JPH0380506A - 磁気記録用金属磁性粉末の製造方法 - Google Patents
磁気記録用金属磁性粉末の製造方法Info
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- JPH0380506A JPH0380506A JP1216978A JP21697889A JPH0380506A JP H0380506 A JPH0380506 A JP H0380506A JP 1216978 A JP1216978 A JP 1216978A JP 21697889 A JP21697889 A JP 21697889A JP H0380506 A JPH0380506 A JP H0380506A
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- Japan
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- iron oxide
- lanthanum
- ferric
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録用に好適な鉄系金属磁性粉末の製造
方法に関する。
方法に関する。
磁気記録媒体は、近年その記録密度を向上させ、より小
型のもの、より高性能なものに改善しようとする指向が
一段と強まってきている。これにともない、磁気記録用
磁性粉末として、酸化鉄系磁性粉末に比べて、飽和磁化
および保磁力が大きい鉄または鉄系金属磁性粉末(以下
、金属磁性粉末という)が注目されている。金8141
性粉末は、デジクルオーディオチーブ への実用が図られつつあるが、近時さらに高画質ビデオ
テープ、高記録密度ディスクなど、高性能記録媒体への
適用が一層期待されている。
型のもの、より高性能なものに改善しようとする指向が
一段と強まってきている。これにともない、磁気記録用
磁性粉末として、酸化鉄系磁性粉末に比べて、飽和磁化
および保磁力が大きい鉄または鉄系金属磁性粉末(以下
、金属磁性粉末という)が注目されている。金8141
性粉末は、デジクルオーディオチーブ への実用が図られつつあるが、近時さらに高画質ビデオ
テープ、高記録密度ディスクなど、高性能記録媒体への
適用が一層期待されている。
近年、高性能磁気記録用台R磁性粉末として、これがた
とえば針状粒子の場合、通常、長軸が約0、5μm1さ
らには0.3μm以下の微細で焼結のないものが要求さ
れ、かつ、このものを磁性塗料としたときの分散性、そ
の塗膜での配向性、充填性、表面平滑性などの一層優れ
たものが希求されている。とりわけ、粒子性ノイズ低減
による高出力化をはかるためには、さらに超微細わ)が
要求されており、このために、針状粒子を形成する結晶
子の大きさく以下Lcという〉を小さくすることが、針
状形骸粒子を゛小さくすることと共に一層重要となって
きている。このために、まず出発原料の含水酸化鉄や酸
化鉄は、その粒子が微細であって、かつ良好な粒度分布
のものが所望されている。
とえば針状粒子の場合、通常、長軸が約0、5μm1さ
らには0.3μm以下の微細で焼結のないものが要求さ
れ、かつ、このものを磁性塗料としたときの分散性、そ
の塗膜での配向性、充填性、表面平滑性などの一層優れ
たものが希求されている。とりわけ、粒子性ノイズ低減
による高出力化をはかるためには、さらに超微細わ)が
要求されており、このために、針状粒子を形成する結晶
子の大きさく以下Lcという〉を小さくすることが、針
状形骸粒子を゛小さくすることと共に一層重要となって
きている。このために、まず出発原料の含水酸化鉄や酸
化鉄は、その粒子が微細であって、かつ良好な粒度分布
のものが所望されている。
しかしながら、前記出発原料はそれが微細なものであれ
ばあるほど目的物への還元過程で、粒子内焼結により針
状形状が変化したり、粒子間焼結により架橋や粒子の粗
大化を起こしたりして、目的物の磁気特性に著しく悪影
響を与える。
ばあるほど目的物への還元過程で、粒子内焼結により針
状形状が変化したり、粒子間焼結により架橋や粒子の粗
大化を起こしたりして、目的物の磁気特性に著しく悪影
響を与える。
しかして、前記問題点を解決すべく、従来から種々の方
法が提案されている。たとえば、含水酸化鉄または酸化
鉄の粒子表面に、ケイ素化合物、アルミニウム化合物、
ホウ素化合物などのいわゆる形状保持剤を被着処理した
後、加熱還元処理する方法が良く知られている。しかし
ながら、これらの方法は、粒子形状の崩れや粒子間焼結
などをある程度改善し得るものの、反面前記還元反応の
進行が阻害され易かったり、LCを小さくコントロール
するには至っていない。また出来るだけ低温で還元する
方法は、Lcは小さくできるものの、還元に長時間を要
するなどの問題がある。さらに、還元を途中で止めて、
Lcが大きくなるのをW5ぐ方法は、飽和磁化が低くな
ることが避けられず、金属Kii性粉末の特長が損なわ
れ易く、また還元籾1υjにα−Feの種結晶を数多く
生成させ、これらの成長をコントロールすることも試み
られたりしている。しかしながらいずれの場合も、未だ
前記問題点を十分解決するに至っていない。
法が提案されている。たとえば、含水酸化鉄または酸化
鉄の粒子表面に、ケイ素化合物、アルミニウム化合物、
ホウ素化合物などのいわゆる形状保持剤を被着処理した
後、加熱還元処理する方法が良く知られている。しかし
ながら、これらの方法は、粒子形状の崩れや粒子間焼結
などをある程度改善し得るものの、反面前記還元反応の
進行が阻害され易かったり、LCを小さくコントロール
するには至っていない。また出来るだけ低温で還元する
方法は、Lcは小さくできるものの、還元に長時間を要
するなどの問題がある。さらに、還元を途中で止めて、
Lcが大きくなるのをW5ぐ方法は、飽和磁化が低くな
ることが避けられず、金属Kii性粉末の特長が損なわ
れ易く、また還元籾1υjにα−Feの種結晶を数多く
生成させ、これらの成長をコントロールすることも試み
られたりしている。しかしながらいずれの場合も、未だ
