JPH0412727B2 - - Google Patents

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JPH0412727B2
JPH0412727B2 JP60164430A JP16443085A JPH0412727B2 JP H0412727 B2 JPH0412727 B2 JP H0412727B2 JP 60164430 A JP60164430 A JP 60164430A JP 16443085 A JP16443085 A JP 16443085A JP H0412727 B2 JPH0412727 B2 JP H0412727B2
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JP
Japan
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molecular weight
imide
components
bis
prepreg
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JP60164430A
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JPS6225126A (ja
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Atsuhiro Nakamoto
Yoshihisa Sugawa
Kenji Ogasawara
Masahiro Matsumura
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Priority to JP16443085A priority Critical patent/JPS6225126A/ja
Publication of JPS6225126A publication Critical patent/JPS6225126A/ja
Publication of JPH0412727B2 publication Critical patent/JPH0412727B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕 この発明は、プリント配線板の製造時に使用さ
れる付加型イミド樹脂積層板に関する。 〔背景技術〕 従来、多層プリント配線板製造用の樹脂とし
て、優れた接着性、耐薬品性、電気特性、機械特
性等を有するエポキシ樹脂材料が多く使用されて
きたが、高密度実装用の高多層プリント配線板に
使用した場合は、実装工程での耐熱性の問題、ま
たレジンスミアや厚み方向の熱膨張などによる導
通信頼性の低下が問題となる。これらの問題点を
材料面から解決するため、イミド樹脂などの耐熱
材料が開発され、実用化されている。特に、不飽
和ビス−イミドとジアミンとを反応させた付加型
イミド樹脂は、高密度化するための細線化、微
細孔あけなどの高精度加工が可能である、厚み
方向の熱膨張率が小さく、スルーホールメツキに
よる導通信頼性が高い、ドリル加工工程でのス
ミア発生がない、高温時の導体密着力および硬
度が高く、実装性が向上する、高温(200℃)
での連続使用に耐える等の特徴を有していること
により、多層プリント配線板材料用途に多く使用
されるようになつてきた。 しかしながら、近年、大型コンピユータ用等の
多層プリント板はより高密度実装化、高多層化さ
れる傾向にあり、このために回路の微細化、スル
ーホール穴径の縮小の要求が強い。この要求を実
現するために、従来よりさらに高いレベルの寸法
安定性、密着性が基板に要求される様になつた。
すなわち、基板の寸法変化は多層板の内、外層回
路の位置的なズレに直接影響し、多層板サイズを
大きくした場合には特に寸法変化のバラツキは極
小におさえねばならない。このため、基板作製に
際しては低い圧力で成形加工を行うことが好まし
い。高い圧力で成形を行うと寸法安定性が悪くな
るからである。他方、密着性に関しては、回路の
