JPH0410604A - 高耐蝕性ＦｅＳｉ多層膜 - Google Patents
高耐蝕性ＦｅＳｉ多層膜Info
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- JPH0410604A JPH0410604A JP11361090A JP11361090A JPH0410604A JP H0410604 A JPH0410604 A JP H0410604A JP 11361090 A JP11361090 A JP 11361090A JP 11361090 A JP11361090 A JP 11361090A JP H0410604 A JPH0410604 A JP H0410604A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高密度記録用の磁気ヘッド等に用いる磁性体
膜に関し、特に、耐蝕性の改善された磁性膜に関するも
のである。
膜に関し、特に、耐蝕性の改善された磁性膜に関するも
のである。
（従来の技術）
従来、磁気記録用ヘッドの磁極材料としては、飽和磁化
、透磁率等、磁気特性が優れていることから、Ｆｅを、
母材として、Ｓｉ、ＡＩを添加したセンダストなどＦｅ
合金膜が用いられている。
、透磁率等、磁気特性が優れていることから、Ｆｅを、
母材として、Ｓｉ、ＡＩを添加したセンダストなどＦｅ
合金膜が用いられている。
また、さらに優れた磁気特性（高飽和磁化など）をもつ
Ｆｅ系合金膜の検問も、多くなされている。
Ｆｅ系合金膜の検問も、多くなされている。
（発明が解決しようとする課題）
磁気記録の分野では、媒体の保磁力が大きくなっており
、この媒体に、有効に記録を行うためには、現在用いら
れているセンダスト等よりも、さらに高い飽和磁化を有
する磁気ヘッド材料が必要である。ＦｅにＳｉを、第２
元素として微量添加したＦｅ−Ｓｉ合金膜では、４ｎＭ
ｓ≧１６［ｋＧ］と十分高い飽和磁化を有し、磁気特性
的には、実用上それほど問題がないと考えられる。しか
し、Ｆｅ−８ｉ膜は耐蝕性が低く、例えば第１１回日本
応用磁気学会学術講演概要集Ｐ３４１図１に示されるよ
うに、高温高湿の環境に放置した場合、１００時間程で
飽和磁化が当初の４０％まで劣化してしまう。
、この媒体に、有効に記録を行うためには、現在用いら
れているセンダスト等よりも、さらに高い飽和磁化を有
する磁気ヘッド材料が必要である。ＦｅにＳｉを、第２
元素として微量添加したＦｅ−Ｓｉ合金膜では、４ｎＭ
ｓ≧１６［ｋＧ］と十分高い飽和磁化を有し、磁気特性
的には、実用上それほど問題がないと考えられる。しか
し、Ｆｅ−８ｉ膜は耐蝕性が低く、例えば第１１回日本
応用磁気学会学術講演概要集Ｐ３４１図１に示されるよ
うに、高温高湿の環境に放置した場合、１００時間程で
飽和磁化が当初の４０％まで劣化してしまう。
磁気ヘッド材料として、高飽和磁化を有するＦｅＳｉ膜
を実用化するためには、耐蝕性の改善が強く要望される
。本発明は高飽和磁化を有し、かつ耐蝕性に優れた磁性
膜を提供することを目的とする。
を実用化するためには、耐蝕性の改善が強く要望される
。本発明は高飽和磁化を有し、かつ耐蝕性に優れた磁性
膜を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
すなわち、高飽和磁化を有するＦｅＳｉ膜を主磁性層と
し、ＮｉＦｅ、 Ｎｉ、あるいは、ＳｉＯ２膜を中間層
として、ＦｅＳｉ膜一層の厚さを０．０５〜０．３μｍ
、中間層厚を０．０５〜０．１μｍとしたＦｅＳｉ多層
膜である。
し、ＮｉＦｅ、 Ｎｉ、あるいは、ＳｉＯ２膜を中間層
として、ＦｅＳｉ膜一層の厚さを０．０５〜０．３μｍ
、中間層厚を０．０５〜０．１μｍとしたＦｅＳｉ多層
膜である。
上記の多層構造をとることで、耐蝕性の向上が図られる
。
。
（実施例）
以下、本発明の実施例について説明する。
第１図は、本発明のＦｅＳｉ多層膜の構造を示す断面図
である。ガラス、セラミクス等の基板１１上に主磁性層
ＦｅＳｉ膜１２、中間層１３とをスパッタ等により交互
に成膜する。
である。ガラス、セラミクス等の基板１１上に主磁性層
ＦｅＳｉ膜１２、中間層１３とをスパッタ等により交互
に成膜する。
第１表にＦｅＳｉ多層膜の耐蝕性の、中間層として用い