前記問題点を十分解決するに至っていない。
本発明は、前記問題点を一掃して、工業的有利に磁気記
録用金属磁性粉末を製造できる方法を提供することを目
的とするものである。
録用金属磁性粉末を製造できる方法を提供することを目
的とするものである。
本発明者等は、かねてより前記問題点を解決すべく種々
検討を進める中で、含水酸化鉄または酸化鉄を主体とす
る金属化合物を、加熱還元処理するに先立って、特定の
特性改良処理剤を特定順序で組み合せ処理し、かつこの
ものを特定の雰囲気下、特定温度で加熱処理することに
よって、還元反応を容易に進め得るとともに、粒子形状
の崩れや粒子間焼結を実質的に回避し得るとともに、得
られる金属磁性粉末は緻密でLcの小さな結晶となり易
く、このものは高記録密度用磁気記録媒体に極めて好適
なものとなり得ることの知見を得、本発明を完成したも
のである。すなわち、本発明は、 (1) 含水酸化鉄または酸化鉄を主体として含む金
属化合物の粒子表面に、第二鉄化合物と、ランタン化合
物および/またはセリウム化合物とを被着処理後、形状
保持剤と還元反応促進剤とを被着し、次いで非還元性雰
囲気下700〜900℃の温度で加熱処理し、しかる後
加熱還元処理することを特徴とする磁気記録用金属磁性
粉末の製造方法。
検討を進める中で、含水酸化鉄または酸化鉄を主体とす
る金属化合物を、加熱還元処理するに先立って、特定の
特性改良処理剤を特定順序で組み合せ処理し、かつこの
ものを特定の雰囲気下、特定温度で加熱処理することに
よって、還元反応を容易に進め得るとともに、粒子形状
の崩れや粒子間焼結を実質的に回避し得るとともに、得
られる金属磁性粉末は緻密でLcの小さな結晶となり易
く、このものは高記録密度用磁気記録媒体に極めて好適
なものとなり得ることの知見を得、本発明を完成したも
のである。すなわち、本発明は、 (1) 含水酸化鉄または酸化鉄を主体として含む金
属化合物の粒子表面に、第二鉄化合物と、ランタン化合
物および/またはセリウム化合物とを被着処理後、形状
保持剤と還元反応促進剤とを被着し、次いで非還元性雰
囲気下700〜900℃の温度で加熱処理し、しかる後
加熱還元処理することを特徴とする磁気記録用金属磁性
粉末の製造方法。
(勿 形状保持剤を被着し、しかる後還元反応促進剤を
被着することを特徴とする特許請求の範囲第i1)項記
載の磁気記録用金属磁性粉末の製造方法、および (3)形状保持剤がケイ素化合6および/またはアルミ
ニウム化合物であり、還元反応促進剤がニッケル化合物
であることを特徴とする特許請求の範囲第T1)項また
は第(2)項記載の磁気記録用金属C’tl性粉末の製
造方法である。
被着することを特徴とする特許請求の範囲第i1)項記
載の磁気記録用金属磁性粉末の製造方法、および (3)形状保持剤がケイ素化合6および/またはアルミ
ニウム化合物であり、還元反応促進剤がニッケル化合物
であることを特徴とする特許請求の範囲第T1)項また
は第(2)項記載の磁気記録用金属C’tl性粉末の製
造方法である。
本発明において、基体粒子としての含水酸化鉄または酸
化鉄を主体として含む金属化合物には種々のものがある
。含水酸化鉄の代表的なものとしてオキシ水酸化鉄があ
り、たとえばα−1’eooII、β−FeOOII、
r−FeOollなどを挙げ得る。また酸化鉄としては
、たとえばα−Fez(1+、p6204、γ−Fe2
oz、γ−Fe、03を部分還元して得られるようなベ
ル1−ライド化合物などが使用できる。なお、前記の含
水酸化鉄または酸化鉄の粒子形状は、代表的には針状で
あるが、それ以外の種々の形状のものが使用できる。た
とえば紡錘状、米粒状、棒状、平板状、ザイコロ状など
である。
化鉄を主体として含む金属化合物には種々のものがある
。含水酸化鉄の代表的なものとしてオキシ水酸化鉄があ
り、たとえばα−1’eooII、β−FeOOII、
r−FeOollなどを挙げ得る。また酸化鉄としては
、たとえばα−Fez(1+、p6204、γ−Fe2
oz、γ−Fe、03を部分還元して得られるようなベ
ル1−ライド化合物などが使用できる。なお、前記の含
水酸化鉄または酸化鉄の粒子形状は、代表的には針状で
あるが、それ以外の種々の形状のものが使用できる。た
とえば紡錘状、米粒状、棒状、平板状、ザイコロ状など
である。
これら基体粒子の中、とくに望ましいのは釧状α−Fe
001)およびγ−FeOOIlである。また基体粒子
は、その比表面積が55m/g以上の針状含水酸化鉄ま
たは40rd/g以上の針状酸化鉄のように微細なもの
が好適である。なお、基体粒子は、P+Co+Cr+M
n+Cu、八glCdlCa1MglSrlZnlSn
、WIZr化合物などの各種添加剤の含有を妨げない。
001)およびγ−FeOOIlである。また基体粒子
は、その比表面積が55m/g以上の針状含水酸化鉄ま
たは40rd/g以上の針状酸化鉄のように微細なもの
が好適である。なお、基体粒子は、P+Co+Cr+M
n+Cu、八glCdlCa1MglSrlZnlSn
、WIZr化合物などの各種添加剤の含有を妨げない。
本発明において、前記含水酸化鉄または酸化鉄を主体と
する金属化合物の粒子表面に、第二鉄化合物とランタン
化合物および/またはセリウム化合物をそれらの含水酸
化物として被着後、形状保持成分と還元反応促進剤を被
着する。この被着処理について、針状α−FeOOIl
を基体粒子として使用する場合を例にとり、その代表的
な工程について説明する。
する金属化合物の粒子表面に、第二鉄化合物とランタン
化合物および/またはセリウム化合物をそれらの含水酸
化物として被着後、形状保持成分と還元反応促進剤を被
着する。この被着処理について、針状α−FeOOIl
を基体粒子として使用する場合を例にとり、その代表的
な工程について説明する。
まず微細なゲーサイトの水性懸濁液を調整する。
この懸濁液は必要に応じアルカリ性化合物たとえば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなど、また
は酸性化合物たとえば硫酸、塩酸などによりpHを3.