微細化により、回路と樹脂との密着性は当然高く
なければならないが、基材と樹脂との密着性も高
くなければならず、また、層と層の間の密着も高
くなければならない。なぜならば、密着性が低い
と、多層板に穴開け加工を行う等の各種の加工工
程において基材と樹脂の間に微細な剥離が生じ
る、あるいは、基板内部の層間に剥離が発生する
といつた不都合が生じるからである。一般に知ら
れている付加型イミド樹脂は、大型コンピユータ
用等の多層板レベルでみれば、基材との密着性が
不充分であるために、ドリル加工による孔あけ工
程で微細な剥離が生じやすい。また、基板を作製
するに際し、プリプレグを低圧力で成形すればボ
イドが発生して均一な基板が得られないので、必
然的に高圧力で成形を行う必要がある。このため
に、基板の寸法安定性も不充分になる。 〔発明の目的〕 この発明は、電子部品の高密度実装を可能にす
る高密度多層プリント板を得られることのできる
付加型イミド樹脂積層板を提供することを目的と
している。 〔発明の開示〕 前記のような目的を達成するため、発明者ら
は、まず、一般に知られている付加型イミド樹脂
プレポリマーを用いた場合、基材との密着性が不
充分になり、低圧力で成形するとボイドが発生す
る原因について研究した。その結果、一般の付加
型イミド樹脂プレポリマーが高分子領域の成分を
多く含有していることが原因であることがわかつ
た。発明者らは、さらに研究を重ねた結果、基材
との密着性が充分で低圧力で成形してもボイドの
発生しない組成の付加型イミド樹脂を見出し、こ
こに、以下の、三つの発明を完成した。そして、
この明細書で主眼とする発明は、これらのうちの
第3の発明、すなわち、付加型イミド樹脂積層板
である。 すなわち、第1の発明は、不飽和ビス−イミド
とジアミンとを反応させてなる付加型イミド樹脂
プレポリマー組成物(以下、付加型イミド樹脂プ
レポリマーと略す)であつて、不飽和ビス−イミ
ドとジアミンの混合物からなる残存未反応原料を
15〜55%、分子量400以上15000以下の成分を39〜
80%、分子量が15000を越える成分を0.7〜6.8%
の範囲でそれぞれ含むことを特徴とする付加型イ
ミド樹脂プレポリマー、第2の発明は、残存する
未反応原料を15〜55%、分子量400以上15000以下
の成分を39〜80%、分子量が15000を越える成分
を0.7〜6.8%の範囲でそれぞれ含むようにして不
飽和ビス−イミドとジアミンとを反応させて得ら
れる付加型イミド樹脂プレポリマーを基材に含浸
させ、半硬化させることにより、樹脂中の未反応
原料が15〜35%、分子量400以上15000以下の成分
が50〜80%、分子量が15000を越える成分が1〜
15%となるようにしたプリプレグ、第3の発明
は、プリプレグが積層成形されてなる積層板であ
つて、プリプレグとして、残存する未反応原料を
15〜55%、分子量400以上15000以下の成分を39〜
80%、分子量が15000を越える成分を0.7〜6.8%
の範囲でそれぞれ含むようにして不飽和ビス−イ
ミドとジアミンとを反応させて得られる付加型イ
ミド樹脂プレポリマーを基材に含浸させ、半硬化
させることにより、樹脂中の未反応原料が15〜35
%、分子量400以上15000以下の成分が50〜80%、
分子量が15000を越える成分が1〜15%となるよ
うにしたものが用いられていることを特徴とする
積層板をそれぞれ要旨としている。 以下に、これらの発明を詳しく説明する。 ここで、不飽和ビス−イミドは下記の式()、
ジアミンは下記の式()でそれぞれあらわされ
る。 (式中Dは炭素−炭素間の二重結合を含む2価の
基を表し、Aは少なくとも2個の炭素原子を含む
2価の基を表す) H2N−B−NH2 () (式中Bは30個以下の炭素原子を有する2価の基
である) 記号のAおよびBは、同一かまたは異なること
ができ、また13個よりも少ない炭素原子を持つて
いる直鎖のもしくは分岐したアルキレン基か、環
の中に5個もしくは6個の炭素原子を持つている
環状アルキレン基か、O、NおよびS原子の少な
くとも1個を含む異種環状基か、またはフエニレ
