌを加え、３０分間攪拌した０反応液を一７８°Ｃ＋こ
冷却したのち、その反応液に１−エチルチオ−１−トリ
メチルシロキシ上テン０．４−■Ｏ１をジクロロメタン
０．５ｍｌに溶解した溶液を滴下し、３０分間撹拌した
。得られた反応液にベンズアルデヒド０．３６−ｍａｌ
とジクロロメタン１ｍｌからなる溶液を加え、１２時間
撹拌したのち、得られた反応液に重曹水を加え、ジクロ
ロメタンで抽出した。抽出液を乾燥徨、減圧下に濃縮し
、得られた残漬をシリカゲル薄層クロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する（Ｓ）−５−一
エチル ３−ヒドロキシ−３−フェニルプロパンチオア
ート５９．０Ｉｇを得た（収率７８χ）。
嘗Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＣ１ａ）δ：’１．１５（
ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 ２．７０（ｑ、２１１
．Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 ２．７０（ｄ、２１（、Ｊ＝６
．０Ｉ（ｚ）。
ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 ２．７０（ｑ、２１１
．Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 ２．７０（ｄ、２１（、Ｊ＝６
．０Ｉ（ｚ）。
３．１０（ｂｒｓ、ＩＨ）、 ４．８５（ｔ、１８．Ｊ
＝６．０Ｈｚ）、 ７．００（ｍ、５Ｈｚ光学純度
８２２ 実施例１において、（Ｓ）−１−メチル−２−（１−ピ
ペリジニルメチル）ピロリジン０．４８■■ｏｌの代わ
りに（Ｓ）−１−メチル−２−（１−ナフチルアミノメ
チル）ピロリジン０．４８■■ｏｌ又は（Ｓ、Ｓ） −
２−（２−メトキシメチルピロリジン−１−イルメチル
〉−１−／メチルピロリジン０．４８ｍｍｏｌを用いた
以外は実施例１と同様に反応及び分離・精製を行うこと
により、（Ｓ）−３−エチル ３−ヒドロキシ−３−フ
ェニルプロパンチオアートを得た。それぞれの反応成績
を第１表に示す。
＝６．０Ｈｚ）、 ７．００（ｍ、５Ｈｚ光学純度
８２２ 実施例１において、（Ｓ）−１−メチル−２−（１−ピ
ペリジニルメチル）ピロリジン０．４８■■ｏｌの代わ
りに（Ｓ）−１−メチル−２−（１−ナフチルアミノメ
チル）ピロリジン０．４８■■ｏｌ又は（Ｓ、Ｓ） −
２−（２−メトキシメチルピロリジン−１−イルメチル
〉−１−／メチルピロリジン０．４８ｍｍｏｌを用いた
以外は実施例１と同様に反応及び分離・精製を行うこと
により、（Ｓ）−３−エチル ３−ヒドロキシ−３−フ
ェニルプロパンチオアートを得た。それぞれの反応成績
を第１表に示す。
以下余白
第１表
光学純度 ８６χ
収率（χ）
光学純度（χ）
実ａｌＲ５〜７
２ ５２ ９
２７４７８ 実施例４ 実ｍ１Ｍ１において、１−エチルチオ−１−トリメチル
シロキシェテン０．４ｍａｏｌの代わりに１−ｔ−ブチ
ルチオ−１−トリメチルシロキシエテノ０．４−■ｏｌ
を用いた以外は実ｆａ例１と門様に反応及び分離・精製
を行うことにより、下記の物性を有する（Ｓ）−ｉ９−
を−ブチル ３−ヒドロキシ−３−フェニルプロパン
チオアート６２，５−ｇを得た（収率７コｚ）。
２７４７８ 実施例４ 実ｍ１Ｍ１において、１−エチルチオ−１−トリメチル
シロキシェテン０．４ｍａｏｌの代わりに１−ｔ−ブチ
ルチオ−１−トリメチルシロキシエテノ０．４−■ｏｌ
を用いた以外は実ｆａ例１と門様に反応及び分離・精製
を行うことにより、下記の物性を有する（Ｓ）−ｉ９−
を−ブチル ３−ヒドロキシ−３−フェニルプロパン
チオアート６２，５−ｇを得た（収率７コｚ）。
Ｈ−Ｎ１４Ｒスペクトル（ＣＣＩ、）δ：１．４５（ｓ
、９Ｈ）、 ２．６５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、
３．０５（ｂｒｓ、ＬＨ）、 ４．８５（ｔ、ＩＨ，
Ｊ＝８．０Ｈｚ）、 ？、ＣＭｌ（ｍ、５）１） 実ｆｉ（Ｍｌにおイテ、ベンズアルデヒド０．３６ｓｓ
ｏｌ）代わりにβ−フェニルプロピオンアルデヒド０．
３６−■ｏｌ、イソブチルアルデヒド メチルアセトアルデヒドＯ．コロ■−ｏｌを用いた以外
は実施例１と同様ｉ；反応及び分離・饋製を行うことに
よ免、それぞれ対応する（Ｓ）−Ｓ−エチル クーヒド
ロキシ−５−フェニルペンタンチオアート、（ Ｓ）−
Ｓ−エチル ３−ヒドロキシ−４−メチルペンタンチオ
アート、（Ｓ）−３−エチル ３−ヒドロキシ−４、４
−ジメチルベンクンチオアートを得た．それぞれの反応
成績を第２表に示す。
、９Ｈ）、 ２．６５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、
３．０５（ｂｒｓ、ＬＨ）、 ４．８５（ｔ、ＩＨ，
