JPH0370856B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0370856B2 JPH0370856B2 JP57133450A JP13345082A JPH0370856B2 JP H0370856 B2 JPH0370856 B2 JP H0370856B2 JP 57133450 A JP57133450 A JP 57133450A JP 13345082 A JP13345082 A JP 13345082A JP H0370856 B2 JPH0370856 B2 JP H0370856B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating support
- vapor deposition
- pressure
- magnetic layer
- nip roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高分子生計物基板上に強磁性金属薄
膜を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
膜を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録分野における記録密度の向上は目覚し
く、従来より理論的にも損失の少ない媒体として
知られている、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒
体が一部オーデイオ用に実用化され、ビデオ用途
でも実用が近いといわれている。
く、従来より理論的にも損失の少ない媒体として
知られている、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒
体が一部オーデイオ用に実用化され、ビデオ用途
でも実用が近いといわれている。
短波長記録に適した媒体を得る上で重要なの
は、高い保磁力で、角形比の良好な磁性層をいか
に高速で得るかということである。
は、高い保磁力で、角形比の良好な磁性層をいか
に高速で得るかということである。
これまで知られている範囲では、回転支持体に
沿つて移動する高分子成形物基板上に、酸素雰囲
気中で斜方蒸着する方法が、実用的である。
沿つて移動する高分子成形物基板上に、酸素雰囲
気中で斜方蒸着する方法が、実用的である。
本発明は、そのような方法を基礎として、更に
生産性を向上する研究を進めた結果、蒸着後、同
一回転支持体上で、ローラにより磁性層をほぼ等
方的に押圧すると、より性能の良好な磁性層を得
られることを見出したことにもとづきなされたも
のである。
生産性を向上する研究を進めた結果、蒸着後、同
一回転支持体上で、ローラにより磁性層をほぼ等
方的に押圧すると、より性能の良好な磁性層を得
られることを見出したことにもとづきなされたも
のである。
同一回転支持体上で押圧することが必ずしも必
要条件ではないが、蒸着後の押圧を別ローラーに
より行う様構成した時にはクラツクが発生する恐
れがあることや、回転支持体と移動する基板の運
動速度が同一でないときに時として起る回転支持
体に接する側の基板面におけるキズの発生などの
不都合を防ぐことからも、同一回転支持体上での
押圧が好ましいといえる。
要条件ではないが、蒸着後の押圧を別ローラーに
より行う様構成した時にはクラツクが発生する恐
れがあることや、回転支持体と移動する基板の運
動速度が同一でないときに時として起る回転支持
体に接する側の基板面におけるキズの発生などの
不都合を防ぐことからも、同一回転支持体上での
押圧が好ましいといえる。
第１図は本発明を実施するために用いた巻取り
蒸着装置の要部構成図である。
蒸着装置の要部構成図である。
回転支持体１に沿つて、高分子成形物基板２は
送り出し軸３より巻取り軸４へ移動するよう構成
される。蒸着源５としては電子ビーム蒸発源を用
い模式的に示している。
送り出し軸３より巻取り軸４へ移動するよう構成
される。蒸着源５としては電子ビーム蒸発源を用
い模式的に示している。
入射角規制マスク６により規制された蒸気流７
により、強磁性層が形成される。
により、強磁性層が形成される。
８は本発明のポイントニツプローラーである。
材質はシリコンゴムかフツ素ゴムが好ましく、表
面粗さは0.2S程度であれば良い。θは、ニツプロ
ーラー８の位置と回転支持体１の軸とを結ぶ線
が、鉛直下方となす角度である。
材質はシリコンゴムかフツ素ゴムが好ましく、表
面粗さは0.2S程度であれば良い。θは、ニツプロ
ーラー８の位置と回転支持体１の軸とを結ぶ線
が、鉛直下方となす角度である。
押圧力は、ゴム硬度と、バネ圧等で調整される
が、第２図に示したように、圧力により強磁性層
の特性向上の効果は異る。
が、第２図に示したように、圧力により強磁性層
の特性向上の効果は異る。
以下に、より具体的な実施例を説明する。
円筒状回転キヤンの直径を50cmと100cmの２種
類について実施した。また、第１図におけるニツ
プローラー８の位置を表わすθについて、θ1＝
45°、θ2＝80°、θ3＝180°の３つの場合に差がある
かどうか調べた。この結果、キヤン直径、あるい
はニツプローラーの位置には殆んど関係なく、圧
力がある値以上あれば良いことが確認された。
類について実施した。また、第１図におけるニツ
プローラー８の位置を表わすθについて、θ1＝
45°、θ2＝80°、θ3＝180°の３つの場合に差がある
