JPH039914B2 - - Google Patents
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- JPH039914B2 JPH039914B2 JP57113845A JP11384582A JPH039914B2 JP H039914 B2 JPH039914 B2 JP H039914B2 JP 57113845 A JP57113845 A JP 57113845A JP 11384582 A JP11384582 A JP 11384582A JP H039914 B2 JPH039914 B2 JP H039914B2
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- JP
- Japan
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- catalyst
- thienyl
- formula
- atmospheres
- acid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
- C07D333/20—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D333/22—Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は２−（２−チヱニル）ヱチルアミン及
び２−（３−チヱニル）ヱチルアミンの新規製造
方法に関する。これら２−（２−チヱニル）ヱチ
ルアミン及び２−（３−チヱニル）ヱチルアミン
の多くは公知のものであり、化学工業及び薬品工
業分野の双方において中間体として使用されてい
る。
び２−（３−チヱニル）ヱチルアミンの新規製造
方法に関する。これら２−（２−チヱニル）ヱチ
ルアミン及び２−（３−チヱニル）ヱチルアミン
の多くは公知のものであり、化学工業及び薬品工
業分野の双方において中間体として使用されてい
る。
本発明により製造される化合物は、次式：
（式中、R1及びR2は同一または異なつて、そ
れぞれ水素原子、直鎖もしくは分枝鎖のアルキル
基を表わす）で表わされる構造式を有する。
れぞれ水素原子、直鎖もしくは分枝鎖のアルキル
基を表わす）で表わされる構造式を有する。
アミノヱチル鎖及びR1基は、チオフエン核の
いかなる位置にあつてもよい。
いかなる位置にあつてもよい。
前記式で表わされる誘導体は、これまで例え
ば以下のような様々な方法で製造されてきた。
ば以下のような様々な方法で製造されてきた。
・β−２−または−３−ニトロビニル−チオフエ
ンを水素化アルミニウムリチウムで還元する
〔アール．テイ．ギルスドルフ（R.T.
GILSDORF）とヱフ．ヱフ．ノード（F.F.
NORD），ジヤーナル オブ オーガニツク
ケミストリイ（J.Org.Chem.），15807（1950）；
イー，カンパーニユ（E.CAMPAIGNE）とダ
ブリユ．シイ．マツカーシイ（W.C.Mc.
CARTHY），ジヤーナル オブ アメリカン
ケミカル ソサイアテイ（J.Am.Chem.
Soc.），76，4466（1954）〕か、または電気化学
方法により還元する〔フランス国特許出願
7801992号〕。
ンを水素化アルミニウムリチウムで還元する
〔アール．テイ．ギルスドルフ（R.T.
GILSDORF）とヱフ．ヱフ．ノード（F.F.
NORD），ジヤーナル オブ オーガニツク
ケミストリイ（J.Org.Chem.），15807（1950）；
イー，カンパーニユ（E.CAMPAIGNE）とダ
ブリユ．シイ．マツカーシイ（W.C.Mc.
CARTHY），ジヤーナル オブ アメリカン
ケミカル ソサイアテイ（J.Am.Chem.
Soc.），76，4466（1954）〕か、または電気化学
方法により還元する〔フランス国特許出願
7801992号〕。
・２−（２−チヱニル）−及び−（３−チヱニル）−
アセトニトリルを水素化アルミニウムリチウム
で還元する〔ビイ．ヱフ．クロウエ（B.F.
CROWE）とヱフ．ヱフ．ノード（F.F.
NORD），ジヤーナル オブ オーガニツク
ケミストリイ（J.Org.Chem.），15，81
（1950）；イー．カンパーニユ（E.
CAMPAIGNE）とダヴリユ．シイ．マツカー
シイ（W.C.McCARTHY），前掲〕か、または
ナトリウムアマルガムで還元する〔ヱフ．ヱ
フ．ブリツク（F.F.BLICKE）とジエイ．ヱツ
チ．バークハルター（J.H.
BURCKHALTER），ジヤーナル オブ アメ
リカン ケミカル ソサイアテイ（J.Am.