Ｊ＝８．０Ｈｚ）、 ？、ＣＭｌ（ｍ、５）１） 実ｆｉ（Ｍｌにおイテ、ベンズアルデヒド０．３６ｓｓ
ｏｌ）代わりにβ−フェニルプロピオンアルデヒド０．
３６−■ｏｌ、イソブチルアルデヒド メチルアセトアルデヒドＯ．コロ■−ｏｌを用いた以外
は実施例１と同様ｉ；反応及び分離・饋製を行うことに
よ免、それぞれ対応する（Ｓ）−Ｓ−エチル クーヒド
ロキシ−５−フェニルペンタンチオアート、（ Ｓ）−
Ｓ−エチル ３−ヒドロキシ−４−メチルペンタンチオ
アート、（Ｓ）−３−エチル ３−ヒドロキシ−４、４
−ジメチルベンクンチオアートを得た．それぞれの反応
成績を第２表に示す。
ｌ″Ａ下余白
第２表
実施例８
実施例
収車
光学純度
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
（ ｚ）
＜Ｘ）
（ＣＣ１，）δ ：
０
７
０
８
５
〉９５
１、２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。
１、５０−１．９０（ｍ，２Ｈ）。
２、６０−３．０５（ｓ，７Ｈ）。
３、７５−４．１０（ｍ，ＩＨ）。
７、１０（ｍ，５Ｈ）
０、９０（ｄ，８Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。
１、２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）。
１、４０−１．８０（ｍ，１）１）。
２、５０−２．７５（閣，３Ｈ）。
２、８５（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．ＯＨｚ）。
３、７０（ｓ，１８）
０、９０（ｓ，３Ｈ）、 １．２５（ｔ。
３１１、Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 ２．４５−２、７５（
■，３１）、 ２．８５（ｑ。
■，３１）、 ２．８５（ｑ。
スズ（１１）トリフラート０．４厘＊ｏｌ及び（Ｓ）−
１−メチル−２−四一ナフチルアミノメチル）ピロリジ
ン０．４８ｍ■ａｌをジクロロメタン１口ｌに溶解し、
この溶液に室温にてフッ化トリブチルスズ０．４４−１
０１を加え、３０分間撹拌した．反応液を一７８°Ｃに
冷却したのち、その反応液に（Ｚ）−１−エチルチオ−
１−トリメチルシロキシ−！ープロペン０．４−■Ｏｌ
をジクロロメータン０．５ｍｌに溶解した溶液を滴下し
、３０分間攪拌した．得られた反応液にベンズアルデヒ
ド０，３６−■ａｌとジクロロメタン１ｍｌからなる溶
液を加え、３時間攪拌したｔ＆．ＰＪられた反応溶液に
重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出した．抽出液を乾
燥徨、減圧下に濃縮し、得られた残漬をシリカゲルｆｌ
ｌｌｌクロマトグラフィで精製することにより、下記の
物性を有する（２Ｓ，３Ｓ） −３−エチル ２−メチ
ルーコーヒドロキシーコーフェニルプロパンチオアート
８９、４ｍｇを得た（収車８６％、ｓｙｎｔｏａ％）、
なお、光学純度は（Ｓ）−メトキシトリフルオロメチル
フェニルｒｎ酸のエステルとしてジアステレオマーの比
率より求めた。
１−メチル−２−四一ナフチルアミノメチル）ピロリジ
ン０．４８ｍ■ａｌをジクロロメタン１口ｌに溶解し、
この溶液に室温にてフッ化トリブチルスズ０．４４−１
０１を加え、３０分間撹拌した．反応液を一７８°Ｃに
冷却したのち、その反応液に（Ｚ）−１−エチルチオ−
１−トリメチルシロキシ−！ープロペン０．４−■Ｏｌ
をジクロロメータン０．５ｍｌに溶解した溶液を滴下し
、３０分間攪拌した．得られた反応液にベンズアルデヒ
ド０，３６−■ａｌとジクロロメタン１ｍｌからなる溶
液を加え、３時間攪拌したｔ＆．ＰＪられた反応溶液に
重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出した．抽出液を乾
燥徨、減圧下に濃縮し、得られた残漬をシリカゲルｆｌ
ｌｌｌクロマトグラフィで精製することにより、下記の
物性を有する（２Ｓ，３Ｓ） −３−エチル ２−メチ
ルーコーヒドロキシーコーフェニルプロパンチオアート
８９、４ｍｇを得た（収車８６％、ｓｙｎｔｏａ％）、
なお、光学純度は（Ｓ）−メトキシトリフルオロメチル
フェニルｒｎ酸のエステルとしてジアステレオマーの比
率より求めた。
Ｈ−ＮＭＲスヘクトル（ＣＣｈ）δ：１．１０（ｄ、３
Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 １．１５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７
．０Ｈｚ）、 ２．６５（ｂｒｓ、ＩＨ）、 ２．７５
（ｊＩＨ）、 ２．８０（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