かどうか調べた。この結果、キヤン直径、あるい
はニツプローラーの位置には殆んど関係なく、圧
力がある値以上あれば良いことが確認された。
第２図は、３×10-5Torrと酸素雰囲気中で
Co85％、Ni15％を最小入射角44°で蒸着した厚さ
0.13μｍ（基板はポリエチレンテレフタレートフ
イルム、厚さ11μｍ）の磁性層の特性を示す。
Co85％、Ni15％を最小入射角44°で蒸着した厚さ
0.13μｍ（基板はポリエチレンテレフタレートフ
イルム、厚さ11μｍ）の磁性層の特性を示す。
この場合は300ｇ／cm2以上あれば角形比は１に
なり、保磁力も本発明によらない場合よりも18％
余り大きい値を実現できた。
なり、保磁力も本発明によらない場合よりも18％
余り大きい値を実現できた。
この変化率は、磁性材料、最小入射角にもよる
が、おおむね20％程度の保磁力増が確保できるも
ので、そのメカニズムは明らかではないが、薄膜
形成直後であるため、結晶の整列性、欠陥の増加
等が顕著に誘起されるためとみられる。このこと
を間接的に確かめるため、蒸着後、大気中に取出
して、同様の圧力をかけても、磁気特性は全く変
化しなかつた。
が、おおむね20％程度の保磁力増が確保できるも
ので、そのメカニズムは明らかではないが、薄膜
形成直後であるため、結晶の整列性、欠陥の増加
等が顕著に誘起されるためとみられる。このこと
を間接的に確かめるため、蒸着後、大気中に取出
して、同様の圧力をかけても、磁気特性は全く変
化しなかつた。
また逆に、蒸着後１秒以内となるような条件を
第１図に示した装置で実現することは実験的には
できるが、実用性はない。（ニツプローラーに蒸
着膜が形成され、その膜がやがてはくりするトラ
ブルが発生したりするので）。確認していないが、
その場合に予測される効果は、第２図の曲線が圧
力の小さい側へシフトするだけと考えられる。
第１図に示した装置で実現することは実験的には
できるが、実用性はない。（ニツプローラーに蒸
着膜が形成され、その膜がやがてはくりするトラ
ブルが発生したりするので）。確認していないが、
その場合に予測される効果は、第２図の曲線が圧
力の小さい側へシフトするだけと考えられる。
θは45°〜180°でも第２図に示した効果は同じ
であつた。実用上はθは120°ぐらいにとればいい
といえる。
であつた。実用上はθは120°ぐらいにとればいい
といえる。
以上説明したように本発明によると、同一速度
での製造では特性向上がはかれるし、同一特性を
得る時には、最小入射角を小さくして蒸着効率を
大きくできる。
での製造では特性向上がはかれるし、同一特性を
得る時には、最小入射角を小さくして蒸着効率を
大きくできる。
第１図は本発明を実施するために用いた巻取蒸
着装置の要部構成例を示す図、第２図はニツプロ
ーラー押圧力と得られる磁気特性の関係を示す図
である。 １……回転支持体、２……基板、５……蒸発
源、８……ニツプローラー。
着装置の要部構成例を示す図、第２図はニツプロ
ーラー押圧力と得られる磁気特性の関係を示す図
である。 １……回転支持体、２……基板、５……蒸発
源、８……ニツプローラー。
Claims (1)
- １ 回転支持体に沿つて移動する高分子成形物基
板上に磁性層を蒸着にて形成し、蒸着直後に上記
回転支持体に沿つた状態でローラにより上記磁性
層を300ｇ／cm2以上の圧力で押圧処理することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57133450A JPS5924447A (ja) | 1982-07-29 | 1982-07-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57133450A JPS5924447A (ja) | 1982-07-29 | 1982-07-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5924447A JPS5924447A (ja) | 1984-02-08 |
| JPH0370856B2 true JPH0370856B2 (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=15105055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57133450A Granted JPS5924447A (ja) | 1982-07-29 | 1982-07-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924447A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6031012B2 (ja) * | 1976-08-17 | 1985-07-19 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録体の製造方法 |
-
1982
- 1982-07-29 JP JP57133450A patent/JPS5924447A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5924447A (ja) | 1984-02-08 |
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