JPH04105302A - 厚膜抵抗体形成法 - Google Patents
厚膜抵抗体形成法Info
- Publication number
- JPH04105302A JPH04105302A JP2223092A JP22309290A JPH04105302A JP H04105302 A JPH04105302 A JP H04105302A JP 2223092 A JP2223092 A JP 2223092A JP 22309290 A JP22309290 A JP 22309290A JP H04105302 A JPH04105302 A JP H04105302A
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- JP
- Japan
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- thick film
- resistance value
- resistor
- film resistor
- film resistors
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- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は厚膜基板の抵抗体形成の抵抗体混合の簡素化
に関するものである。
に関するものである。
第３図及び第４図は従来の厚膜抵抗の概略図であり、図
において、（１）と（２）は導体パターン、（３）は厚
膜印刷抵抗、（５）は基材である。
において、（１）と（２）は導体パターン、（３）は厚
膜印刷抵抗、（５）は基材である。
次に必要な抵抗値を得る手段について説明する。
第３図において、抵抗値Ｒ（Ω）は次式で与えられる。
Ｒ＝ Ｒｓ Ｘ −・・・・・−・・・・・・・
・・ （式１）ここで、 Ｒｓはシート抵抗値（ａ７ａ
） 、 Ａは抵抗体の長さ、Ｌは抵抗体の幅である一通
常シート抵抗値は １０ Ω／口 、 １００Ω／口
、 ＩＫ Ω／口 、 １０Ｋ Ω／口 、 １
００にΩ／口と不連続な値であるため、その中間の値が
要求される場合には％Ａ／Ｌを変えるか、２種類以上の
シート抵抗を混合する必要がある。ただしＡがある値以
下の場合は端子効果により抵抗値Ｒのばらつきが大きく
なり、また、ＡＸＬつまり抵抗体の面積が小さくなると
許容消費電力も小さくなる。このため形状を小さくシ念
い場合等には混合（ブレンド）Ｋより所定のシート抵抗
を得る方法が用いられている。
・・ （式１）ここで、 Ｒｓはシート抵抗値（ａ７ａ
） 、 Ａは抵抗体の長さ、Ｌは抵抗体の幅である一通
常シート抵抗値は １０ Ω／口 、 １００Ω／口
、 ＩＫ Ω／口 、 １０Ｋ Ω／口 、 １
００にΩ／口と不連続な値であるため、その中間の値が
要求される場合には％Ａ／Ｌを変えるか、２種類以上の
シート抵抗を混合する必要がある。ただしＡがある値以
下の場合は端子効果により抵抗値Ｒのばらつきが大きく
なり、また、ＡＸＬつまり抵抗体の面積が小さくなると
許容消費電力も小さくなる。このため形状を小さくシ念
い場合等には混合（ブレンド）Ｋより所定のシート抵抗
を得る方法が用いられている。
従来の厚膜抵抗形成では所定の抵抗値を得るために、印
刷の前に２種以上の抵抗ペーストを混合し、必要なシー
ト抵抗値を作ることが必要でありまた、得られるシート
抵抗値のばらつきを押えることが難かしいなどの問題点
があった。
刷の前に２種以上の抵抗ペーストを混合し、必要なシー
ト抵抗値を作ることが必要でありまた、得られるシート
抵抗値のばらつきを押えることが難かしいなどの問題点
があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、混合工程を行うことなく、所定のシート抵抗
値を得ることを目的とする。
たもので、混合工程を行うことなく、所定のシート抵抗
値を得ることを目的とする。
この発明に係る厚膜抵抗体形成法は、厚膜抵抗体を重ね
て印刷して形成するようにしたものである。
て印刷して形成するようにしたものである。
この発明における厚膜抵抗体形成法は、厚膜抵抗体を重
ねて形成することにより、必要なシート抵抗値が得られ
る。
ねて形成することにより、必要なシート抵抗値が得られ
る。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図、第２図において、（５）はセラミック等の基材、（
１）と（２）は（５）の上に形成された導体パターン、
（８）は（１）と（２）の両方に接触するように形成さ
れた厚膜抵抗体、（４）は（８）の上に形成された厚膜
抵抗体である。
図、第２図において、（５）はセラミック等の基材、（
１）と（２）は（５）の上に形成された導体パターン、
（８）は（１）と（２）の両方に接触するように形成さ
れた厚膜抵抗体、（４）は（８）の上に形成された厚膜
抵抗体である。
上記のように構成された厚膜抵抗体形成法の作用を以下
に説明する。あらかじめ形成された導体パターン（１）
（２）上に厚膜抵抗体（８）を形成し、さらに（８＋