、 ５．００（ｄ、ＩＩ（、Ｊ：４．ＯＩＩり。
Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 １．１５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７
．０Ｈｚ）、 ２．６５（ｂｒｓ、ＩＨ）、 ２．７５
（ｊＩＨ）、 ２．８０（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
、 ５．００（ｄ、ＩＩ（、Ｊ：４．ＯＩＩり。
７．２０（ｍ、５）１）
光学純度 〉９８χ
コ５）−５−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシーコ
ーフェニルプロパンチオアートを得た。それぞれの反応
成績を第３表に示す。
ーフェニルプロパンチオアートを得た。それぞれの反応
成績を第３表に示す。
第３表
実！１例 収率 Ｂｎ／ａｎｔｉ 光学純
度（Ｘ） １） ｇ３／７ 実ｒｆ、例９および１０ ８８／１２ 実施例８において、（Ｓ）−１−メチル−２−（１−ナ
フチルアミノメチル）ピロリジン０．４８−■ｏｌの代
わりに（Ｓ）−１−メチル−２−（ｌ−ピペリジニルメ
チル）ピロリジン０．４８ｍ曽ｏ１又は（Ｓ、 Ｓ）
−２−（２−メトキシメチルピロリジン−１−イルメ
チル）−１−メチルピロリジン０．４８■■Ｏ１を用い
、ベンズアルデヒド添加ｆ！２０１ｆＩＩＪｌｌｌ拌し
た以外は実施例８と同様に反応及び分離・精製を行うこ
とにより（２Ｓ。
度（Ｘ） １） ｇ３／７ 実ｒｆ、例９および１０ ８８／１２ 実施例８において、（Ｓ）−１−メチル−２−（１−ナ
フチルアミノメチル）ピロリジン０．４８−■ｏｌの代
わりに（Ｓ）−１−メチル−２−（ｌ−ピペリジニルメ
チル）ピロリジン０．４８ｍ曽ｏ１又は（Ｓ、 Ｓ）
−２−（２−メトキシメチルピロリジン−１−イルメ
チル）−１−メチルピロリジン０．４８■■Ｏ１を用い
、ベンズアルデヒド添加ｆ！２０１ｆＩＩＪｌｌｌ拌し
た以外は実施例８と同様に反応及び分離・精製を行うこ
とにより（２Ｓ。
実ｎ例１１〜１Ｂ
ＳＹｎ ａｎｔｉ
実施例８において、ベンズアルデヒド０，３６■ｍｏｌ
の代わりにｐ−クロロベンズアルデヒド０．３６■■ｏ
ｌ、 ρ−メチルペンズアルデヒド０．３６■■ｏ１
．ｐ−メトキシベンズアルデヒド０．３６■■ｏｌ、
イソブチルアルデヒド０．３６■■ｏｌ、 シクロ
ヘキサンカルブアルデヒド０゜３８■■ｏｌ又はオクタ
ナール０．３６■■ｏｌを用いた以外は実施例８と同様
に反応及び分離・精製を行うことにより、それぞれ対応
する（２Ｓ、３Ｓ）−Ｓ−エチル ２−メチルーコーヒ
ドロキシー３−（４−クロロフェニル）プロパンチオア
ート、（２Ｓ、３Ｓ）−Ｓ−エチル ２−メチル−３−
ヒドロキシーコー（４−メチルフェニル）プロパンチオ
アート、（１，３３）−３−エチル２−メチル−３−ヒ
ドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパンチオ
アート、（２Ｓ、３Ｒ）−Ｓ−エチル ２−メチル−３
−ヒドロキシ−４−メチルペンタンチオアート、（２Ｓ
、３Ｒ）−Ｓ−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシ−
３−シクロヘキシルプロパンチオアート又は（２Ｓ、コ
Ｒ）−３−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシデカン
チオアートを得た。それぞれの反応成績を第４表に示す
。
の代わりにｐ−クロロベンズアルデヒド０．３６■■ｏ
ｌ、 ρ−メチルペンズアルデヒド０．３６■■ｏ１
．ｐ−メトキシベンズアルデヒド０．３６■■ｏｌ、
イソブチルアルデヒド０．３６■■ｏｌ、 シクロ
ヘキサンカルブアルデヒド０゜３８■■ｏｌ又はオクタ
ナール０．３６■■ｏｌを用いた以外は実施例８と同様
に反応及び分離・精製を行うことにより、それぞれ対応
する（２Ｓ、３Ｓ）−Ｓ−エチル ２−メチルーコーヒ
ドロキシー３−（４−クロロフェニル）プロパンチオア
ート、（２Ｓ、３Ｓ）−Ｓ−エチル ２−メチル−３−
ヒドロキシーコー（４−メチルフェニル）プロパンチオ
アート、（１，３３）−３−エチル２−メチル−３−ヒ
ドロキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパンチオ
アート、（２Ｓ、３Ｒ）−Ｓ−エチル ２−メチル−３
−ヒドロキシ−４−メチルペンタンチオアート、（２Ｓ
、３Ｒ）−Ｓ−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシ−
３−シクロヘキシルプロパンチオアート又は（２Ｓ、コ
Ｒ）−３−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシデカン
チオアートを得た。それぞれの反応成績を第４表に示す
。
