JPH04132122A - 電気接点 - Google Patents

電気接点

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JPH04132122A
JPH04132122A JP2252505A JP25250590A JPH04132122A JP H04132122 A JPH04132122 A JP H04132122A JP 2252505 A JP2252505 A JP 2252505A JP 25250590 A JP25250590 A JP 25250590A JP H04132122 A JPH04132122 A JP H04132122A
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茂 斎藤
Koichi Kondo
幸一 近藤
Hirotsugu Hanada
花田 曠嗣
Masanori Baba
馬場 正典
Haruyuki Ogiwara
荻原 春幸
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 不活性ガスと共にガラス管中に封入されてなるリードス
イッチの電気接点に関し、 輪中負荷領域のみならず重負荷領域においても長期間の
使用に耐え、しかも従来の標準型電気接点に比べて安価
な電気接点の提供を目的とし、Fe−Ni系磁性材料か
らなる接点基台とCu−Ni拡散層と表面層からなり、
接点基台上にめっきされたCuとNiを拡散処理してC
u−Ni拡散層が形成され、拡散層上にRhをめっきし
て表面層が形成されてなるように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は不活性ガスと共にガラス管中に封入されてなる
リードスイッチの電気接点に関する。
リードスイッチは磁性材料からなるリード片とガラス管
からなり、通常ロジウム(Rh)やルテニウム(Ru)
や金(Au)などの貴金属材料が、リード片の先端近傍
にめっきされて電気接点を構成している。
しかしかかる貴金属材料は貴重な資源であり高価である
。そこでリードスイッチの動作特性を低下させることな
く、貴金属材料の使用量を削減できる電気接点の開発が
要望されている。
〔従来の技術〕
第4図は従来の標準型電気接点における層構成を示す側
断面図、第5図は従来の低コスト型電気接点における層
構成を示す側断面図である。
従来の標準型電気接点は第4図に示す如(リード片即ち
接点基台lが、鉄(Fe)−ニッケル(Ni)系磁性材
料(パーマロイ)からなり、接点基台l上にIμm程度
のAuをめっきして形成された導電性密着層2と、導電
性密着層2の上に3μm程度のRhをめっきして形成さ
れた表面層3を具えている。
このように接点基台1の上に3μm程度のRhからなる
表面層3を有する電気接点は、輪中負荷領域のみならず
重負荷領域に対しても長期間の使用に耐えることができ
る。
一方、高価なRhの使用をさけた従来の低コスト型電気
接点は第5図に示す如く、Fe−Ni系磁性材料からな
る接点基台l上に直接Cu−Ni拡散層4が形成されて
いる。Cu−Ni拡散層4はCuとNiをめっきし拡散
処理することによって得られるが、Cu −Ni拡散層
4はそのまま表面層として使用可能でRh等からなる表
面層3が不要になる。
また接点基台1上に直接CuとNiをめっきし拡散処理
すると、CuとNiが接点基台lの内部にまで拡散する
ため導電性密着層2が不要になる。このように表面層3
と導電性密着層2を不要にすることによって電気接点の
製造コストを、従来の標準型電気接点の60%程度に低
減することができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述の如〈従来の低コスト型電気接点は標準型電気接点
に比べて安価で、輪中負荷領域においては標準型電気接
点よりも長い期間の使用に耐える。
しかし、Cu−Ni拡散層を構成するCuやNiはRh
に比べて融点が低いため、放電を伴う重負荷領域では寿
命が極めて短くなるという問題があった。
本発明の目的は輪中負荷領域のみならず重負荷領域にお
いても長期間の使用に耐え、しかも従来の標準型電気接
点に比べて安価な電気接、叙を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
第1図は本発明になる電気接点の原理を示す側断面図で
ある。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表してい
る。
上記課題はFe−Ni系磁性材料から□なる接点基台l
とCu−Ni拡散層4と表面層3からなり、接点基台l
上にめっきされたCuとNiを拡散処理してCu−Ni
拡散層4が形成され、拡散層4上にRhをめっきして表
面層3が形成されてなる本発明の電気接点によって達成
される。
〔作 用〕
第1図において接点基台上にCu−Ni拡散層を形成し
てなる電気接点は、輪中負荷領域では表面層゛が無くて
も長期間の使用に耐え安価である。また拡散層上の表面
層は重負荷領域における特性を改警するためのもので、
例えば2μm以下の極く薄いRh層であってもその目的
を達成可能である。
このようにFe−Ni系磁性材料からなる接点基台とC
u−Ni拡散層と表面層からなり、接点基台上にめっき
されたCuとNiを拡散処理してCu−Ni拡散層が形
成され、拡散層上にRhをめっきして表面層が形成され
てなる本発明の電気接点は、製造コストを従来の標準型
電気接点の80%程度に低減することができる。
即ち、輪中負荷領域のみならず重負荷領域においても長
期間の使用に耐え、しかも従来の標準型電気接点に比べ
て安価な電気接点を実現することができる。
〔実施例〕
以下添付図により本発明の実施例について説明する。第
2図は本発明の一実施例における層構成を示す側断面図
、第3図は従来の標準型電気接点と一実施例の特性を示
す図である。
第2図において本発明の一実施例はFe−Ni系磁性材
料からなる接点基台l上に、めっきされたCuとNiを
拡散処理して得たCu−Ni拡散層4が直接形成されて
おり、0.5μm程度の厚さにめつきされたAuからな
る導電性密着層2を介して、Cu−Ni拡散層4の上に
2μm程度のRhからなる表面層3が形成されている。
第3図は負荷抵抗に印加された直流lOV O,5Aの
電流を開閉したとき、即ち、放電を伴う重負荷領域にお
ける電気接点の寿命を示しており、図において横軸は電
気接点の開閉回数、縦軸は累積故障率である。従来の標
準型電気接点は破線で示す如く70万回位開閉すると、
それ以降は累積故障率が急増し500万回位の開閉で殆
どが故障するのに対し、上記実施例に示す電気接点は実
線で示す如(500万回位の開閉に耐えることができる
このようにFe−Ni系磁性材料からなる接点基台とC
u−Ni拡散層と表面層からなり、接点基台上にめっき
されたCuとNiを拡散処理してCu−Ni拡散層が形
成され、拡散層上にRhをめっきして表面層が形成され
てなる本発明の電気接点によって、輪中負荷領域のみな
らず重負荷領域においても長期間の使用に耐え、しかも
従来の標準型電気接点に比べて安価な電気接点を実現す
ることができる。
〔発明の効果〕
上述の如く本発明によれば輪中負荷領域のみならず重負
荷領域においても長期間の使用に耐え、しかも従来の標
準型電気接点に比べて安価な電気接点を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明になる電気接点の原理を示す側断面図、 第2図は本発明の一実施例における層構成を示す側断面
図、 第3図は従来の標準型電気接点と一実施例の特性を示す
図、 第4図は従来の標準型電気接点における層構成を示す側
断面図、 第5図は従来の低コスト型電気接点における層構成を示
す側断面図、 である。図において ■は接点基台、  2は導電性密着層、3は表面層、 
   4はCu−Ni拡散層、をそれぞれ表す。 第 凹 本発明の一火垢例1〔おける層構成にホ可■り断面国第
 2  図 技来の標7型電気桜盾、と−史論例の特性と爪ず間第 
 3  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)Fe−Ni系磁性材料からなる接点基台(1)とC
    u−Ni拡散層(4)と表面層(3)からなり、該接点
    基台(1)上にめっきされたCuとNiを拡散処理して
    該Cu−Ni拡散層(4)が形成され、該拡散層(4)
    上にRhをめっきして該表面層(3)が形成されてなる
    ことを特徴とする電気接点。 2)接点基台(1)上にめっきされたCuとNiを拡散
    処理し形成したCu−Ni拡散層(4)と、表面層(3
    )との間に導電性密着層(2)を介在させてなる請求項
    1記載の電気接点。
JP2252505A 1990-09-20 1990-09-20 電気接点 Expired - Fee Related JPH0748329B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013258041A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 Oki Sensor Device Corp リードスイッチの製造方法及びリードスイッチ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013258041A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 Oki Sensor Device Corp リードスイッチの製造方法及びリードスイッチ

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