JPH04145585A - マスクパターン編集方法 - Google Patents
マスクパターン編集方法Info
- Publication number
- JPH04145585A JPH04145585A JP2267981A JP26798190A JPH04145585A JP H04145585 A JPH04145585 A JP H04145585A JP 2267981 A JP2267981 A JP 2267981A JP 26798190 A JP26798190 A JP 26798190A JP H04145585 A JPH04145585 A JP H04145585A
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- Japan
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- shift
- figures
- graphic
- shifted
- mask pattern
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［［Ｅ要］
半導体集積回路のパターン設計に用いられるマスクパタ
ーン編集方法に関し、 複数の図形を組み合わせて種々の図形を生成することを
目的とし、 拡大シフト又は縮小シフトを行なうシフト方向及びシフ
ト量を設定し、該シフトを行なう図形を指定し、指定さ
れた該図形について、設定された該シフト方向へ、設定
された該シフト量だけシフトさせるというシフト処理を
基礎とし、互いに接近した複数の図形を該シフト処理に
より設定方向に拡大シフトし、シフトされた該図形間で
図形論理演算を行って新たな図形を生成し、新たな該図
形に対し該シフト処理により該設定方向に縮小シフトす
ることにより、該シフト方向のみの図形間を接続した図
形を生成するように構成する。
ーン編集方法に関し、 複数の図形を組み合わせて種々の図形を生成することを
目的とし、 拡大シフト又は縮小シフトを行なうシフト方向及びシフ
ト量を設定し、該シフトを行なう図形を指定し、指定さ
れた該図形について、設定された該シフト方向へ、設定
された該シフト量だけシフトさせるというシフト処理を
基礎とし、互いに接近した複数の図形を該シフト処理に
より設定方向に拡大シフトし、シフトされた該図形間で
図形論理演算を行って新たな図形を生成し、新たな該図
形に対し該シフト処理により該設定方向に縮小シフトす
ることにより、該シフト方向のみの図形間を接続した図
形を生成するように構成する。
本発明は、半導体集積回路のパターン設計に用いられる
マスクパターン編集方法に関する。
マスクパターン編集方法に関する。
パターン設計においては、図形を太めたり細めたりした
後、図形間の論理演算を行って新たな図形を生成すると
いう編集処理がある。 例えば、第４Ａ図に示すような３つの図形１０．１２及
び１４から、これら図形間の隙間を埋めた第４Ｂ図に示
すような１つの図形１６を生成する場合、次のような編
集処理を行う。すなわち、図形１０を拡大シフトさせて
一点鎖線で示す図形１０Ａに変換し、図形１２を拡大シ
フトさせて一点鎖線で示す図形１２Ａに変換し、図形１
４を拡大シフトさせて点線で示す図形１４Ａに変換して
、これら図形間の隙間を埋める。図中、斜線部は拡大し
た部分を示す。次に、図形１０Ａと１２八と１４Ａとの
図形論理和演算を行って、３つの図形を含む１つの図形
を生成し、次にこの図形を縮小させて、第４Ｂ図に示す
ような図形１６を生成する。図中、１６ａは、このよう
な編集処理で埋められた、図形１０．１２及び１４間の
領域を示す。
後、図形間の論理演算を行って新たな図形を生成すると
いう編集処理がある。 例えば、第４Ａ図に示すような３つの図形１０．１２及
び１４から、これら図形間の隙間を埋めた第４Ｂ図に示
すような１つの図形１６を生成する場合、次のような編
集処理を行う。すなわち、図形１０を拡大シフトさせて
一点鎖線で示す図形１０Ａに変換し、図形１２を拡大シ
フトさせて一点鎖線で示す図形１２Ａに変換し、図形１
４を拡大シフトさせて点線で示す図形１４Ａに変換して
、これら図形間の隙間を埋める。図中、斜線部は拡大し
た部分を示す。次に、図形１０Ａと１２八と１４Ａとの
図形論理和演算を行って、３つの図形を含む１つの図形
を生成し、次にこの図形を縮小させて、第４Ｂ図に示す
ような図形１６を生成する。図中、１６ａは、このよう
な編集処理で埋められた、図形１０．１２及び１４間の
領域を示す。
ところが、従来のシフト処理は、ｘ−Ｙ直交座標系にお