以下余白
実ＢｒＬＲ８１： オイテ、 （Ｚ） −Ｌ−ｘチル’
ｒｔ −１−トリメチルシロキシ−１−プロペン０．４
−ａ＋ｏｌの代わりに（Ｅ）−１−エチルチオ−１−ト
リメチルシロキシ−１−プロペンＯ，ｔｗｍｏｌを用い
た以外は実施例８と同様に反応及び分離・精製を行うこ
とにより、Ｓ−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシ−
３−フェニルプロパンチオアート５２．４−ｇを得た（
収″Ｉ！６５Ｌ ｓｙｎ／ ａｎｔｉ＝７０／３０）。
ｒｔ −１−トリメチルシロキシ−１−プロペン０．４
−ａ＋ｏｌの代わりに（Ｅ）−１−エチルチオ−１−ト
リメチルシロキシ−１−プロペンＯ，ｔｗｍｏｌを用い
た以外は実施例８と同様に反応及び分離・精製を行うこ
とにより、Ｓ−エチル ２−メチル−３−ヒドロキシ−
３−フェニルプロパンチオアート５２．４−ｇを得た（
収″Ｉ！６５Ｌ ｓｙｎ／ ａｎｔｉ＝７０／３０）。
、 ｓｙｎ体の光学純度 ５５ｚ
Ｃ発明の効果］
本発明によれば、前記一般式（［１１）で表される光学
活性β−ヒドロキシチオエステルを高い光学収車かつ高
収車で製造することがｑ能である。
活性β−ヒドロキシチオエステルを高い光学収車かつ高
収車で製造することがｑ能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 Ｒ＾１ＣＨＯ （式中、Ｒ＾１はアルキル基、シクロアルキル基、アラ
ルキル基又はアリール基を表す。） で示されるアルデヒドと一般式 Ｒ＾３ＣＨ＝ＣＳＲ＾２ ＯＳｉ（Ｒ＾４）＿３ （式中、Ｒ＾２及びＲ＾４はそれぞれアルキル基を表し
、Ｒ＾３は水素原子又はアルキル基を▲数式、化学式、
表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上記定義の通りで
あり、＾＊Ｃは不斉炭素原子を表す。） で示される光学活性β−ヒドロキシチオエステルの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1203142A JP2710837B2 (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 光学活性β―ヒドロキシチオエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1203142A JP2710837B2 (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 光学活性β―ヒドロキシチオエステルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0366664A true JPH0366664A (ja) | 1991-03-22 |
| JP2710837B2 JP2710837B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16469112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1203142A Expired - Fee Related JP2710837B2 (ja) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | 光学活性β―ヒドロキシチオエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2710837B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2008018297A1 (ja) * | 2006-08-08 | 2009-12-24 | 株式会社アルバック | 巻取式真空成膜装置 |
-
1989
- 1989-08-04 JP JP1203142A patent/JP2710837B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2008018297A1 (ja) * | 2006-08-08 | 2009-12-24 | 株式会社アルバック | 巻取式真空成膜装置 |
| JP4958906B2 (ja) * | 2006-08-08 | 2012-06-20 | 株式会社アルバック | 巻取式真空成膜装置 |
| US8333841B2 (en) | 2006-08-08 | 2012-12-18 | Ulvac, Inc. | Roll-to-roll vacuum deposition apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2710837B2 (ja) | 1998-02-10 |
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