Chem.Soc.），64，477（1942）〕 ・３−（２−チヱニル）−及び−（３−チヱニル）
プロピオン酸のクルチウス減成〔ジイ．バーガ
ー（G.BARGER）とヱー．ピイ．テイ．ヱツ
ソウ（A.P.T.EASSOU），ジヤーナル オブ
ケミカル ソサイアテイ（J.Chem.Soc.），
2100（1938）；イー．カンパーニユ（E.
CAMPAIGNE）とダブリユ．シイ．マツカー
シイ（W.C.McCARTHY），前掲〕 ・２−（２−チヱニル）−及び−（３−チヱニル）
エタノール誘導体（ハライドまたはアリールス
ルホネート）から直接アミノ化により〔ヱフ．
ヱフ．ブリツク（F.F.BLICKE）とジエイ．ヱ
ツチ．バークハルター（J.H.
BURCKHALTER），前掲；フランス国特許出
願第7503142号〕またはフタルイミドを介する
〔フランス国特許出願第7503142号〕 しかしながら、これらの実施困難な方法は工業
的見地から満足すべき良好な収率を得ることはで
きなかつた。
アセトニトリルを水素化アルミニウムリチウム
で還元する〔ビイ．ヱフ．クロウエ（B.F.
CROWE）とヱフ．ヱフ．ノード（F.F.
NORD），ジヤーナル オブ オーガニツク
ケミストリイ（J.Org.Chem.），15，81
（1950）；イー．カンパーニユ（E.
CAMPAIGNE）とダヴリユ．シイ．マツカー
シイ（W.C.McCARTHY），前掲〕か、または
ナトリウムアマルガムで還元する〔ヱフ．ヱ
フ．ブリツク（F.F.BLICKE）とジエイ．ヱツ
チ．バークハルター（J.H.
BURCKHALTER），ジヤーナル オブ アメ
リカン ケミカル ソサイアテイ（J.Am.
Chem.Soc.），64，477（1942）〕 ・３−（２−チヱニル）−及び−（３−チヱニル）
プロピオン酸のクルチウス減成〔ジイ．バーガ
ー（G.BARGER）とヱー．ピイ．テイ．ヱツ
ソウ（A.P.T.EASSOU），ジヤーナル オブ
ケミカル ソサイアテイ（J.Chem.Soc.），
2100（1938）；イー．カンパーニユ（E.
CAMPAIGNE）とダブリユ．シイ．マツカー
シイ（W.C.McCARTHY），前掲〕 ・２−（２−チヱニル）−及び−（３−チヱニル）
エタノール誘導体（ハライドまたはアリールス
ルホネート）から直接アミノ化により〔ヱフ．
ヱフ．ブリツク（F.F.BLICKE）とジエイ．ヱ
ツチ．バークハルター（J.H.
BURCKHALTER），前掲；フランス国特許出
願第7503142号〕またはフタルイミドを介する
〔フランス国特許出願第7503142号〕 しかしながら、これらの実施困難な方法は工業
的見地から満足すべき良好な収率を得ることはで
きなかつた。
本発明の目的は、前記式で表わされる化合物
の簡単で安価な製造方法を提供することを目的と
するものである。
の簡単で安価な製造方法を提供することを目的と
するものである。
この目的のために、本発明方法は次式：
（式中、R1及びR2は前記式で表わされる意
味を有する）で表わされる誘導体から出発するこ
とからなる。この誘導体は、従来技術で公知の
様々な方法により、例えば次式： R2−CH2−NO2 （） （式中、R2は前記式で表わされる意味を有