いて、Ｘ方向とＹ方向の両方向へ同率で同時に拡大又は
縮小することしかできなかったので、図形１０〜１４間
が互いに同一間隔の場合には、第４Ａ図に示す図形１０
．１２及び１４から、図形ＩＯと１４との間及び図形１
２と１４との間のみを埋めた第４Ｃ図に示すような凹形
の図形１８を生成することができなかった。 本発明の目的は、このような問題点に鑑み、複数の図形
を組み合わせて種々の図形を生成することができるマス
クパターン編集方法を提供することにある。
いて、Ｘ方向とＹ方向の両方向へ同率で同時に拡大又は
縮小することしかできなかったので、図形１０〜１４間
が互いに同一間隔の場合には、第４Ａ図に示す図形１０
．１２及び１４から、図形ＩＯと１４との間及び図形１
２と１４との間のみを埋めた第４Ｃ図に示すような凹形
の図形１８を生成することができなかった。 本発明の目的は、このような問題点に鑑み、複数の図形
を組み合わせて種々の図形を生成することができるマス
クパターン編集方法を提供することにある。
本発明に係るマスクパターン編集方法を、実施例図面第
１図を参照して説明する。 このマスクパターン編集方法は、 （５０）拡大シフト又は縮小シフトを行なうシフト方向
及びシフト量を設定し、 （５２）該シフトを行なう図形を指定し、（５４〜６０
）指定された該図形について、設定された該シフト方向
へ、設定された該ソフト量だけシフトさせる方法を基礎
としている。 そして、 （５０〜６０）互いに接近した複数の図形を上記シフト
処理により設定方向に拡大シフトし、（６６〜６８）シ
フトされた該図形間で図形論理演算を行って新たな図形
を生成し、 （５０〜６０）新たな該図形に対し上記シフト処理によ
り該設定方向に縮小シフトすることにより、該シフト方
向のみの図形間を接続した図形を生成する。
１図を参照して説明する。 このマスクパターン編集方法は、 （５０）拡大シフト又は縮小シフトを行なうシフト方向
及びシフト量を設定し、 （５２）該シフトを行なう図形を指定し、（５４〜６０
）指定された該図形について、設定された該シフト方向
へ、設定された該ソフト量だけシフトさせる方法を基礎
としている。 そして、 （５０〜６０）互いに接近した複数の図形を上記シフト
処理により設定方向に拡大シフトし、（６６〜６８）シ
フトされた該図形間で図形論理演算を行って新たな図形
を生成し、 （５０〜６０）新たな該図形に対し上記シフト処理によ
り該設定方向に縮小シフトすることにより、該シフト方
向のみの図形間を接続した図形を生成する。
本発明によれば、設定したある一方向のみについてシフ
ト処理することができるので、このシフト処理と図形論
理演算とを組み合わせることにより、互いに接近したあ
る図形間を分離させたまま他の図形間を接続することが
可能となる。 したがって、複数の図形を組み合わせて、従来できなか
った図形を生成することができる。
ト処理することができるので、このシフト処理と図形論
理演算とを組み合わせることにより、互いに接近したあ
る図形間を分離させたまま他の図形間を接続することが
可能となる。 したがって、複数の図形を組み合わせて、従来できなか
った図形を生成することができる。
以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
パターン設計用ＣＡＤのハードウェアは、コンピュータ
と標準的な入出力装置とで構成されており、その説明を
省略する。第１図は、パターン設計用ＣＡＤのソウフト
ウエアのうち、シフト処理と図形論理演算とを組み合わ
せた図形編集のソフトウェア構成を示す。以下において
は、第２Ａ図に示すように相互間隔が同一の３つの図形
１０．１２及び１４から、図形１０と１４との間及び図
形１２と１４との間を埋めた第２Ｃ図に示すような図形
２２を生成する場合を例にとって、このソフトウェア構
成を説明する。 （５０）シフト方向及びシフト量を設定する。 この例では、シフト方向を第２Ａ図に示すＹ方向とし、
シフト量を例えば８０％とする。 （５２）シフトしようとする図形を指定する。 例えば、最初に図形１０を指定する。 （５４）ステップ５０で設定されたシフト方向に応じて
分岐し、 （５６〜６０）ステップ５２で指定された図形について
、ステップ５０で設定されたシフト量だけ、設定された
Ｘ方向、Ｙ方向又はＸ−Ｙ両方向にシフト処理を行う。 このシフト処理は、図形の重心を移動させずに行なう。 図形１０は、このシフト処理により、図形１０Ｂに変換
される。第２Ａ図中、斜線部は拡大部分を示す。 （６２，６４）最初は、図形論理演算を行わずにステッ
プ５０へ戻り、図形１２について上記同様にＸ方向シフ
ト処理を行って、図形１２を図形１２Ｂに変換する。 上記同様にして、図形１４についてもＸ方向シフト処理
を行って、図形１４を図形１４Ｂに変換する。 （６６）次に、図形論理演算を行う図形及び演算の種類
を指定する。この例では、図形１０Ｂ１１２Ｂ及び１４
Ｂを指定し、図形論理和演算を指定する。 （６８）図形論理演算が実行され、第２Ｂ図に示すよう
な凹型の図形２０が生成される。 次に、ステップ６４を通って上記ステップ５０へ戻り、
上記同様にしてＹ方向への縮小シフト処理を行って、第
２Ｃ図に示すような図形２２を生成する。 このような処理により、第２Ａ図に示す図形１０．１２
及び１４から、従来生成することができなかった第２Ｃ
図に示すような図形２２を得ることができる。 次に、第３Ａ図及び第３Ｂ図を参照して、Ｘ方向ヘシフ
トする場合を説明する。第３Ａ図に示すように互いに分
離した図形２４．２６．２８があったときに、図形２４
と２６との間及び図形２４と２８との間は分離したまま
で、図形２６と２８との間を接続した図形を生成する場
合には、次のような編集処理を行う。 すなわち、図形２６及び２８をＸ方向へ拡大シフト処理
してそれぞれ図形２６Ａ及び２８Ａに変換する。次に、
図形２６Ａと２８Ａとについて図形論理和演算を行い、
１つの図形にする。次に、この図形についてＸ方向へ縮
小シフト処理を行い、第３Ｂ図に示すような図形３０を
生成する。 なお、本発明には他にも種々の変形例が含まれる。 例えば、上記実施例ではＸ方向又はＹ方向の一方向のみ
についてシフト処理を行う場合を説明したが、本発明は
、Ｘ方向とＹ方向の両方向について異なる倍率でシフト
処理を行うようにしてもよい。また、シフト方向はＸ方
向又はＹ方向に限定されず、任意の方向にシフトできる
ようにしてもよい。
と標準的な入出力装置とで構成されており、その説明を
省略する。第１図は、パターン設計用ＣＡＤのソウフト
ウエアのうち、シフト処理と図形論理演算とを組み合わ
せた図形編集のソフトウェア構成を示す。以下において
は、第２Ａ図に示すように相互間隔が同一の３つの図形
１０．１２及び１４から、図形１０と１４との間及び図
形１２と１４との間を埋めた第２Ｃ図に示すような図形
２２を生成する場合を例にとって、このソフトウェア構
成を説明する。 （５０）シフト方向及びシフト量を設定する。 この例では、シフト方向を第２Ａ図に示すＹ方向とし、
シフト量を例えば８０％とする。 （５２）シフトしようとする図形を指定する。 例えば、最初に図形１０を指定する。 （５４）ステップ５０で設定されたシフト方向に応じて
分岐し、 （５６〜６０）ステップ５２で指定された図形について
、ステップ５０で設定されたシフト量だけ、設定された
Ｘ方向、Ｙ方向又はＸ−Ｙ両方向にシフト処理を行う。 このシフト処理は、図形の重心を移動させずに行なう。 図形１０は、このシフト処理により、図形１０Ｂに変換
される。第２Ａ図中、斜線部は拡大部分を示す。 （６２，６４）最初は、図形論理演算を行わずにステッ
プ５０へ戻り、図形１２について上記同様にＸ方向シフ
ト処理を行って、図形１２を図形１２Ｂに変換する。 上記同様にして、図形１４についてもＸ方向シフト処理
を行って、図形１４を図形１４Ｂに変換する。 （６６）次に、図形論理演算を行う図形及び演算の種類
を指定する。この例では、図形１０Ｂ１１２Ｂ及び１４
Ｂを指定し、図形論理和演算を指定する。 （６８）図形論理演算が実行され、第２Ｂ図に示すよう
な凹型の図形２０が生成される。 次に、ステップ６４を通って上記ステップ５０へ戻り、
上記同様にしてＹ方向への縮小シフト処理を行って、第
２Ｃ図に示すような図形２２を生成する。 このような処理により、第２Ａ図に示す図形１０．１２
及び１４から、従来生成することができなかった第２Ｃ
図に示すような図形２２を得ることができる。 次に、第３Ａ図及び第３Ｂ図を参照して、Ｘ方向ヘシフ
トする場合を説明する。第３Ａ図に示すように互いに分
離した図形２４．２６．２８があったときに、図形２４
と２６との間及び図形２４と２８との間は分離したまま
で、図形２６と２８との間を接続した図形を生成する場
合には、次のような編集処理を行う。 すなわち、図形２６及び２８をＸ方向へ拡大シフト処理
してそれぞれ図形２６Ａ及び２８Ａに変換する。次に、
図形２６Ａと２８Ａとについて図形論理和演算を行い、
１つの図形にする。次に、この図形についてＸ方向へ縮
小シフト処理を行い、第３Ｂ図に示すような図形３０を
生成する。 なお、本発明には他にも種々の変形例が含まれる。 例えば、上記実施例ではＸ方向又はＹ方向の一方向のみ
についてシフト処理を行う場合を説明したが、本発明は
、Ｘ方向とＹ方向の両方向について異なる倍率でシフト
処理を行うようにしてもよい。また、シフト方向はＸ方
向又はＹ方向に限定されず、任意の方向にシフトできる
ようにしてもよい。
以上説明した如く、本発明に係るマスクパターン編集方
法では、設定したある一方向のみについてシフト処理す
ることができるので、このシフト処理と図形論理演算と
を組み合わせることにより、互いに接近したある図形間
を分離させたまま他の図形間を接続することが可能とな
り、複数の図形を組み合わせて、従来できなかった図形
を生成することができるという効果を奏する。
法では、設定したある一方向のみについてシフト処理す
ることができるので、このシフト処理と図形論理演算と
を組み合わせることにより、互いに接近したある図形間
を分離させたまま他の図形間を接続することが可能とな
り、複数の図形を組み合わせて、従来できなかった図形
を生成することができるという効果を奏する。
第１図乃至第３Ｂ図は本発明に係るマスクパターン編集
方法の実施例に係り、 第１図はシフト処理と図形論理演算を組み合わせた図形
編集のソフトウェア構成を示すフローチャート、 第２Ａ図乃至第２Ｃ図は図形をＹ方向へシフト処理して
新たな図形を生成する場合を示す図、第３Ａ図及び第３
ＢＹｌｌＪは図形をＸ方向にシフト処理して新たな図形
を生成する場合を示す図である。 第４Ａ図乃至第４Ｃ図は従来例に係り、シフト処理して
新たな図形を生成する場合を示す図である。 図中、１０〜３０は図形 １ｏ〜２２・図形
方法の実施例に係り、 第１図はシフト処理と図形論理演算を組み合わせた図形
編集のソフトウェア構成を示すフローチャート、 第２Ａ図乃至第２Ｃ図は図形をＹ方向へシフト処理して
新たな図形を生成する場合を示す図、第３Ａ図及び第３
ＢＹｌｌＪは図形をＸ方向にシフト処理して新たな図形
を生成する場合を示す図である。 第４Ａ図乃至第４Ｃ図は従来例に係り、シフト処理して
新たな図形を生成する場合を示す図である。 図中、１０〜３０は図形 １ｏ〜２２・図形
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）、拡大シフト又は縮小シフトを行なうシフト方向及
びシフト量を設定し（５０）、該シフトを行なう図形を
指定し（５２）、指定された該図形について、設定され
た該シフト方向へ、設定された該シフト量だけシフトさ
せる（５４〜６０）ことを特徴とするマスクパターン編
集方法。 ２）、互いに接近した複数の図形を請求項１の処理によ
り設定方向に拡大シフトし（５０〜６０）、シフトされ
た該図形間で図形論理演算を行って新たな図形を生成し
（６６、６８）、新たな該図形に対し請求項１の処理に
より該設定方向に縮小シフトすることにより（５０〜６
０）、該シフト方向のみの図形間を接続した図形を生成
することを特徴とするマスクパターン編集方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2267981A JPH04145585A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | マスクパターン編集方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2267981A JPH04145585A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | マスクパターン編集方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04145585A true JPH04145585A (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=17452255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2267981A Pending JPH04145585A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | マスクパターン編集方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04145585A (ja) |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP2267981A patent/JPH04145585A/ja active Pending
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