ンもしくは多環状芳香族基であることもできる。
これ等の種々の基は、反応条件のもとで不必要な
副反応を与えない置換基を持つていてもよい。 記号のAおよびBはまた、沢山のフエニレン基
か、または脂環状の基を表すこともできる。この
場合において、となりあうフエニレン基または脂
環状基は、直接に結合されるほか、酸素もしくは
硫黄などの2価の原子を介して結合されるか、ま
たは炭素原子1個から3個のアルキレン群もしく
は以下の群の内の1つの群を介して結合されるこ
とがある。これらの原子または群が複数存在する
場合には、それぞれが同じであつてもよく、異な
つていてもよい。 −NR4−、−P(O)R3−、−N=N−、
【式】−CO−O−、−SO2−、 −SiR3R4−、−CONH−、 −NY−CO−X−CO−NY−、 −O−CO−X−CO−O−、
【式】
【式】
【式】および
【式】 式中R3、R4およびYは、おのおの、炭素原子
1個から4個のアルキル基、環中に5個もしくは
6個の炭素原子を持つ環状アルキル基、またはフ
エニルもしくは多環状芳香族基を表し、Xは、13
個よりも少ない炭素原子を持つている直鎖もしく
は分岐したアルキレン基、環中に5個もしくは6
個の炭素原子をもつている環状アルキレン基、ま
たは単環もしくは多環状アリレン基を表す。 基Dは式: のエチレン系無水物から誘導されるもので、例え
ばマレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、テト
ラヒドロフタル酸無水物、イタコン酸無水物、お
よびシクロジエンとこれ等の無水物の1つの間に
起こるデイールスアルダー反応の生成物を表すこ
ともできる。 式()であらわされる不飽和ビス−イミドの
好ましい例には、次のものが挙げられる。マレイ
ン酸N・N′−エチレン−ビス−イミド、マレイ
ン酸N・N′−ヘキサメチレン−ビス−イミド、
マレイン酸N・N′−メタフエニレン−ビス−イ
ミド、マレイン酸N・N′−パラフエニレン−ビ
ス−イミド、マレイン酸N・N′−4・4′−ジフエ
ニルメタン−ビス−イミド〔N・N′−メチレン
ビス(N−フエニルマレイミド)とも言う〕、マ
レンイン酸N・N′−4・4′−ジフエニルエーテル
−ビス−イミド、マレイン酸N・N′−4・4′−ジ
フエニルスルフオン−ビス−イミド、マレイン酸
N・N′−4・4′−ジシクロヘキシルメタン−ビス
−イミド、マレイン酸N・N′−α・α′−4・4′−
ジメチレンシクロヘキサン−ビス−イミド、マレ
イン酸N・N′−メタキシリレン−ビス−イミド、
およびマレイン酸N・N′−ジフエニルシクロヘ
キサン−ビス−イミド。 式()であらわされるジアミンの好ましい実
例には、次のものがある。4・4′−ジアミノジシ
クロヘキシルメタン、1・4′−ジアミノシクロヘ
キサン、2・6−ジアミノピリジン、メタフエニ
レンジアミン、パラフエニレンジアミン、4・
4′−ジアミノ−ジフエニルメタン、2・2−ビス
(4−アミノフエニル)プロパン、ベンジジン、
4・4′−ジアミノフエニルオキサイド、4・4′−
ジアミノジフエニルサルフアイド、4・4′−ジア
ミノジフエニルスルフオン、ビス−(4−アミノ
フエニル)ジフエニルシラン、ビス−(4−アミ
ノフエニル)メチルフオスフインオキサイド、ビ
ス−(3−アミノフエニル)メチルフオスフイン
オキサイド、ビス−(4−アミノフエニル)−フエ
ニルフオスフインオキサイド、ビス−(4−アミ
ノフエニル)フエニラミン、1・5−ジアミノナ
フタレン、メタキシリレンジアミン、パラキシリ
レンジアミン、1・1−ビス−(パラアミノフエ
ニル)フタランおよびヘキサメチレンジアミン。 第1の発明にかかる付加型イミド樹脂プレポリ
マーは、前記のようなビス−イミドおよびジアミ
ンを触媒を用いて反応させ得られる。ここで触媒
は使用する極性溶媒中でプロトン供与体となりマ
イケル付加を促進させるものを用いる。触媒の例
を次のページに示す。 得られたプレポリマーは組成が以下に示される
ようになつている必要がある。 すなわち、未反応原料は15〜55%となつている
必要がある。55%を越えると、N−メチルピロリ
ドンやジメチルアセトアミド等の極性溶媒にプレ