5〜12.5に調整するのがよい。また、この懸濁液に
必要に応じ適当な分散剤たとえばリン酸およびリン酸塩
、ポリアクリル酸塩などを添加してゲーサイトの分子t
kを良くすることができる。リン酸としてオルトリン酸
、亜リン酸など、リン酸塩としてヘキサメタリン酸ナト
リウム、ピロリン酸ナトリウムなどを使用するときは、
普通ゲーサイトに対し0.1〜3%(P換算重量%)が
好ましい添加量である。なお、基体粒子中のP含有量が
多くなると、Lcが大きくなり易いので1.5%程度以
下であるのが特に望ましい。
化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなど、また
は酸性化合物たとえば硫酸、塩酸などによりpHを3.
5〜12.5に調整するのがよい。また、この懸濁液に
必要に応じ適当な分散剤たとえばリン酸およびリン酸塩
、ポリアクリル酸塩などを添加してゲーサイトの分子t
kを良くすることができる。リン酸としてオルトリン酸
、亜リン酸など、リン酸塩としてヘキサメタリン酸ナト
リウム、ピロリン酸ナトリウムなどを使用するときは、
普通ゲーサイトに対し0.1〜3%(P換算重量%)が
好ましい添加量である。なお、基体粒子中のP含有量が
多くなると、Lcが大きくなり易いので1.5%程度以
下であるのが特に望ましい。
次に、前記水性懸濁液中の基体粒子に、第二鉄化合物と
ランタン化合物および/またはセリウム化合物とを被着
処理する。これには種々の方法があるが、工業的には、
ランタンとセリウムの硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、塩化物
などと塩化第二鉄、rIl’l酸第二鉄酸第酸鉄二鉄の
所定量を別々または予め混合した水溶液を前記懸濁液に
添加後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニ
ア水等のアルカリをpHが7.0〜1).5の範囲にな
るよう添加し、被着する方法や、予め前記添加塩類に対
する中和当量分のアルカリを前記水性懸濁液に加えてお
いた後、前記第二鉄化合物とランタン化合物および/ま
たはセリウム化合物を添加する方法が望ましいが、別に
第二鉄およびランタン化合物および/またはセリウム化
合物の塩類混合液に、アルカリを添加することで作成し
た共沈生成物を前記水性懸sii液に添加し、混合、熟
成処理により被着することもできる。
ランタン化合物および/またはセリウム化合物とを被着
処理する。これには種々の方法があるが、工業的には、
ランタンとセリウムの硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、塩化物
などと塩化第二鉄、rIl’l酸第二鉄酸第酸鉄二鉄の
所定量を別々または予め混合した水溶液を前記懸濁液に
添加後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニ
ア水等のアルカリをpHが7.0〜1).5の範囲にな
るよう添加し、被着する方法や、予め前記添加塩類に対
する中和当量分のアルカリを前記水性懸濁液に加えてお
いた後、前記第二鉄化合物とランタン化合物および/ま
たはセリウム化合物を添加する方法が望ましいが、別に
第二鉄およびランタン化合物および/またはセリウム化
合物の塩類混合液に、アルカリを添加することで作成し
た共沈生成物を前記水性懸sii液に添加し、混合、熟
成処理により被着することもできる。
前記の被着処理において、第二鉄、ランタン、セリウム
の被着量が基体粒子中の鉄に対し、添加第二鉄/基体粒
子中のPeとして0.5〜20重量%、望ましくは1〜
15重量%、ランタンまたはセリウム/Feとして0.
5〜20重量%、望ましくは1〜15重覆%、また、ラ
ンタンとセリウムの、被着する第二鉄に対する重量比は
、ランタンまたはセリウム/第二鉄としてそれぞれ0.
1〜10、望ましくは0.5〜2.0である。第二鉄の
被着量が前記範囲より少なきに過ぎると、基体粒子への
ランタンおよび/またはセリウムの被着物の均一性が充
分でなく、好ましくない。また多きに過ぎると、基体粒
子が成長し、結果的に金属磁性粉末が大きくなり易く、
好ましくない、ランタンおよび/またはセリウムの被着
量が前記範囲より少なきに過ぎる場合、Lcを小さくす
るという目的が達し得す、多きに過ぎる場合、還元反応
が著しく遅くなったり、飽和磁化が小さく、好ましくな
い。ランタンおよび/またはセリウムの第二鉄に対する
比は、基体粒子への均一被着の面から、上記範囲が最も
望ましい。
の被着量が基体粒子中の鉄に対し、添加第二鉄/基体粒
子中のPeとして0.5〜20重量%、望ましくは1〜
15重量%、ランタンまたはセリウム/Feとして0.
5〜20重量%、望ましくは1〜15重覆%、また、ラ
ンタンとセリウムの、被着する第二鉄に対する重量比は
、ランタンまたはセリウム/第二鉄としてそれぞれ0.