た材料に対する依存性を示す。ＦｅＳｉ膜０．１μｍ４
層をＮｉＦｅ、 ＳｉＯ２． Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ａｌ２
Ｏ３，Ａｌ、ＦｅＡ１． Ｆｅを、それぞれ中間層とし
て、０．０５μｍ３層積層した試料にについて６０°Ｃ
１９０％ＲＨの雰囲気中に放置し、４ｎＭｓの劣化の状
況を調べたものである。この結果、ＮｉＦｅ、 Ｎｉ。
た材料に対する依存性を示す。ＦｅＳｉ膜０．１μｍ４
層をＮｉＦｅ、 ＳｉＯ２． Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ａｌ２
Ｏ３，Ａｌ、ＦｅＡ１． Ｆｅを、それぞれ中間層とし
て、０．０５μｍ３層積層した試料にについて６０°Ｃ
１９０％ＲＨの雰囲気中に放置し、４ｎＭｓの劣化の状
況を調べたものである。この結果、ＮｉＦｅ、 Ｎｉ。
ＳｉＯ２を中間層とした場合には、１０００時間経過後
も４ｎＭｓの劣化があまりみられず、膜の表面にも錆は
みられない。
も４ｎＭｓの劣化があまりみられず、膜の表面にも錆は
みられない。
中間層としては、Ｎｉ、 ＳｉＯ２． ＮｉＦｅ膜を用
いることが、ＦｅＳｉ多層膜の耐蝕性向上に有効である
。なお本実施はＳｉ３．５ｗｔ％のＦｅＳｉ膜を用いた
。
いることが、ＦｅＳｉ多層膜の耐蝕性向上に有効である
。なお本実施はＳｉ３．５ｗｔ％のＦｅＳｉ膜を用いた
。
第１表
第１表中の試料１．３．５．６．７．８は本発明に含ま
れない。
れない。
第２表に、基板上にＳｉＯ２とＦｅＳｉとを順次成膜し
た２層膜とＦｅＳｉ、 ＳｉＯ２； ＦｅＳｉの順で成
膜した３層膜と、１ｉ’ｅＳｉ膜４層とＳｉ○２膜３層
全３層に積層した多層膜の腐食試験に伴ら４ｎＭｓの劣
化の様子を示す。２層膜では、’４ｎＭｓは急激に劣化
し、ＦｅＳｉ膜は、全体的に錆に覆われてしまう。これ
に対して、３層膜では４ｎＭｓの劣化も少なく、錆も見
られない。多層化による耐蝕性向」二のためには、主磁
性層ＦｅＳｉ膜が、中間層を介して少なくとも２層以上
積層されていることが必要である。なおＳｉＯ２以外に
もＮｉ、 ＮｉＦｅも同様の効果が得られた。
た２層膜とＦｅＳｉ、 ＳｉＯ２； ＦｅＳｉの順で成
膜した３層膜と、１ｉ’ｅＳｉ膜４層とＳｉ○２膜３層
全３層に積層した多層膜の腐食試験に伴ら４ｎＭｓの劣
化の様子を示す。２層膜では、’４ｎＭｓは急激に劣化
し、ＦｅＳｉ膜は、全体的に錆に覆われてしまう。これ
に対して、３層膜では４ｎＭｓの劣化も少なく、錆も見
られない。多層化による耐蝕性向」二のためには、主磁
性層ＦｅＳｉ膜が、中間層を介して少なくとも２層以上
積層されていることが必要である。なおＳｉＯ２以外に
もＮｉ、 ＮｉＦｅも同様の効果が得られた。
第２表
第２表中１，２は本発明に含まれない。
第３表はＳｉＯ２を中間層としたＦｅＳｉ多層膜におい
て４ｎＭｓの経時変化と、ＦｅＳｉ層厚、Ｓｉ０２層厚
の関係を示したものである。
て４ｎＭｓの経時変化と、ＦｅＳｉ層厚、Ｓｉ０２層厚
の関係を示したものである。
ＦｅＳｉ層厚については０．０５μｍより薄い場合、磁
性体膜全体としての、４ｎＭｓが小さく、高密度記録用
の磁性材料としては適さなくなる。また、ＦｅＳｉ層厚
が０．４μｍでは、多層化による、耐蝕性向上の効果が
みられないことがわかる。これより主磁性層厚は、０．
３μｍ以下とすることが効果的である。
性体膜全体としての、４ｎＭｓが小さく、高密度記録用
の磁性材料としては適さなくなる。また、ＦｅＳｉ層厚
が０．４μｍでは、多層化による、耐蝕性向上の効果が
みられないことがわかる。これより主磁性層厚は、０．
３μｍ以下とすることが効果的である。
中間層ＳｉＯ２の膜厚については、０．０５〜０．１１
１ｍの範囲で４■Ｍｓ（１０００）／４ｎＭｓ（０）≧
０．９という良好な耐蝕性を示している。以上より中間
層ＳｉＯ２は、０．０５〜０．１μｍとすることが、Ｆ
ｅＳｉ多層膜の耐蝕性向上には望ましい。Ｎｉ、 Ｎｉ
Ｆｅについても同様の結果が得られた。尚、本発明にお
いて、成膜は、イオンビームスパッタ法に依った。各層
の膜厚は、スパッタ時間により管理した。
１ｍの範囲で４■Ｍｓ（１０００）／４ｎＭｓ（０）≧
０．９という良好な耐蝕性を示している。以上より中間
層ＳｉＯ２は、０．０５〜０．１μｍとすることが、Ｆ