ポリマーを溶解させてワニスを調整した場合、溶
剤に対する溶解性が低いため、沈澱が析出しやす
くなる。 また15%未満の場合は、ワニスの硬化までの時
間が短くなるため、可使時間が短くなる。 触媒の例 トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリ
ブチルアミン、N,N−テトラメチルエチレンジ
アミン、N,N−テトラメチル−1,3−ブタン
ジアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモ
ルホリン、ピリジン、α−ピコリン、キノリン、
N,N′−ジメチルアニリン、N,N′−ジエチル
アニリン、ジメチルベンジルアミン等の第三級ア
ミン、 ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シユウ酸、マロン
酸、コハク酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸等の有機酸、 および水。 分子量400以上15000以下の成分は、溶解性が良
好で活性度が高く、基材と良好な密着性を示す成
分である。この観点より考えれば多い程好ましい
のであるが、80%を越えるよう合成すれば、いか
なる触媒を用いても分子量15000を越える成分が
多くなりすぎて粘度が高くなりすぎる。また樹脂
の硬化までの時間を短縮させ、ワニスの可使時間
が短くなり、乾燥時間が充分にとれなくなる。 また39%未満では、未反応成分の残存が多くな
り、ワニスを調整した場合、沈澱が析出しやすく
なるといつたような前述の不都合が生じてくる。
したがつて、この成分は39〜80%となつている必
要がある。分子量15000を越える高分子量成分の
増大は、樹脂の硬化までの時間を短縮させる。そ
のため、ワニスの可使時間が短くなり、乾燥時間
が充分にとれなくなる。乾燥時間が充分でない
と、ワニス中に揮発成分が残存しやすくなる。そ
して基材との密着性も低下する。したがつて、こ
の成分は、少ない程良い。 発明者らが分子量50000を越える成分を分取し、
これをd−DMFに溶解した溶液をNMR分析に
かけたところ、ジアミン成分はほとんど認められ
ず、不飽和ビス−イミドの単独重合物であること
が認められた。この重合物は可撓性に乏しく、基
材との密着性が低いことが知られており、この意
味からも分子量15000を越える成分は少ない方が
好ましい。しかし、樹脂合成反応を開始すると、
直ちに分子量15000を越える領域が生成してくる
ので、皆無にすることは不可能である。そこで、
分子量15000を越える成分は、0.7〜6.8%となつ
ている必要がある。 6.8%を越えると上記のように、粘度が高くな
るといつた不都合が生じ、0.7%未満では反応不
十分でワニスが低粘度になり、ガラス布等の基材
に含浸した場合適正なレジンコンテントが得られ
ず、またワニスは沈澱が生じやすくなるという不
都合が生じてくる。 ここで、分子量分布は、DMF溶媒を使用し、
分離カラムとして昭和電工製AD−803/S(8.0×
250mm、理論段数6000段)を2本装着したゲル浸
透クロマトグラフ(東洋ソーダ製HLC−803D)
により測定した。分子量の計算は、5種類の単分
散ポリエチレングリコール及びエチレングライコ
ールモノマーのリテンシヨンタイムと分子量の常
用対数から、3次式の回帰曲線を求め、これを試
料に適用し、試料のリテンシヨンタイムから逆に
分子量を求めるという方法で行つた。また、各成
分の割合(%)は、示差屈折計(128×10-8RI単
位)を用い、試料濃度を0.5±0.2%、試料注入量
を100μとして測定し、屈折計出力0〜1V記録
計への出力0〜10mV、チヤート速度5mm/分と
して得られたクロマトグラムを、必要な分子量区
分に分け、切りぬき重量法により、それぞれの比
率を求めた。 各成分が前記のような成分割合となつた付加型
イミド樹脂プレポリマーは、基材との密着性が高
く耐熱性も高い。市販品の中にはこのような成分
割合のものは無く、一般的に入手することはでき
ない。発明者らが調べたところによると、市販品