する）で表わされる化合物を、次式： （式中、R1は前記式ですでに表わした意味
を有する）で表わされるカルボニル誘導体と、従
来技術で公知の条件下で縮合させて、次式： で表わされる誘導体を得ることにより製造され
る。
味を有する）で表わされる誘導体から出発するこ
とからなる。この誘導体は、従来技術で公知の
様々な方法により、例えば次式： R2−CH2−NO2 （） （式中、R2は前記式で表わされる意味を有
する）で表わされる化合物を、次式： （式中、R1は前記式ですでに表わした意味
を有する）で表わされるカルボニル誘導体と、従
来技術で公知の条件下で縮合させて、次式： で表わされる誘導体を得ることにより製造され
る。
したがつて、本発明による前記式の化合物の
製造方法は次の工程からなる： ａ） 式で表わされる誘導体に、使用される条
件下で接触水素添加反応を行ない、次式： で表わされる化合物を得、 ｂ） 次に、式で表わされる化合物に異なつた
操作条件下で接触水素添加を行なうことにより
式で表わされる化合物を転化して前記式で
表わされる誘導体を得る。
製造方法は次の工程からなる： ａ） 式で表わされる誘導体に、使用される条
件下で接触水素添加反応を行ない、次式： で表わされる化合物を得、 ｂ） 次に、式で表わされる化合物に異なつた
操作条件下で接触水素添加を行なうことにより
式で表わされる化合物を転化して前記式で
表わされる誘導体を得る。
一般に、下記反応式にしたがつて、すなわちβ
−ニトロビニルアリールを接触水素添加すること
によりアリールヱチルアミノ型化合物を製造する
ことはすでに知られている： しかしながら芳香族基がチオフエン基である多
くの場合にはこの方法は適用されていない。それ
にもかかわらず２−（β−ニトロビニル）−チオフ
エンの水素化はすでに記載されている；これは、
しかしながら２−（２−チヱニル）アセトアルデ
ヒドオキシムの製造をパラジウムの存在下で行な
うことに限定される〔ヱル・ケーヱツチ．フライ
ドリン（L.Kh.FREIDLIN），イー．ヱフ．リツ
トビン（E.F.LITVIN）とブイ．ヱム．クルジナ
（V.M.CHURSINA），Khimiya G.etSoed.３，
32（1967），ケミカルアブストラクト（Chem.
Abst.）67，73465y〕、使用される触媒量（水素
添加されるべき基質0.775ｇにつきパラジウム金
属0.200ｇ）はどのような合理的工業用用途をも
排除するものである：使用されるパラジウムの割
合は、実に基質に対し25％を越える。
−ニトロビニルアリールを接触水素添加すること
によりアリールヱチルアミノ型化合物を製造する
ことはすでに知られている： しかしながら芳香族基がチオフエン基である多
くの場合にはこの方法は適用されていない。それ
にもかかわらず２−（β−ニトロビニル）−チオフ
エンの水素化はすでに記載されている；これは、
しかしながら２−（２−チヱニル）アセトアルデ
ヒドオキシムの製造をパラジウムの存在下で行な
うことに限定される〔ヱル・ケーヱツチ．フライ
ドリン（L.Kh.FREIDLIN），イー．ヱフ．リツ
トビン（E.F.LITVIN）とブイ．ヱム．クルジナ
（V.M.CHURSINA），Khimiya G.etSoed.３，
32（1967），ケミカルアブストラクト（Chem.