1〜10、望ましくは0.5〜2.0である。第二鉄の
被着量が前記範囲より少なきに過ぎると、基体粒子への
ランタンおよび/またはセリウムの被着物の均一性が充
分でなく、好ましくない。また多きに過ぎると、基体粒
子が成長し、結果的に金属磁性粉末が大きくなり易く、
好ましくない、ランタンおよび/またはセリウムの被着
量が前記範囲より少なきに過ぎる場合、Lcを小さくす
るという目的が達し得す、多きに過ぎる場合、還元反応
が著しく遅くなったり、飽和磁化が小さく、好ましくな
い。ランタンおよび/またはセリウムの第二鉄に対する
比は、基体粒子への均一被着の面から、上記範囲が最も
望ましい。
なお、前記被着処理工程は常温下でおこなってもよいが
、必要に応じ加熱下でおこなうことができる。本発明に
おいて、前記のようにして含水酸化鉄または酸化鉄の基
体粒子の粒子表面に含水酸化第二鉄とランタンおよび/
またはセリウムの含水酸化物とを被着処理したものは、
懸濁液から分別し還元して金属磁性粉末を製造すること
ができるが、本発明においては、前記基体粒子表面上に
第二鉄とランタンおよび/またはセリウム化合物を被着
後、該被着処理物に銅熱性の形状保持剤として、ケイ素
化合物、アルミニウム化合物などを被着し、さらに還元
反応促進剤としてニッケル化金物などを被着する。
、必要に応じ加熱下でおこなうことができる。本発明に
おいて、前記のようにして含水酸化鉄または酸化鉄の基
体粒子の粒子表面に含水酸化第二鉄とランタンおよび/
またはセリウムの含水酸化物とを被着処理したものは、
懸濁液から分別し還元して金属磁性粉末を製造すること
ができるが、本発明においては、前記基体粒子表面上に
第二鉄とランタンおよび/またはセリウム化合物を被着
後、該被着処理物に銅熱性の形状保持剤として、ケイ素
化合物、アルミニウム化合物などを被着し、さらに還元
反応促進剤としてニッケル化金物などを被着する。
ケイ素化合物やアルごニウム化合物を処理する方法は公
知の方法(特公昭63−49722、特公昭5G−53
201・特公昭60−17802、特開昭56−134
1)) (特公昭5628967 、特公昭57−2
9523、特公昭59−19168)のほか、特に本発
明者等が先に特願昭63−329838において提案し
た次記の方法は有用なものの一つである。すなわち、ケ
イ素化合物によるシリカの被着量は基体粒子中の鉄に対
し、Si/Feとして少なくとも2.5重量%、望まし
くは3重量%以上であり、この被着量が少なきに過ぎる
と所望の焼結抑制などの効果がもたらされない。なお、
多きに過ぎると目的物への還元に長時間を要したり、目
的物の飽和磁化が低下したりするので通常は10重量%
以下、望ましくは8重量%以下にするのがよい、ケイ素
化合物は、予めその添加前に必要に応じて所定濃度にな
るよう水または弱アルカリ水溶液で希釈し、前記懸濁液
に所定量を添加する0次いで、添加終了後さらに充分に
撹拌し混合する。しかし本発明は、とくにこれらの条件
に制約されるものではない、前記の加温は望ましくは6
0℃以上、さらに望ましくは70℃以上に液温を維持す
るようにするのがよい。つづいて撹拌下に徐々に中和す
る。この中和は、好ましくは硫酸、塩酸、硝酸、炭酸、
リン酸、酢酸などによりpl+を7.5以下、望ましく
は7以下に調整することによりおこなわれる。
知の方法(特公昭63−49722、特公昭5G−53
201・特公昭60−17802、特開昭56−134
1)) (特公昭5628967 、特公昭57−2
9523、特公昭59−19168)のほか、特に本発
明者等が先に特願昭63−329838において提案し
た次記の方法は有用なものの一つである。すなわち、ケ
イ素化合物によるシリカの被着量は基体粒子中の鉄に対
し、Si/Feとして少なくとも2.5重量%、望まし
くは3重量%以上であり、この被着量が少なきに過ぎる
と所望の焼結抑制などの効果がもたらされない。なお、
多きに過ぎると目的物への還元に長時間を要したり、目
的物の飽和磁化が低下したりするので通常は10重量%
以下、望ましくは8重量%以下にするのがよい、ケイ素
化合物は、予めその添加前に必要に応じて所定濃度にな
るよう水または弱アルカリ水溶液で希釈し、前記懸濁液
に所定量を添加する0次いで、添加終了後さらに充分に
撹拌し混合する。しかし本発明は、とくにこれらの条件
に制約されるものではない、前記の加温は望ましくは6
0℃以上、さらに望ましくは70℃以上に液温を維持す
るようにするのがよい。つづいて撹拌下に徐々に中和す
る。この中和は、好ましくは硫酸、塩酸、硝酸、炭酸、
リン酸、酢酸などによりpl+を7.5以下、望ましく
は7以下に調整することによりおこなわれる。
また中和は徐々におこない、中和時の温度、懸濁液量な
どによって異なるが、通常1時間以上、望ましくは1.
5時間以上かけておこなうのがよい。
どによって異なるが、通常1時間以上、望ましくは1.
5時間以上かけておこなうのがよい。
なお、必要に応じ、さらに撹拌下に前記温度を保持しな
から熟成処理する。中和および熟成の間も前記の温度に
維持するのがよく、熟成温度をさらに高くすると一層好
ましい効果をもたらす場合がある。上記の中和時の温度
、中和時間などはシリカを高密度に被覆するのに好適で
ある。中和時の温度が低きに過ぎたり、中和時間が短き
に過ぎたりすると、高密度のシリカ被覆を形成させるの
が困難となり、ひいては所望の効果たとえば充分な焼結
抑制が達成できない欠点を有する。
から熟成処理する。中和および熟成の間も前記の温度に
維持するのがよく、熟成温度をさらに高くすると一層好
ましい効果をもたらす場合がある。上記の中和時の温度
、中和時間などはシリカを高密度に被覆するのに好適で
ある。中和時の温度が低きに過ぎたり、中和時間が短き
に過ぎたりすると、高密度のシリカ被覆を形成させるの
が困難となり、ひいては所望の効果たとえば充分な焼結
抑制が達成できない欠点を有する。
次に、耐熱性の形状保持剤として、アルミニウムの含水
酸化物を被着する方法としては、種々の方法がある。た
とえば硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アル
ミニウム等のアルミニウムの酸性塩類やアル果ン酸ソー
ダ等のアルミニウムの塩基性塩類の溶液に、アルカリま
たは酸を添加して中和し、アルごニウムの含水酸化物を
沈澱析出させたり、あるいはアルミニウムアルコキシド
、アルキルアルミニウム化合物等の有機アルミニウム化
合物の溶液を加水分解して、アルミニウムの含水酸化物
を沈澱析出させたものを、前記基体粒子yAW7J液中
に添加して、撹拌熟成することにより被着できる。耐熱
剤としてアルミニウム化合物単独処理の場合、引き続く
加熱脱水処理過程では該基体粒子表面に保持されている
が、爾後の加熱還元過程で該粒子表面より偏析したり、
あるいは粒子表面に剥離したりし易く、このため得られ
る金属磁性粉末の粒子形状の崩れが避けられなかったり
する欠点が認められる場合があり、これの改良のために
、本発明者等のホウ素化合物を併用する平成1年7月2
7日付出願の方法は、とくに有用な方法の一つである。
酸化物を被着する方法としては、種々の方法がある。た
とえば硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アル
ミニウム等のアルミニウムの酸性塩類やアル果ン酸ソー
ダ等のアルミニウムの塩基性塩類の溶液に、アルカリま
たは酸を添加して中和し、アルごニウムの含水酸化物を
沈澱析出させたり、あるいはアルミニウムアルコキシド
、アルキルアルミニウム化合物等の有機アルミニウム化
合物の溶液を加水分解して、アルミニウムの含水酸化物
を沈澱析出させたものを、前記基体粒子yAW7J液中
に添加して、撹拌熟成することにより被着できる。耐熱
剤としてアルミニウム化合物単独処理の場合、引き続く
加熱脱水処理過程では該基体粒子表面に保持されている
が、爾後の加熱還元過程で該粒子表面より偏析したり、
あるいは粒子表面に剥離したりし易く、このため得られ
る金属磁性粉末の粒子形状の崩れが避けられなかったり
する欠点が認められる場合があり、これの改良のために
、本発明者等のホウ素化合物を併用する平成1年7月2
7日付出願の方法は、とくに有用な方法の一つである。
この場合、アルミニウムおよびホウ素化合物の被着量は
、基体粒子中の鉄に対しAj!/Feとして、少なくと
も0.5重量%、望ましくは2〜6重量%であり、また
ホウ素化合物の被着量は、基体粒子中の鉄に対してB/
Feとして、少なくとも0.2重量%、望ましくは0.