は、第1の発明の付加型イミド樹脂プレポリマー
に比べ、分子量15000を越える成分の割合が大き
く異なり、市販品のいずれかにこの成分を非常に
大きく含有するものであつた。 第1の発明のプレポリマーは、普通、不飽和ビ
ス−イミドとジアミンとを極性溶媒中で95℃以下
の低温で反応させることにより得られるが、温度
は60〜95℃がより好ましい。従来一般に用いられ
ている温度条件、すなわち、120〜200℃での溶融
反応、極性溶媒による溶液反応は、未反応原料の
効率良い減少が計れるものの、反応が進み過ぎ、
分子量15000を越える成分が多く生成している。
分子量15000を越える成分を0.7〜6.8%に止める
ようにした場合には、反応が不充分で未反応原料
が多く残存するようになる。この傾向は熱溶融反
応を高温で行うほど顕著になり、この場合、未反
応原料が多く存在し、かつ、15000を越える成分
も多く存在する様になる。その結果として最も有
効な成分である分子量400以上15000以下の部分が
極端に少なくなる。前記のような反応は通常0.5
〜10時間行われるが、具体的な時間は原料の種
類、極性溶媒の種類、濃度、反応温度により選択
され、前記の範囲を外れる場合もある。 不飽和ビス−イミドとジアミンの配合率は、
1.7/1〜2.5/1モル比率が好ましく、1.7/1よ
り低いと高分子量の生成が多くなり、硬化までの
時間も短くなり取扱いにくくなる。他方、2.5/
1を越えると未反応原料が多く残存しやすくな
り、特に不飽和イミド成分が多く残るようにな
る。そのため、プレポリマー溶液の保管中に沈澱
が析出し易くなる。これに対して、不飽和ビス−
イミドとジアミンの配合率が、1.7/1〜2.5/1
の範囲内のものは、通常の保管中および−5℃で
冷蔵保管しても沈澱の生成はほとんど見られな
い。この配合比率は、最終的なものであつて、両
者あるいは片方のみを2回以上に分けて使用し、
反応の途中段階で加えたり、場合によつては反応
終了後に加えたりするようであつてもよい。 この発明の付加型イミド樹脂プレポリマーはプ
リント配線板用積層板の他、各種充填材との組合
わせにより、半導体封止材料、高強度高弾性率電
気機器用構造材料、電磁波シールド材料等の成形
材料、半導体素子のダイボンド用及びチツプ部品
搭載用等の接着材および回路印刷用ペースト等の
広範な電気用途に使用することが可能であり、こ
れらに用いることにより高耐熱性、高密着性、可
撓性の良好な成形体を得ることが可能となる。 第2の発明にかかるプリプレグは、第1の発明
にかかる付加型イミド樹脂プレポリマーを基材に
含浸させたのち、プレポリマーの第2次反応およ
び溶媒を蒸発させることを行つてプレポリマーを
半硬化させ、樹脂中の未反応原料が15〜35%、分
子量400以上15000以下の成分が50〜80%、分子量
15000を越える成分が1〜15%となるようにした
ものである。このプリプレグは、第1の発明にか
かる付加型イミド樹脂プレポリマーを用いなけれ
ば、得ることができない。未反応原料の含有量が
15%未満で、分子量が400以上15000以下の成分が
80%を越え、分子量15000を越える成分が15%を
越えると分子量15000を越える成分が多くなつて、
樹脂の粘度が高くなりすぎる。そのため、低圧成
形するとボイドが発生する。また、硬化までの時
間が短か過ぎ、大きい積層板(成形板)を得るの
が困難になる。他方、未反応原料の含有量が35%
を越え、分子量400以上15000以下の成分が50%未
満で、分子量15000を越える成分が1%未満にな
ると、プリプレグ中に溶媒が残存しやすくなり、
積層板にフクレ等が発生する原因になる。分子量
15000を越える成分はやはり少ない方が好ましい。
この理由はプレポリマーの説明のところで述べた
とおりである。 市販の付加型イミド樹脂プレポリマーは、分子
量15000を越える成分が多量に含まれているので、
どの様な半硬化条件(第2次反応条件)を選んで
も、前記のような成分割合のプリプレグを得るこ
とができない。 付加型イミド樹脂プレポリマーを含浸させる基
材の種類は特に限定されない。通常は、ガラスク