ｅＳｉ多層膜の耐蝕性向上には望ましい。Ｎｉ、 Ｎｉ
Ｆｅについても同様の結果が得られた。尚、本発明にお
いて、成膜は、イオンビームスパッタ法に依った。各層
の膜厚は、スパッタ時間により管理した。
また、成膜後、応力緩和の目的で、真空中（＜ Ｉ Ｘ
１０ ’Ｔｏｒｒ）、回転磁場中（７１００ｅ）で３
００°Ｃ１ｈｒの熱処理を施した。
１０ ’Ｔｏｒｒ）、回転磁場中（７１００ｅ）で３
００°Ｃ１ｈｒの熱処理を施した。
第３表
以上、説明したように、高飽和磁化をもつＦｅＳｉ合金
膜を、主磁性層とし、ＮｉＦｅ、 ＮｉあるいはＳｉＯ
２を、中間層として、積層したＦｅＳｉ多層膜において
ＦｅＳｉ膜一層の厚さを０．０５〜０．３μｍとし、中
間層厚を０．０５−０．１μｍとし、主磁性層ＦｅＳｉ
膜を、中間層を介して２層以上積層させることにより、
ＦｅＳｉ多層膜は高耐蝕性を有することになる。従って
、優れた磁気特性をもつＦｅＳｉ合金膜は耐蝕性の点か
らみても、実用化に適した磁極材料となる。
膜を、主磁性層とし、ＮｉＦｅ、 ＮｉあるいはＳｉＯ
２を、中間層として、積層したＦｅＳｉ多層膜において
ＦｅＳｉ膜一層の厚さを０．０５〜０．３μｍとし、中
間層厚を０．０５−０．１μｍとし、主磁性層ＦｅＳｉ
膜を、中間層を介して２層以上積層させることにより、
ＦｅＳｉ多層膜は高耐蝕性を有することになる。従って
、優れた磁気特性をもつＦｅＳｉ合金膜は耐蝕性の点か
らみても、実用化に適した磁極材料となる。
第１図は、本発明のＦｅＳｉ多層膜の断面図である。
図中１１は基板、１２はＦｅＳｉ層、１３は中間層であ
る。
る。
Claims (1)
- ＦｅＳｉを主磁性層とし、ＮｉＦｅ、ＮｉあるいはＳｉ
Ｏ＿２を中間層として積層したＦｅＳｉ多層膜において
、ＦｅＳｉ膜一層の厚さを０．０５〜０．３μｍとし、
中間層厚を０．０５〜０．１μｍとしたことを特徴とす
る高耐蝕性ＦｅＳｉ多層膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11361090A JPH0410604A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 高耐蝕性ＦｅＳｉ多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11361090A JPH0410604A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 高耐蝕性ＦｅＳｉ多層膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0410604A true JPH0410604A (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=14616582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11361090A Pending JPH0410604A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 高耐蝕性ＦｅＳｉ多層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0410604A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6319804A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-01-27 | Hitachi Ltd | 多層磁性体膜 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11361090A patent/JPH0410604A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6319804A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-01-27 | Hitachi Ltd | 多層磁性体膜 |
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