5〜3重鼠%である。これらの被着量が前記範囲より少
なきに過ぎると所望の効果がもたらされず、また被着量
が前記範囲より多きに過ぎると目的物への還元に長時間
を要したり、目的物の飽和磁化が低下したりするなど好
ましくない。なお、ホウ素化合物をアルくニウムの含水
酸化物に吸着させる場合には普通、B/AZ(重量比)
で0.05〜2、好ましくは、0.1〜1.5である。
、基体粒子中の鉄に対しAj!/Feとして、少なくと
も0.5重量%、望ましくは2〜6重量%であり、また
ホウ素化合物の被着量は、基体粒子中の鉄に対してB/
Feとして、少なくとも0.2重量%、望ましくは0.
5〜3重鼠%である。これらの被着量が前記範囲より少
なきに過ぎると所望の効果がもたらされず、また被着量
が前記範囲より多きに過ぎると目的物への還元に長時間
を要したり、目的物の飽和磁化が低下したりするなど好
ましくない。なお、ホウ素化合物をアルくニウムの含水
酸化物に吸着させる場合には普通、B/AZ(重量比)
で0.05〜2、好ましくは、0.1〜1.5である。
R1Al値が前記より少なきに過ぎると所望の効果が得
られず、またB/^l値が前記より多きに過ぎるとアル
逅ニウムの含水酸化物の飽和吸着を超え、引続く濾過、
水洗工程でホウ素化合物が系外に除かれ経済的に好まし
くない。なお、前記吸着処理工程は、常温下でおこなっ
てもよいが、必要に応じ加熱下でおこなってよく、また
本発明において、アルミニウムの含水酸化物とはアルミ
ニウムの水酸化物、水和酸化物、水和オキシ酸化物、酸
化物の部分水和物などの総称である。
られず、またB/^l値が前記より多きに過ぎるとアル
逅ニウムの含水酸化物の飽和吸着を超え、引続く濾過、
水洗工程でホウ素化合物が系外に除かれ経済的に好まし
くない。なお、前記吸着処理工程は、常温下でおこなっ
てもよいが、必要に応じ加熱下でおこなってよく、また
本発明において、アルミニウムの含水酸化物とはアルミ
ニウムの水酸化物、水和酸化物、水和オキシ酸化物、酸
化物の部分水和物などの総称である。
本発明において、前記のようにして含水酸化鉄または酸
化鉄の基体粒子の粒子表面に、第二鉄化合物と、ランタ
ン化合物および/またはセリウム化合物とを被着し、さ
らにケイ素化合物またはアルミニウム化合物を被着処理
後、還元反応を短縮するため、還元反応促進剤を処理す
ることにより、本発明を工業的に一層好ましいものとす
ることができる。この還元反応促進剤としては、ニッケ
ル、銅、コバルト、銀、カルシウム化合物などがあり、
ニッケル化合物が、Lcが小さく焼結の少ない金属磁性
粉末を短時間で得るという目的で最も好ましい。ニッケ
ル化合物の処理方法としては、前記被着処理後の基体粒
子をニッケル塩水溶液等の溶液に浸漬処理する方法、硫
酸ニッケル、塩化ニッケル、硝酸ニッケル水溶液と接触
後、水酸化ナトリウム等のアルカリを添加し、水酸化ニ
ッケルの沈澱として基体粒子上に被着する方法、酢酸ニ
ッケルの加熱加水分解等により処理する公知の方法が用
いられるが、ニッケル処理量のコントロールなどが容易
なことなどから工業的には水系で硫酸ニッケル等の塩を
中和処理する方法が有利である。
化鉄の基体粒子の粒子表面に、第二鉄化合物と、ランタ
ン化合物および/またはセリウム化合物とを被着し、さ
らにケイ素化合物またはアルミニウム化合物を被着処理
後、還元反応を短縮するため、還元反応促進剤を処理す
ることにより、本発明を工業的に一層好ましいものとす
ることができる。この還元反応促進剤としては、ニッケ
ル、銅、コバルト、銀、カルシウム化合物などがあり、
ニッケル化合物が、Lcが小さく焼結の少ない金属磁性
粉末を短時間で得るという目的で最も好ましい。ニッケ
ル化合物の処理方法としては、前記被着処理後の基体粒
子をニッケル塩水溶液等の溶液に浸漬処理する方法、硫
酸ニッケル、塩化ニッケル、硝酸ニッケル水溶液と接触
後、水酸化ナトリウム等のアルカリを添加し、水酸化ニ
ッケルの沈澱として基体粒子上に被着する方法、酢酸ニ
ッケルの加熱加水分解等により処理する公知の方法が用
いられるが、ニッケル処理量のコントロールなどが容易
なことなどから工業的には水系で硫酸ニッケル等の塩を
中和処理する方法が有利である。
前記の還元反応促進剤の被着量は、たとえばニッケル化
合物を被着する場合は、Ni/I?eとして0.1〜5
重量%程度である。
合物を被着する場合は、Ni/I?eとして0.1〜5
重量%程度である。
前記形状保持剤と還元反応促進剤の被着処理は、いずれ
の順序で行うこともできるが、形状保持剤を被着し、し
かる後還元反応促進剤を被着することは望ましい。
の順序で行うこともできるが、形状保持剤を被着し、し
かる後還元反応促進剤を被着することは望ましい。
前記還元反応促進剤を被着した基体粒子は、悲濁液から
分別し還元して金属磁性粉末を製造することができるが
、本発明においては、前記還元前に基体粒子を、700
〜900℃、好ましくは720〜850℃で非還元性雰
囲気下、たとえば空気中、あるいは窒素などの不活性ガ
ス雰囲気中で加熱処理するのが必須である。この加熱処
理により、ゲーサイト粒子が焼きしまって緻密になり、
還元時の焼結や粒子形状の崩れを一層抑制することがで
きる。加熱処理温度が、上記範囲より高きに過ぎると、
α−Fezesの段階で粒子内および粒子間焼結による
針状性の悪化や粗大化が生したり、α−FetOzの結
晶子が大きくなるため、引き続く還元により、Lcの大
きな金属磁性粉末となり易く好ましくない。また、上記
範囲より低きに過ぎると、粒子内に空孔が多く残り、そ
のものが緻密な結晶でないため、引き続く還元工程での
形状劣化が大きく、所望の効果が得られない。
分別し還元して金属磁性粉末を製造することができるが
、本発明においては、前記還元前に基体粒子を、700
〜900℃、好ましくは720〜850℃で非還元性雰
囲気下、たとえば空気中、あるいは窒素などの不活性ガ
ス雰囲気中で加熱処理するのが必須である。この加熱処