の上に厚膜抵抗体（４）を形成する。この場合、合成抵
抗値Ｒｔは次式で得られる。
に説明する。あらかじめ形成された導体パターン（１）
（２）上に厚膜抵抗体（８）を形成し、さらに（８＋
の上に厚膜抵抗体（４）を形成する。この場合、合成抵
抗値Ｒｔは次式で得られる。
Ｒ１３１Ｒ４１
Ｆｔｔ＝−
ＲＣ３１＋ＲＩ４１
・・・・・・・・・・・・ （２）式
Ｒ（３１＝ Ｒｓｔ３１ Ｌ（３１・・・・・・・・
−・・（８）式Ａ（４） Ｒ１４１＝ Ｒｓｋｌ Ｌ、、 ・・・・・・
・・・・・・ （４）成上式でＲ（３）は厚膜抵抗体（
８）の抵抗値（Ω）、Ｒｓ（３ｉは（３）のシート抵抗
値ｔ Ａｆ３）は（８）の長さ、Ｌ（３）は（８）の
幅であり、Ｒ（４１Ｆｉ厚膜抵抗体（４）の抵抗値（Ω
）、Ｒｓ（４１は（４）のシート抵抗値（Ω／Ｃ：Ｉ
）、Ａ（４）は（４）の長さ、Ｌ（４）は（４）の幅で
ある。上記（２）式、（８）式、（４）式によりＲｓ（
３１ｔ Ｒｓ（４） Ｉ Ａ＋３１ 、 Ａ（４） 、
ｕ３） ｌ ｕ４）を任意に選ぶことにより、自由に
所定の合成抵抗値Ｒｔを得ることが可能となる。
−・・（８）式Ａ（４） Ｒ１４１＝ Ｒｓｋｌ Ｌ、、 ・・・・・・
・・・・・・ （４）成上式でＲ（３）は厚膜抵抗体（
８）の抵抗値（Ω）、Ｒｓ（３ｉは（３）のシート抵抗
値ｔ Ａｆ３）は（８）の長さ、Ｌ（３）は（８）の
幅であり、Ｒ（４１Ｆｉ厚膜抵抗体（４）の抵抗値（Ω
）、Ｒｓ（４１は（４）のシート抵抗値（Ω／Ｃ：Ｉ
）、Ａ（４）は（４）の長さ、Ｌ（４）は（４）の幅で
ある。上記（２）式、（８）式、（４）式によりＲｓ（
３１ｔ Ｒｓ（４） Ｉ Ａ＋３１ 、 Ａ（４） 、
ｕ３） ｌ ｕ４）を任意に選ぶことにより、自由に
所定の合成抵抗値Ｒｔを得ることが可能となる。
なお、上記実施例では厚膜抵抗体を２回形成するものを
示したが、２回以上形成してもよい。
示したが、２回以上形成してもよい。
また、上記実施例では厚膜抵抗体を重ねて形成する場合
について説明したが、２種類以上の厚膜抵抗坏を並列に
形成しても同様の効果を奏する。
について説明したが、２種類以上の厚膜抵抗坏を並列に
形成しても同様の効果を奏する。
以上のように、この発明によれば必要な抵抗値を得る之
めに抵抗ペーストの混合（ブレンド）工程を行う必要が
ないため、安価に、また精度の高いものが得られる効果
がある。
めに抵抗ペーストの混合（ブレンド）工程を行う必要が
ないため、安価に、また精度の高いものが得られる効果
がある。
第１図はこの発明の一実施例による厚膜抵抗体形成法を
示す上面図、第２図は第１図の断面図である。第３図は
従来の厚膜抵抗体印刷法を示す上面図、第４図は第３図
の断面図である。 図において、 （１）（２）は導体配線、（８）（４）
は厚膜抵抗体、（６）は基材。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。
示す上面図、第２図は第１図の断面図である。第３図は
従来の厚膜抵抗体印刷法を示す上面図、第４図は第３図
の断面図である。 図において、 （１）（２）は導体配線、（８）（４）
は厚膜抵抗体、（６）は基材。 なお、図中、同一符号は同一 又は相当部分を示す。
Claims (1)
- セラミツク等を基材とし、厚膜抵抗体を印刷形成する
配線基板において、同一抵抗に対して２回又はそれ以上
の印刷を行い、任意の抵抗値を有する厚膜抵抗を形成し
たことを特徴とする厚膜抵抗体形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2223092A JPH04105302A (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | 厚膜抵抗体形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2223092A JPH04105302A (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | 厚膜抵抗体形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04105302A true JPH04105302A (ja) | 1992-04-07 |
Family
ID=16792709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2223092A Pending JPH04105302A (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | 厚膜抵抗体形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04105302A (ja) |
-
1990
- 1990-08-24 JP JP2223092A patent/JPH04105302A/ja active Pending
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