ロス等が用いられる。この他、石英繊維布等の無
機繊維布、ケブラー繊維布等の高耐熱性有機繊維
布などが用いられてもよい。これらの基材は通常
カツプリング剤等で表面処理を施して用いられ
る。 半硬化させるときの温度は130〜155℃にする必
要がある。155℃を越えると分子量15000を越える
成分の生成が促進され、130℃未満では、未反応
原料の残存量が多くなり成形に際して溶媒が残存
しやすくなつて積層板にフクレ等が発生しやすく
なるとともに、効率よくプリプレグを生産するこ
とができなくなるからである。 第3の発明にかかる積層板は、第2の発明にか
かるプリプレグを用いてつくられる。すなわち、
必要に応じて、銅、ニツケル等の金属箔あるい
は、回路形成された内層材とともにこのプリプレ
グを積層成形してつくられる。第3の発明にかか
る積層板は、第2の発明のプリプレグを用いるの
でなければ、ボイドを生じさせることなく低圧成
形することができない。すなわち、50cm×50cm以
上の面積の積層板をボイドができないよう成形す
る場合、市販のプレポリマーを用いたプリプレグ
が40Kg/cm2以上の高圧力が必要であるのに比べ、
第2の発明のプリプレグは、15Kg/cm2以下の低圧
力で成形することが可能である。このため、第3
の発明にかかる積層板は、非常に寸法の安定した
ものとすることができる。また、この積層板は、
第1の発明にかかるプレポリマーが用いられるの
で樹脂と基材の密着性が高い。したがつて、この
積層板を用いれば、高密度高多層プリント板を得
ることが可能となる。 つぎに、第1〜第3の発明の実施例、比較例お
よび従来例について説明する。 まず、第1の発明について説明する。 つぎのようにして、プレポリマー溶液の合成お
よび調整を行つた。 実施例1〜6および比較例1〜6では、第1表
に示される配合の原料の内N,N′−メチレンビ
ス(N−フエニルマレイミド)後添加分をのぞい
た原料を3四つ口フラスコに計り込み、撹拌
棒、温度計、冷却器をフラスコに付けた後、側口
より窒素ガスを通じた。フラスコ内の空気を窒素
置換した後、オイルバスにより加熱を行つた。内
容物の溶解に伴い撹拌を開始し、第1表に示され
ている温度に設定した。同表に示されている時間
撹拌を続けた後、ウオーターバスで冷却を行い、
15分間で室温まで温度を下げて、暗かつ色液体と
なつたプレポリマー溶液を得た。実施例6ではビ
ス−イミドを603gと394gの2回に分けて計997
g使用することとした。そして、603gのビス−
イミドを前記と同じように使用して原料を120分
間反応させた後、90℃で394gのビス−イミドを
フラスコに投入した。これを溶解させた後、反応
物を冷却してプレポリマー溶液を得た。比較例6
についても同様に先に828g後で83gの2回に分
けて計911g使用した。 従来例では市販のポリアミノビスマレイミドを
第1表に示されている量だけ用い、これを50℃以
下で、同表に示されている量のN−メチルピロリ
ドン中に溶解させることにより、赤かつ色のプレ
ポリマー溶液を得た。 前記のようにして得られたプレポリマー溶液
(樹脂液)の分析値および特性値を第2表に示す。
【表】 ※1



※2

【表】
【表】 第1表および第2表より、比較例1〜6は反応
温度および反応時間および触媒量の組合わせが適
さなかつたので、この発明のプレポリマーが得ら
れなかつたことがわかる。 つぎに、第2の発明について説明する。 先に得た、樹脂液を用い、表面処理を行つた
105g/m2のガラスクロスに第3表の条件で含浸
を行つた。乾燥器中で2次反応を行つて、レンジ
コンテント47〜50%のプリプレグを作製した。得
られたプリプレグの特性を第3表の下欄に示す。
【表】
【表】 第3表より、比較例あるいは従来例のプレポリ
マーを用いたのでは、この発明のプリプレグが得
られないことがわかる。また、第1の発明のプレ
ポリマーを用いたとしても、半硬化後の樹脂の分
子量分布が第2の発明で規定した範囲を外れる
と、揮発分が多くなるかゲルタイムが短くなるこ
とがわかる。 つぎに、第3の発明について説明する。 先に得たプリプレグを30cm×30cmの大きさに