理により、ゲーサイト粒子が焼きしまって緻密になり、
還元時の焼結や粒子形状の崩れを一層抑制することがで
きる。加熱処理温度が、上記範囲より高きに過ぎると、
α−Fezesの段階で粒子内および粒子間焼結による
針状性の悪化や粗大化が生したり、α−FetOzの結
晶子が大きくなるため、引き続く還元により、Lcの大
きな金属磁性粉末となり易く好ましくない。また、上記
範囲より低きに過ぎると、粒子内に空孔が多く残り、そ
のものが緻密な結晶でないため、引き続く還元工程での
形状劣化が大きく、所望の効果が得られない。
前記加熱処理物を還元して本発明の目的物が得られる。
この還元は、よく知られている種々の方法が採用できる
。通常、還2元性ガスとしてたとえば水素を使用し35
0〜600℃、好ましくは380〜450℃で処理して
鉄酸化物の実質的に全部を金属鉄に還元できる。還元温
度が上記範囲より高きに過ぎると、Lcが大きくなりす
ぎたり、さらには焼結が起こり好ましぐない。また、上
記範囲より低きに過ぎると、Lcは小さくでき、るが還
′元に長時間を要し、生産性が低下し好ましくない。
。通常、還2元性ガスとしてたとえば水素を使用し35
0〜600℃、好ましくは380〜450℃で処理して
鉄酸化物の実質的に全部を金属鉄に還元できる。還元温
度が上記範囲より高きに過ぎると、Lcが大きくなりす
ぎたり、さらには焼結が起こり好ましぐない。また、上
記範囲より低きに過ぎると、Lcは小さくでき、るが還
′元に長時間を要し、生産性が低下し好ましくない。
このように還元して得られた金属磁性粉末は、大気に触
れると発火したり、α−Fetus化したりして飽和磁
化が低下するために、通常大気中への取り出しにあたっ
ては、種々の公知の方法を用い安定化させる。たとえば
、トルエン等の有m?IJ媒中に浸漬後、ゆっくりトル
エン等を蒸発させ安定化する方法、トルエン等の液相ま
たは気1)1中に含酸素ガスを通気して安定化する方法
、さらには種々の化合物による酸化抑制の被膜処理と上
記方法を併用する方法などがある。工業的には、酸素濃
度と流量により、酸化反応による温度上昇をコントロー
ルしながら徐酸化したり、水蒸気濃度と反応温度をコン
トロールしながら水蒸気酸化する方法が好ましい、また
、還元直後の金属磁性粉末や徐酸化途中や終了後の金属
磁性粉末を、窒素等の不活性ガス中で加熱処理する方法
を併用して、安定化する方法等をおこなってもよい。
れると発火したり、α−Fetus化したりして飽和磁
化が低下するために、通常大気中への取り出しにあたっ
ては、種々の公知の方法を用い安定化させる。たとえば
、トルエン等の有m?IJ媒中に浸漬後、ゆっくりトル
エン等を蒸発させ安定化する方法、トルエン等の液相ま
たは気1)1中に含酸素ガスを通気して安定化する方法
、さらには種々の化合物による酸化抑制の被膜処理と上
記方法を併用する方法などがある。工業的には、酸素濃
度と流量により、酸化反応による温度上昇をコントロー
ルしながら徐酸化したり、水蒸気濃度と反応温度をコン
トロールしながら水蒸気酸化する方法が好ましい、また
、還元直後の金属磁性粉末や徐酸化途中や終了後の金属
磁性粉末を、窒素等の不活性ガス中で加熱処理する方法
を併用して、安定化する方法等をおこなってもよい。
以下に実施例および比較例を挙げて本発明をさらに説明
する。
する。
実施例1
基体粒子として、比表面積(BET法)90n(7g、
平均長軸径0.18μ、軸比9の針状α−Fe001)
120gを水1.51に懸濁させ、撹拌下に塩化ランタ
ンおよび塩化第二鉄を用いて作成した。ランタンとして
3g/4.Feとして10g/ 1の混合水溶液753
−を添加し、5Nの苛性ソーダ水溶液を添加し、p++
が10.ξとなるように調整し、基体粒子表面上に水酸
化第二鉄と水酸化ランタンの共沈物を被着した0次いで
、この懸濁液を70℃に加熱昇温し、撹拌下、70℃に
保持しながら、3号ケイ酸ソーダ水溶液(Siとして4
5g/ It ) 100−を滴下後、90℃に昇温
し、60分間撹拌下保持した。
平均長軸径0.18μ、軸比9の針状α−Fe001)
120gを水1.51に懸濁させ、撹拌下に塩化ランタ
ンおよび塩化第二鉄を用いて作成した。ランタンとして
3g/4.Feとして10g/ 1の混合水溶液753
−を添加し、5Nの苛性ソーダ水溶液を添加し、p++
が10.ξとなるように調整し、基体粒子表面上に水酸
化第二鉄と水酸化ランタンの共沈物を被着した0次いで
、この懸濁液を70℃に加熱昇温し、撹拌下、70℃に
保持しながら、3号ケイ酸ソーダ水溶液(Siとして4
5g/ It ) 100−を滴下後、90℃に昇温
し、60分間撹拌下保持した。
次いで、撹拌下、90℃を保持しながら、0.5Nの硫
酸水溶液を約2.5mε/分の速度で約80分間にわた
って添加し、pHが6.0になるよう調整した。
酸水溶液を約2.5mε/分の速度で約80分間にわた
って添加し、pHが6.0になるよう調整した。
さらに、撹拌下、90℃に保持しながら、塩化ニッケル
水溶液(Niとして1.5g/Itの水溶液100In
りと水酸化ナトリウムにより、p1!を6.0に保ちな
がら60分間で添加後、60分間保持、熟成後、懸濁液
を濾過水洗した0次いでこの湿ケーキをマツフル炉で大
気中800℃で2時間加熱処理した。
水溶液(Niとして1.5g/Itの水溶液100In
りと水酸化ナトリウムにより、p1!を6.0に保ちな
がら60分間で添加後、60分間保持、熟成後、懸濁液
を濾過水洗した0次いでこの湿ケーキをマツフル炉で大
気中800℃で2時間加熱処理した。
しかる後、前記α−FeオOx 50gをステンレス製
竪型固定床式還元反応器(内径:43IIIIIlφ、
高さ:500+nm)に入れ、線速度約10cm/秒の
水素気流下425℃で排出ガスの露点が一20℃になる
まで還元した。
竪型固定床式還元反応器(内径:43IIIIIlφ、
高さ:500+nm)に入れ、線速度約10cm/秒の