Abst.）67，73465y〕、使用される触媒量（水素
添加されるべき基質0.775ｇにつきパラジウム金
属0.200ｇ）はどのような合理的工業用用途をも
排除するものである：使用されるパラジウムの割
合は、実に基質に対し25％を越える。
これに対し、本発明方法は、触媒使用量が少な
いという点から容易に実施することのできる安価
な条件下で、２−（２−チヱニル）または−（３−
チヱニル）ヱチルアミンを提供するものである。
いという点から容易に実施することのできる安価
な条件下で、２−（２−チヱニル）または−（３−
チヱニル）ヱチルアミンを提供するものである。
本発明方法の重要な点の１つは、前記還元を２
段階で行なうことである。
段階で行なうことである。
第１段階は、式で表わされる誘導体を非アル
カリ性媒体中、次の条件で水素添加することであ
る。
カリ性媒体中、次の条件で水素添加することであ
る。
・以下の溶媒中：アルコール例えばメタノール、
ヱタノール、イソプロパノール、または有機酸
例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸のような溶
媒、またはさらに有利には上述の部類の１つか
らそれぞれ選択された２種の溶媒の混合物、例
えばメタノールと酢酸またはヱタノールと酢酸 ・触媒の存在下：パラジウム、白金、ルテニウ
ム、ロジウム及びイリジウムから選択されうる
金属触媒 金属は、例えば木炭、アルミナまたは硫酸バリ
ウムのような担体の10ないし100倍（重量）で増
量すると有利であり、これらの混合物の使用量
は、水素添加されるべき基質１ないし10％であ
る。これはパラジウムの割合１／10000ないし
１／100に相当する。
ヱタノール、イソプロパノール、または有機酸
例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸のような溶
媒、またはさらに有利には上述の部類の１つか
らそれぞれ選択された２種の溶媒の混合物、例
えばメタノールと酢酸またはヱタノールと酢酸 ・触媒の存在下：パラジウム、白金、ルテニウ
ム、ロジウム及びイリジウムから選択されうる
金属触媒 金属は、例えば木炭、アルミナまたは硫酸バリ
ウムのような担体の10ないし100倍（重量）で増
量すると有利であり、これらの混合物の使用量
は、水素添加されるべき基質１ないし10％であ
る。これはパラジウムの割合１／10000ないし
１／100に相当する。
・水素圧：一般に１ないし100気圧、さらに好ま
しくは５ないし25気圧 ・温度：一般に20ないし100℃、さらに好ましく
は30ないし60℃ ・反応時間：一般に30分ないし数時間 第２段階は、適当な手段で反応媒体から単離さ
れた式で表わされる誘導体を、次の条件下で水
素添加することからなる： ・以下の溶媒中：アルコール、例えばメタノー
ル、ヱタノールまたはイソプロパノールで、こ
れらは有利には第二アミンの形成を防止するた
めに溶解させたアンモニアを含む。
しくは５ないし25気圧 ・温度：一般に20ないし100℃、さらに好ましく
は30ないし60℃ ・反応時間：一般に30分ないし数時間 第２段階は、適当な手段で反応媒体から単離さ
れた式で表わされる誘導体を、次の条件下で水
素添加することからなる： ・以下の溶媒中：アルコール、例えばメタノー
ル、ヱタノールまたはイソプロパノールで、こ
れらは有利には第二アミンの形成を防止するた
めに溶解させたアンモニアを含む。
・金属触媒及び特にニツケル触媒；いわゆるラネ
ーニツケルまたはシリカもしくはアルミナのよ
うな担体に担持されたニツケルであり、使用す
る金属割合は、水素添加されるべき基質に対し
１ないし10％である。
ーニツケルまたはシリカもしくはアルミナのよ
うな担体に担持されたニツケルであり、使用す
る金属割合は、水素添加されるべき基質に対し
１ないし10％である。
・水素圧：一般に１ないし100気圧、さらに好ま
しくは５ないし25気圧 ・温度：一般に20ないし100℃、さらに好ましく
は40ないし80℃ ・操作時間：一般に30分ないし数時間 得られる式の化合物は、常法にしたがつて単
離され精製される。この目的のために、式で表
わされる遊離化合物を塩に転化すること、例えば
無機または有機酸と反応させることによりそれら
の酸付加塩に転化することが有利である。式で
表わされる化合物は、公知の方法にしたがつてそ
れらの塩から遊離させてもよい。
しくは５ないし25気圧 ・温度：一般に20ないし100℃、さらに好ましく
は40ないし80℃ ・操作時間：一般に30分ないし数時間 得られる式の化合物は、常法にしたがつて単
離され精製される。この目的のために、式で表
わされる遊離化合物を塩に転化すること、例えば
無機または有機酸と反応させることによりそれら
の酸付加塩に転化することが有利である。式で
表わされる化合物は、公知の方法にしたがつてそ
れらの塩から遊離させてもよい。
本発明はまた、合成の各段階で得られる中間体
をも含むものである。具体的には例えば次のよう
なものである。
をも含むものである。具体的には例えば次のよう
なものである。
・次式で表わされる化合物
・次式で表わされる化合物
次に、本発明を以下の実施例を用いてさらに詳
しく説明する。しかしながら、本発明はこれらの
実施例に限定されない。
しく説明する。しかしながら、本発明はこれらの
実施例に限定されない。
実施例 １
塩酸２−（２−チヱニル）−ヱチルアミンの製造
ａ） ２−チヱニルアセトアルデヒドオキシム
酢酸−ヱタノール（75：25）２中に溶解し
た２−（２−チヱニル）ニトロヱチレン100ｇ
（0.645モル）をパラジウム５％担持木炭５ｇの
存在下に20バール下35℃の圧力容器中で、水素
吸収が止むまで水素添加する（約２時間）。触
媒を去し、ヱタノールで洗い、その後得られ
た溶液を50℃で減圧下に蒸発させる。油状残渣
を塩化メチレン500mlに吸収させ、溶液をほぼ
1N水酸化ナトリウム水溶液と水とで連続的に
洗浄し、次いで蒸発する。これにより、２−チ
ヱニル−アセトアルデヒドオキシム（シン＋ア
ンチ混合物）97ｇを、橙黄色油状物として得
る。この油状物を次工程で使用する。
た２−（２−チヱニル）ニトロヱチレン100ｇ
（0.645モル）をパラジウム５％担持木炭５ｇの
存在下に20バール下35℃の圧力容器中で、水素
吸収が止むまで水素添加する（約２時間）。触
媒を去し、ヱタノールで洗い、その後得られ
た溶液を50℃で減圧下に蒸発させる。油状残渣
を塩化メチレン500mlに吸収させ、溶液をほぼ
1N水酸化ナトリウム水溶液と水とで連続的に
洗浄し、次いで蒸発する。これにより、２−チ
ヱニル−アセトアルデヒドオキシム（シン＋ア
ンチ混合物）97ｇを、橙黄色油状物として得
る。この油状物を次工程で使用する。
ｂ） 上記で得られたオキシム誘導体をアンモニ
ウムで飽和したメタノール２に溶解し、水素
吸収が停止するまでラネーニツケル10ｇの存在
下20バールで60℃の圧力容器中で水素添加する
（約20時間）。触媒を去し、メタノールで洗
い、得られた溶液を蒸発する。トルヱン500ml
を油状残渣へ加える。この有機相をおよそ1N
の塩酸水溶液で抽出する。単離する酸性水相
を、ほぼ1Nの水酸化ナトリウムで塩基性化し、
続いてトルヱンで抽出する。イソプロピルヱー
テル中に塩化水素ガスが溶解した溶液を、単離
した有機層へ加えることにより沈澱物が形成す
る。この沈澱物を過し乾燥すると塩酸２−
（２−チヱニル）ヱチルアミン68ｇ（収率：２
−（２−チヱニル）ニトロヱチレンに基づいて
65％）が白色結晶として得られる。融点＝202
℃ 分析：C6H9NS・HCl＝163.67 計算値（％）：C44.03；H6.15；N8.55 実測値（％）：C43.98；H6.16；N8.54 実施例 ２ 塩酸２−（２−チヱニル）ヱチルアミン ５％Pd／Ｃの代りに５％Rh／Ｃを用いる以外
は実施例１の方法を行ない、収率66％の化合物の
塩酸塩を得る。融点＝216℃ 分析：C6H9NS・HCl＝163.67 計算値（％）：C44.03；H6.15；N8.55 実測値（％）：C43.92；H6.18；N8.50 実施例 ３ 塩酸１−メチル−２−（３−チヱニル）−ヱチル
アミン 実施例１に記載した条件下でただし５％Pd／
Ｃの代りに５％Pt／Ｃを用いると、化合物の塩
酸塩が収率81％で得られる。融点＝138℃ 分析：C7H11NS・HCl＝177.69 計算値（％）：C47.31；H6.80；N7.88 実測値（％）：C47.55；H6.85；N7.92
ウムで飽和したメタノール２に溶解し、水素
吸収が停止するまでラネーニツケル10ｇの存在
下20バールで60℃の圧力容器中で水素添加する
（約20時間）。触媒を去し、メタノールで洗
い、得られた溶液を蒸発する。トルヱン500ml
を油状残渣へ加える。この有機相をおよそ1N
の塩酸水溶液で抽出する。単離する酸性水相
を、ほぼ1Nの水酸化ナトリウムで塩基性化し、
続いてトルヱンで抽出する。イソプロピルヱー
テル中に塩化水素ガスが溶解した溶液を、単離
した有機層へ加えることにより沈澱物が形成す
る。この沈澱物を過し乾燥すると塩酸２−
（２−チヱニル）ヱチルアミン68ｇ（収率：２
−（２−チヱニル）ニトロヱチレンに基づいて
65％）が白色結晶として得られる。融点＝202
℃ 分析：C6H9NS・HCl＝163.67 計算値（％）：C44.03；H6.15；N8.55 実測値（％）：C43.98；H6.16；N8.54 実施例 ２ 塩酸２−（２−チヱニル）ヱチルアミン ５％Pd／Ｃの代りに５％Rh／Ｃを用いる以外
は実施例１の方法を行ない、収率66％の化合物の
塩酸塩を得る。融点＝216℃ 分析：C6H9NS・HCl＝163.67 計算値（％）：C44.03；H6.15；N8.55 実測値（％）：C43.92；H6.18；N8.50 実施例 ３ 塩酸１−メチル−２−（３−チヱニル）−ヱチル
アミン 実施例１に記載した条件下でただし５％Pd／
Ｃの代りに５％Pt／Ｃを用いると、化合物の塩
酸塩が収率81％で得られる。融点＝138℃ 分析：C7H11NS・HCl＝177.69 計算値（％）：C47.31；H6.80；N7.88 実測値（％）：C47.55；H6.85；N7.92
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次式： （式中、R1及びR2は同一または異なつて、そ
れぞれ水素原子または直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基を表わす）で表わされる化合物を、非アル
カリ性媒体中、水素圧１ないし100気圧下、好ま
しくは５ないし25気圧下で、温度20ないし100℃、
好ましくは30ないし60℃で接触水素添加して、次
式Ｖ： （式中、R1及びR2は前記ですでに表わした意
味を有する）で表わされる化合物を得； 式Ｖで表わされる化合物を単離し、次いで当該
化合物を、アルカリ性媒体中、水素圧１ないし
100気圧下、好ましくは５ないし25気圧下で、温
度20ないし100℃、好ましくは40ないし80℃で接
触水素添加することからなる、次式： （式中、R1及びR2は前記ですでに表わした意
味を有する）で表わされる２−（２−チエニル）−
及び２−（３−チエニル）エチルアミンの製法。 ２ 第１の水素添加段階を、有機溶媒、例えばメ
タノール、エタノールもしくはイソプロパノール
のようなアルコール、ギ酸、酢酸、プロピオン酸
のような有機酸または好ましくはアルコールと酸
との混合物中で行なう特許請求の範囲第１項記載
の製法。 ３ 第１の水素添加段階の触媒が、不活性担体に
担持されたパラジウム、白金、ルテニウム、ロジ
ウム及びイリジウムから選択される金属からなる
特許請求の範囲第１項記載の製法。 ４ 不活性担体が木炭、アルミナまたは硫酸バリ
ウムである特許請求の範囲第３項記載の製法。 ５ 触媒の金属成分を、基質に対して１／10000
ないし１／100の比率で使用する特許請求の範囲
第３項記載の製法。 ６ 第２の水素添加段階の触媒が、ラネーニツケ
ル触媒または不活性担体にニツケルを蒸着した触
媒である特許請求の範囲第１項記載の製法。 ７ 不活性担体がシリカまたはアルミナである特
許請求の範囲第６項記載の製法。 ８ 触媒の金属成分を、基質に対して１ないし10
％の量で使用する特許請求の範囲第６項記載の製
法。 ９ メタノール、エタノールまたはイソプロパノ
ールのようなアルコールを溶解アンモニアと併用
してなる有機溶媒中で第２の水素添加段階の反応
を行なう特許請求の範囲第６項記載の製法。
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