し、これを4枚重ね、これらの両面に表面処理を
行つた同サイズの1/2オンス/ft2の銅箔を於
いて積層体とした。これを1.6mm厚の金型にはさ
み、蒸気プレスを用いて5Kg/cm2の加圧を行いつ
つ直ちに130℃まで加熱し、20分間保持した。こ
の後、圧力を10Kg/cm2に設定するとともに170℃
に加熱し、90分後に圧力をかけたまま室温まで冷
却して、両面銅張積層板を得た。このものを、
200℃、120分間の温度条件でアフターキユアーを
行つた。 得られた積層板の吸水率をJIS C 6481にもと
づき、測定した結果を第4表に示す。 つぎに、50cm×50cmの大きさにした前記プリプ
レグを5枚重ね2段目の圧力を10Kg/cm2と15Kg/
cm2の2種類をそれぞれ用いた以外は上記と同様に
して作成した積層板の、成形結果および層と層の
間を90°方向にはがしたときの密着力の測定結果
を同じく第4表に示す。 25cm×25cmのプリプレグ1枚と、同サイズで1
オンス/ft2の銅箔2枚を用いた他は上記と同様
にして両面銅張積層板1次成形物を得た。このも
のに約200mm間隔で基準点穴を開けた後、穴間の
寸法を正確に測定し、両面の銅箔を常法に基づき
エツチング除去し、これ(内層材)の片面に前記
と同寸法のプリプレグ2枚と同寸法で1オンス/
ft2の銅箔1枚を積層するとともに、反対面にも
同様にプリプレグ2枚と銅箔1枚を積層し、10
Kg/cm2で170℃、90分間上記と同様に成形後、200
℃、120分でアフターキユアーして積層板を得た。
この積層板の内層材の基準穴上の銅箔を機械的に
除去し、寸法を計測したときの内層材の寸法変化
を測定した。この測定方法に基づき以上の測定を
10回行つた。このときの寸法変化のバラツキ
(3σ}を同じく第4表に示す。
【表】
〔発明の効果〕
第1の発明にかかる付加型イミド樹脂プレポリ
マー、第2の発明にかかるプリプレグおよび第3
の発明にかかる積層板は、前記のように構成され
ているので、これらを用いれば、高密度高多層プ
リント板を得ることが可能になる。 すなわち、第1の発明にかかるプレポリマー
は、N−メチルピロリドンやジメチルアセトアミ
ド等の極性溶媒に溶解してワニスを調整した場
合、ワニス中に未反応原料の沈澱や高分子量不溶
解物を含まないクリアーなワニスとなり、また、
ワニスの硬化までの時間が長いため、ワニスの可
使時間も長くなつている。 つぎに、第2の発明にかかるプリプレグは上記
の第1の発明にかかるプレポリマーを使用してい
るので、ワニスの硬化までの時間が長く、充分に
乾燥でき、プリプレグ中に残存する揮発分が少な
くなる。また樹脂の溶融粘度が低くなるため、こ
のプリプレグを低圧で成形してもカスレが発生し
ない等、大きいサイズの積層板の成形に適してい
る。 また第3の発明にかかる積層板は上記の第2の
発明にかかるプリプレグを使用しているので低圧
で成形できるため寸法安定性がよく、基材と樹脂
との密着力にすぐれた積層板が得られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 プリプレグが積層成形されてなる積層板であ
    つて、プリプレグとして、不飽和ビス−イミドと
    ジアミンとを反応させてなり、不飽和ビス−イミ
    ドとジアミンの混合物からなる残存未反応原料を
    15〜55%、分子量400以上15000以下の成分を39〜
    80%、分子量が15000を越える成分を0.7〜6.8%
    の範囲でそれぞれ含む付加型イミド樹脂プレポリ
    マー組成物を基材に含浸させ、半硬化させること
    により、樹脂中の不飽和ビス−イミドとジアミン
    の混合物からなる未反応原料が15〜35%、分子量
    400以上15000以下の成分が50〜80%、分子量が
    15000を越える成分が1〜15%となるようにした
    プリプレグが用いられていることを特徴とする付
    加型イミド樹脂積層板。
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