水素気流下425℃で排出ガスの露点が一20℃になる
まで還元した。
得られた還元物は、窒素気流下で冷jJI後トルエン中
に浸漬し、次いでトルエンを室温で徐々に蒸発させ、金
属磁性粉末(試料A)を得た。
に浸漬し、次いでトルエンを室温で徐々に蒸発させ、金
属磁性粉末(試料A)を得た。
実施例2
実施例1において、ランタンとして3g/I!の代わり
に10g/ 1の塩化ランタンを使用した混合水溶液を
用いたことのほかは、同例の場合と同様に処理して、金
属Lit性粉末(試料B)を得た。
に10g/ 1の塩化ランタンを使用した混合水溶液を
用いたことのほかは、同例の場合と同様に処理して、金
属Lit性粉末(試料B)を得た。
実施例3
実施例2において、塩化ランタンの代わりに、塩化第一
セリウム(CeとしてlOg/ 12 )と塩化第二鉄
の混合水溶液を用いたことのほかは、同例の場合と同様
に処理して、金属磁性粉末(試料C)を得た。
セリウム(CeとしてlOg/ 12 )と塩化第二鉄
の混合水溶液を用いたことのほかは、同例の場合と同様
に処理して、金属磁性粉末(試料C)を得た。
実施例4
実施例3において、湿ケーキのマツフル炉での加熱処理
を700℃にしたことのほかは、同例の場合と同様に処
理して、金属磁性粉末(試料D〉を得た。
を700℃にしたことのほかは、同例の場合と同様に処
理して、金属磁性粉末(試料D〉を得た。
実施例5
実施例1において、基体粒子の懸濁液に予め5Nの水酸
化ナトリウム水溶液100−を添加したことのほかは、
同例の場合と同様に処理して、金属磁性粉末(試料E)
を得た。
化ナトリウム水溶液100−を添加したことのほかは、
同例の場合と同様に処理して、金属磁性粉末(試料E)
を得た。
比較例1
実施例1において、塩化ランタンと塩化第二鉄の混合水
溶液を添加しなかったことのほかは、同例の場合と同様
に処理して、金属磁性粉末(試料W)を得た。
溶液を添加しなかったことのほかは、同例の場合と同様
に処理して、金属磁性粉末(試料W)を得た。
比較例2
実施例3において、塩化第一セリウムと塩化第二鉄の混
合水溶液の代わりに、塩化第一セリウム熔t(1(Ce
として10g/ l )を添加したことと、塩化ニッケ
ル水溶液を添加しなかったことのほかは、同例の場合と
同様に処理して、金属磁性粉末(試料X)を得た。
合水溶液の代わりに、塩化第一セリウム熔t(1(Ce
として10g/ l )を添加したことと、塩化ニッケ
ル水溶液を添加しなかったことのほかは、同例の場合と
同様に処理して、金属磁性粉末(試料X)を得た。
比較例3
実施例1において、塩化ランタンと塩化第二鉄の混合水
溶液の代わりに、塩化第二鉄水溶液(Feとして10g
/ It )を添加したことのほかは、同例の場合と同
様に処理して、金属磁性粉末(試料Y)を得た。
溶液の代わりに、塩化第二鉄水溶液(Feとして10g
/ It )を添加したことのほかは、同例の場合と同
様に処理して、金属磁性粉末(試料Y)を得た。
比較例4
実施例1において、マツフル炉での焼成温度を500℃
にしたことのほかは、同例の場合と同様に処理して、金
属磁性粉末(試料Z)を得た。
にしたことのほかは、同例の場合と同様に処理して、金
属磁性粉末(試料Z)を得た。
前記の実施例および比較例で得られた各金属磁性粉末試
料について、磁気特性を常法により測定した。また、こ
れらの試料を用いて下記の配合組成物を混合分散させて
磁性塗料を調整し、次いで乾燥膜厚10μmとなるよう
に塗布し、配向処理後乾燥し、作成した磁気テープとに
ついて、常法により磁気特性を測定した。
料について、磁気特性を常法により測定した。また、こ
れらの試料を用いて下記の配合組成物を混合分散させて
磁性塗料を調整し、次いで乾燥膜厚10μmとなるよう
に塗布し、配向処理後乾燥し、作成した磁気テープとに
ついて、常法により磁気特性を測定した。
磁性粉末 5 重量部分散剤
0.25重量部ポリウレタン+1A
脂 (30%を客演) 2.96
〃混合溶媒” 13.4
〃0ト1)エン/M[lK/シクロヘキサノン(4,5
/4.5/1)これらの磁気特性、すなわち、保磁力(
llc : Oe)、飽和磁化(σs : e+*u/
g)、飽和磁束密度([1m+ :Gauss)、角形
比(R5,SQ) 、配向比(OR)、反転磁界分布(
SFD)を測定し、さらに酸化安定性を評価するために
、前記試料粉末を温度60℃、相対湿度80%環境下で
、1週間放置してσSについて促進経時変化を測定し、
飽和磁化の劣化率ΔσS(%〉を下記式によって求めた
。
0.25重量部ポリウレタン+1A
脂 (30%を客演) 2.96
〃混合溶媒” 13.4
〃0ト1)エン/M[lK/シクロヘキサノン(4,5
/4.5/1)これらの磁気特性、すなわち、保磁力(
llc : Oe)、飽和磁化(σs : e+*u/
g)、飽和磁束密度([1m+ :Gauss)、角形
比(R5,SQ) 、配向比(OR)、反転磁界分布(
SFD)を測定し、さらに酸化安定性を評価するために
、前記試料粉末を温度60℃、相対湿度80%環境下で
、1週間放置してσSについて促進経時変化を測定し、
飽和磁化の劣化率ΔσS(%〉を下記式によって求めた
。
(式中、σS0は経時前のσSであり、σSは経時後の
σSである) Lcは理学電機製Gl!IGI!RI’LEX RAD
aA型によりα−Fe (1)0面)による粉末X線回
折を測定し、その幅の広がりから下式(Scherre
r)により求めた。
σSである) Lcは理学電機製Gl!IGI!RI’LEX RAD
aA型によりα−Fe (1)0面)による粉末X線回
折を測定し、その幅の広がりから下式(Scherre
r)により求めた。
β Cos θ
但し、λ−154178人(λ線X線の波長)β:ビー
クの半値「1)(ラジアン) θ:α−Fe (1)0)に対する回折ピークのブラッ
ク角 さらに、BET法により比表面積を測定した。
クの半値「1)(ラジアン) θ:α−Fe (1)0)に対する回折ピークのブラッ
ク角 さらに、BET法により比表面積を測定した。
これらの結果を表に示す。
含水酸化鉄または酸化鉄の粒子表面に、第二鉄化合物と
ランタン化合物および/またはセリウム化合物を被着処
理後、形状保持剤と還元反応促進剤とを被着し、このも
のを高温脱水緻密化処理してから還元する本発明方法に
より、従来の被着処理にみられるような加熱脱水処理や
、加熱還元処理における不具合を惹起することなく、粒
子内および相互の焼結や粒子形状崩れが抑制されるとと
もに、Lcの小さな金属磁性粉が得られ、このものは磁
気記録媒体における分散性が良好であり、角形比、配向
比などの優れた特性を有するとともに、粒子性ノイズに
起因するノイズを低下でき、高密度記録用に一層好適な
微細な金属磁性粉末を効率良く製造することができ、甚
だ工業的に有利な方法である。
ランタン化合物および/またはセリウム化合物を被着処
理後、形状保持剤と還元反応促進剤とを被着し、このも
のを高温脱水緻密化処理してから還元する本発明方法に
より、従来の被着処理にみられるような加熱脱水処理や
、加熱還元処理における不具合を惹起することなく、粒
子内および相互の焼結や粒子形状崩れが抑制されるとと
もに、Lcの小さな金属磁性粉が得られ、このものは磁
気記録媒体における分散性が良好であり、角形比、配向
比などの優れた特性を有するとともに、粒子性ノイズに
起因するノイズを低下でき、高密度記録用に一層好適な
微細な金属磁性粉末を効率良く製造することができ、甚
だ工業的に有利な方法である。
Claims (3)
- (1)含水酸化鉄または酸化鉄を主体として含む金属化
合物の粒子表面に、第二鉄化合物と、ランタン化合物お
よび/またはセリウム化合物とを被着処理後、形状保持
剤と還元反応促進剤とを被着し、次いで非還元性雰囲気
下700〜900℃の温度で加熱処理し、しかる後加熱
還元処理することを特徴とする磁気記録用金属磁性粉末
の製造方法。 - (2)形状保持剤を被着し、しかる後還元反応促進剤を
被着することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の磁気記録用金属磁性粉末の製造方法。 - (3)形状保持剤がケイ素化合物および/またはアルミ
ニウム化合物であり、還元反応促進剤がニッケル化合物
であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項また
は第(2)項記載の磁気記録用金属磁性粉末の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1216978A JP2805162B2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 磁気記録用金属磁性粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1216978A JP2805162B2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 磁気記録用金属磁性粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0380506A true JPH0380506A (ja) | 1991-04-05 |
| JP2805162B2 JP2805162B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=16696897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1216978A Expired - Fee Related JP2805162B2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | 磁気記録用金属磁性粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2805162B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0673411A (ja) * | 1992-06-01 | 1994-03-15 | General Electric Co <Ge> | 金属酸化物が微細分散したタングステン粉末の形成方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56127710A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-06 | Sony Corp | Production of acicular magnetic metal particle |
-
1989
- 1989-08-23 JP JP1216978A patent/JP2805162B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56127710A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-06 | Sony Corp | Production of acicular magnetic metal particle |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0673411A (ja) * | 1992-06-01 | 1994-03-15 | General Electric Co <Ge> | 金属酸化物が微細分散したタングステン粉末の形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2805162B2 (ja) | 1998-09-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |