JPH04163085A - 記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は表面が特定性状を示す記録層のその表面に、選
択的に又は選択的かつ可逆的に、加熱温度に応じた後退
接触角を示す領域を形成させる記録方法に用いる記録体
に関する。

〔従来の技術〕

表面を液体付着性領域と非液体付着性領域とに区分けし
て画像形成に供するようにした手段の代表的なものとし
ては、水（湿し水）なし平版印刷原版を用いたオフセッ
ト印刷方式が挙げられる。

非画像部をインキ反撥性物質で形成して、平版印刷方式
から水（湿し水）の供給を排除するという研究は、早く
から着手されている（ｕｓＰ３，６３２，３７５：ＵＳ
Ｐ３，６７７．１７８；特公昭４４−２３０４２号公報
）。

１９６０年代後半以降、インキ反撥性付与成分はシリコ
ーン系と弗素系に大別されるようになってきているが、
シリコンゴムを用いたものがいち早く米国３Ｍ社よ、り
製品化されている〔岩本昌夫：別冊高分子加工、　６．
　（１９８４））。

また、現在市販されている水なし平版印刷原版としては
、東し社製の水なし印刷原版が挙げられる。この原版は
ベースとなるアルミニウム基板上に感光層とシリコン層
とを設けた構造であり、製版印刷では感光層の助けを借
りて画像形成を行なうものである。

ポジタイプの場合、生版（Ｍ版）→露光像→現像→刷版
→印刷という複雑な工程がある。特に現像工程では専用
の現像機や薬品が必要となっている。

このオフセット印刷方式はこの様な工程を必要とするた
め、原版から刷版（印刷版）を得るまでの製版工程及び
印刷版からの印刷工程を一つの装置内に組込むことが困
難であり、製版印刷の装置の小型化は勢い困難なものと
なっている。

例えば、比較的小型化されている事務用オフセット製版
印刷機においても、製版工程の複雑さから製版装置と印
刷装置とは別個になっているのが普通である。

このようなオフセット印刷方式の欠陥を解消することを
意図して、画像情報に応じた液体付着性領域及び非液体
付着性領域が形成でき、しかも繰り返し使用が可能な（
可逆性を有する）記録体を利用した記録方法ないし装置
が提案されるようになってきている。その幾つかを挙げ
九ば次のとおりである。

（１）水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する（特公昭４０−１８９９２号、特公昭
４０−１８９９３号、特公昭４４−９５１２号。

特開昭６３−２６４３９２号などの公報）。

（２）フォトクロミック材料の光化学反応を利用した方
式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えばｒ高分子論文集」第３７
巻４号、２８７頁（１９８０））。

（３）内部偏倚力の作用を利用した方式不定形状態と結
晶性状態とを物理的変化により形成し、液体インクの付
着・非付着領域を構成する（特公昭５４−４１９０２号
公報）。

前記（１）の方式によれば、水性インクを紙などに転写
した後、除電により親水性部は消去され、別の画像情報
の記録が可能となる。すなわち、一つの原版（光導電体
）で繰り返し使用が可能となる。

だが、この方式は電子写真プロセスを基本としているた
め帯電→露光→現像→転写→除電という長いプロセスを
必要とし、装置の小型化やコストの低減、メンテナンス
フリー化が困難であるといった欠点をもっている。

前記（２）の方式によれば、紫外線と可視光との照射を
選択的に変えることによって、親水性、疎水性を自由か
つ可逆的に制御できるものの、量子効率が悪いため反応
時間が非常に長くて記録速度が遅く、また安定性に欠け
るといった欠点をもっており、いまだ実用レベルには達
していないのが実情である。

更に、前記（３）の方式によれば、そこで使用される情
報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、記録
前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じるお
それがあることから保存性に問題が残されている。これ
に加えて、記録された情報パターンの消去には熱パルス
を与え、次いで急冷する手段が採用されることから、繰
り返しの画像形成は繁雑さをまぬがれ得ないといった不
都合がある。

そこで、上記従来の方式の欠点を解決する一手段として
、本発明者らの一人は、先に加熱状態でかつ液体と接触
させたときに後退接触角が低下する表面を有する記録体
（Ａ）の表面と、液体、蒸気及び前記記録体（Ａ）にお
ける後退接触角の低下開始温度以下で液体となるか又は
液体若しくは蒸気を発生する固体から選ばれる接触材料
（Ｂ）とを接触させた状態で、前記記録体表面の後退接
触角の低下開始温度以上に選択的に加熱することにより
、又は該記録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で
該接触材料（Ｂ）と接触させることにより、該記録体（
Ａ）表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域（所
望パターン領域であり、便宜上以降「潜像」又は「潜像
領域」と記すことがある）を形成させる新しい記録方法
を提案した（特願平２−４３５９９号）。

上記方法によれば、容易な手段で選択的に又は選択的か
つ可逆的に所望のパターンとなる液体付着性領域が形成
でき、該液体付着性領域に記録剤を供給すれば良好な画
像が得られ、また該記録剤を供給後、これを紙等の被転
写体に転写することで、階調性のある鮮明な画像が得ら
れる。また、記録の前後にかかわらず、保存性、安定性
に優れた材料が使用されることによって、可逆的な液体
付着性領域の形成が−１可能になる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ただ、前記のような記録体表面に加熱温度に応じた後退
接触角を示す領域を形成させる記録方法においては、記
録体の記録層には合成樹脂、特に摩擦帯電性の大きい弗
素樹脂（表面固有抵抗値：ｌＸｌ０１３Ω〜ｌＸｌ×１
０１２Ω程度）を用いており、また基板に樹脂等を使用
しているため、記録体が静電気を帯び、雰囲気中の塵を
吸引して、地汚れ、あるいは記録体の劣化が生じる可能
性がある。

従って、本発明の目的は、前記の記録方法において、繰
り返し使用しても地汚れが発生せず、且つ記録体の劣化
も防止された記録体を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、加熱状態でかつ液体と接触させたとき
に後退接触角が低下する表面を有する記録層の表面と、
液体、蒸気及び該記録層における後退接触角の低下開始
温度以下で液体となるか又は液体若しくは蒸気を発生す
る固体から選ばれる接触材料とを接触させた状態で選択
的に加熱することにより、又は該記録層の表面を選択的
に加熱した状態で該接触材料と接触させることにより、
該記録層表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域
を形成させる記録方法に用いる記録体であって、該記録
体は基板とその上に積層された前記記録層とからなるか
、あるいは記録層のみからなり、しかも該記録体は導電
性材料又は／及び帯電防止剤を含み、表面固有抵抗値が
ｌＸｌ×１０１２Ω以下であることを特徴とする記録体
が提供される。

すなわち、本発明の記録体は、導電性材料又は／及び帯
電防止剤が添加され、表面固有抵抗値がｌＸｌＯ１２Ω
以下という構成にしたことから、帯電防止性が付与され
、繰り返し使用しても地汚れが発生せず且つ記録体の劣
化も防止されたものとなる。

まず、本発明の記録体を用いる記録方法における記録体
表面の作用について説明する。

本記録方法は、下記の記録体（Ａ）の表面と接触材料（
Ｂ）とを接触させた状態で選択的に加熱することにより
、又は記録体（Ａ）の表面を選択的に加熱した状態で接
触材料（Ｂ）と接触させることにより、記録体（Ａ）の
表面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域（所望パ
ターン領域であり、便宜上以降「潜像」又は「潜像領域
」と称することがある）を形成せしめることを特徴とし
ている。

（Ａ）加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触
角が低下する表面を有する記録体。

（Ｂ）液体、蒸気又は記録体（Ａ）表面における後退接
触角の低下開始温度以下で液体となるか又は液体若しく
は蒸気を発生する固体。

なお、本方法においては、前記潜像領域に顕色材を含有
した記録剤を供給することによって顕像化することがで
きるし、また接触材料（Ｂ）として顕色材を含有した液
状記録剤を用いた場合には、潜像形成と同時に顕像化す
ることができる。

更に、本方法においては、前記潜像が形成された記録体
（Ａ）の表面を、接触材料（Ｂ）の不存在下で加熱する
ことによって潜像の消去が行なえ、可逆的に画像形成が
なし得るものである。

本発明の記録体は、液体に接した状態で加熱すると、冷
却後後退接触角が低くなり、かつ液体不存在下で加熱す
ると、後退接触角が高くなるという機能を示す表面を有
する６更に詳しくは、該記録体（Ａ）は、その表面が（
ｉ）疎水基の表面自己配向機能をもつ有機化合物を含む
部材、又は（ｉｉ）疎水基をもつ有機化合物であって疎
水基を表面に配向した部材からなる。

（ｉ）にいう“表面自己配向機能”とは、ある化合物を
支持体上に形成した固体又はある化合物自体による固体
を空気中で加熱すると、表面において疎水基が空気側（
自由表面側）に向いて配向する性質があることを意味す
る。このことは、（ｎ）においても同様に言えることで
ある。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲気側
へ向きやすい傾向をもっている。これは、固−気界面の
界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる。また
、この傾向は疎水基の分子長が長くなるほど認められる
が、これは分子長が長くなるほど加熱における分子の運
動性が上がるためである。

更に具体的には、末端に疎水基を有する（すなわち表面
エネルギーを低くする）分子であると、空気側（自由表
面側）を向いて表面配向しやすい。

同様に（ＣＨ２）。を含む直鎖状分子では一＋ＣＨ２Ｃ
Ｈ２）の部分が平面構造をしており、分子鎖同士が配向
しやすい。また、−＋０＋。を含む分子も−＋０＋の部
分が平面構造をしており、分子鎖同士が配向しやすい。

殊に、弗素などの電気陰性度の高い元素を含む直鎖状分
子は自己凝集性が高く１分子顔向士が配向しやすい。

この配向性の状態と後退接触角とは関係があり、また後
退接触角と液体付着性との間にも関係がある。すなわち
、固体表面での液体の付着は、液体の固体表面での主に
タッキングによって生じる。

このタッキングは、いわば液体が固体表面を滑べる時の
一種の摩擦力とみなすことができる。従って、本発明で
いう″後退接触角″θｒは、前記摩擦力をγドすると、 （但し、　γ：真空中の固体の表面張力γｓｇ：固−液
界面張力 πｅ：平衡表面張力 という関係式が成立つ（斉藤、北端ら「日本接着協会誌
」Ｕ、１２（１９８６））。

従って、θｒの値が低くなるときγ、値は大きくなる。

すなわち、液体は固体面を滑べりにくくなり、その結果
、液体は固体面に付着するようになる。

これら相互の関連から推察し得るように、液体付着性は
後退接触角θｒがどの程度であるかに左右され、その後
退接触角θｒは表面自己配向機能を表面に有する部材の
何如により定められる。それ故、本方法においては、記
録体（Ａ）はその表面に所望パターン領域の形成及び／
又は記録剤による顕像化の必要から、必然的に、表面自
己配向機能を表面に有する部材が選択される。

本方法で用いられる記録体（Ａ）は、既述のとおり、［
加熱状態でかつ液体と接触された場合に後退接触角θｒ
が低下する表面」を有するものである。

記録体（Ａ）はその表面が上記のような性状を有してさ
えいれば、形状等は任意である。

この記録体（Ａ）は、接触材料（Ｂ）の種類によっては
潜像領域における液体付着性部分が親油性又は親水性の
いずれかになり、従って、複写物を得る際には油性イン
ク、水性インクのいずれも必要に応じて使いわけられる
。

ここで、゛加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角θｒが低下する表面を形成する＃ｐ部材ないし材
料を幾つかに分類した例を第１図に示す。第１図（ａ）
は自己配向機能を有する化合物の例で、高分子重合体の
側鎖に疎水基を有する化合物であり、主鎖りと疎水基Ｒ
とは結合基Ｊにて結合している。

第１図（ｂ）は、疎水基を有する有機化合物においてそ
の疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又は無機材
料にの表面に、物理的又は化学的結合ｉこより、前記疎
水基を有する化合物０を形成した部材である。第１図−
（Ｃ）は、第１図（ｂ）で挙げた疎水基を有する有機化
合物Ｏのみからなる部材の例である。

第１図（ｄ）は、直鎖状分子が高分子の側鎖にある例で
、主鎖りと前記分子を結合基Ｊによりつなぎ。

末端に疎水基Ｒをもつ自己凝集性又は平面構造を有する
分子鎖Ｎが中間にある化合物である。

なお、第１図（ａ）　（ｄ）の例においては、高分子化
合物の主鎖しは直線状でも網掛は構造でもよし１゜第１
図（ｂ）の例においては、累積ＬＢ膜のようシム疎水基
含有化合物０の上に、更に疎水基含有化合物０が積層さ
れていてもよい。第１図（Ｃ）の例におし１では、主鎖
（Ｌ）をもつことなく又は有機・無機材料（Ｍ）などに
結合することなく、疎水基含有化合物Ｏのみによる構造
である。

前記の疎水基としては、分子の末端が好ましくは−ＣＨ
３や−ＣＦ３、−ＣＦ、　Ｈｌ−ＣＦＨ２、−Ｃ（ＣＦ
３）、、−Ｃ（ＣＨ，）３などになっており、より好ま
しくは、分子運動性が高い点で分子長の長いものが有利
である。中でも、前記疎水基としては、−Ｆ及び／又は
−ＣＱが１つ以上ある置換アルキル基（−ＣＦ２ＣＦ２
ＣＦＣＦ２ＣＦ２のよＣＱ うなものでもよい）あるいは無置換のアルキル基であっ
て、炭素数４以上のものが望ましし）。弗素置換、塩素
置換のいずれのものも用ｂ１られるが、弗素置換のもの
の方が効果的である。これらの材料においては、アルキ
ル基炭素数と機能との関係では、炭素数が３以下である
と、記録方法に適する機能が低くなってしまう。

この機能発現の原理はいまだ完全に明らかにされた訳で
はなく、従って、不明な点が多いが、以下のことが推定
される。

まず、上記化合物により形成された記録体（Ａ）の表面
は、前記疎水基がかなり配向した表面となっていること
が考えられる。従って、この表面は　　　　′液体反撥
性を有する（疎水基は表面エネルギーが小さいため）。

この状態で、記録体（Ａ）の表面が接触材料（Ｂ）に接
して加熱を受けると、加熱による疎水基の分子運動が活
発となり、かつ接触材料（Ｂ）との相互作用を受けて、
記録体（Ａ）の表面の少なくとも一部の配向（整列）状
態が別の状態（すなわち、別の配向状態又は配向が乱れ
た状態）に変わり、冷却後もその別の状態を維持するた
めと思われる。なお、記録体（Ａ）の表面に接触材料（
８）が接した状態のもとで加熱することは、接触材料（
Ｂ）の形態如何により、記録体（Ａ）の表面が加熱され
た状態のもとに液体を接触させることになる。

この加熱前は、疎水基が表面に整列（配向）しているた
め、記録体（Ｌ）の表面の表面エネルギーは極めて少な
い。

ところが、前記の接触材料（Ｂ）が接した状態のもとで
の加熱により、配向状態は乱れて表面エネルギーが高ま
る。後退接触角θｒは、液体の種類にかかられず、固体
と液体との表面エネルギーのバランスで決定される。こ
のため、固体の表面エネルギーが高まれば、液体の種類
にかかわらず、後退接触角θｒは低くなる。従って、液
体に対する付着性は増大することになる。

更に、記録体（Ａ）の表面が別の状態（元の配向状態と
は異なるｒ別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」）
で接触材料（Ｂ）の不存在下に加熱を受けると、接触材
料（Ｂ）との相互作用が生じないため、元の整列（配向
）状態にもどると思われる。

従って、接触材料（Ｂ）の存在は、単に記録体（Ａ）の
表面を加熱後急冷するためのものではなく、記録体（Ａ
）の表面の化合物との何らかの相互作用を起こすもので
あり、この相互作用があって、はじめて別の状態（別の
配向状態又は配向が乱れた状態）への変化が起こると思
ワレル。

前記のとおり、記録体（Ａ）の表面を形成する部材（化
合物）の疎水基として、アルキル基又は弗素若しくは塩
素置換のアルキル基が採用された場合には、アルキル基
の炭素数が４以上であるのが望ましいのは、記録体（Ａ
）の表面にアルキル基力１ある程度整列（配向）し、し
かも加熱時に活発な分子運動をするのに必要な数なのだ
と思われる。また。

接触材料（Ｂ）が記録体（Ａ）の表面と共に加熱を受（
すだ時、記録体（Ａ）表面の分子中に接触材料（Ｂ）の
分子がとりこまれることも考えられる。更しこ、アルキ
ル基中に電気陰性度の高い弗素や塩素があると。

液体、特に極性液体との相互作用が大きくなるため、水
素のみのアルキル基を含有する化合物よりも大きな付着
性変化が得られる。また、弗素を含有するアルキル基は
、自己凝集性が強％、Ｎため、表面自己配向機能が高く
、更に表面エネルギーカ１低いため、地肌よごれ防止の
点ですぐれてしする。

更にまた、記録体（Ａ）の表面は液体反撥性を有するが
、これを固体の表面エネルギーで記述すると、５０ｄｙ
ｎ／ｃｍ以下であることが記録方法として望ましい。こ
れ以上の高い値では、記録剤に対して記録体（Ａ）の表
面が、時として、濡れてしまい、地肌汚れを起こすおそ
れがある。

本発明の記録体は、以上のような表面機能を有するもの
であるが、更に前記したように、基板とその上に積層さ
れた記録層とからなるか、あるいは記録層のみからなり
、しかも導電性材料又は／及び帯電防止剤を含有し、表
面固有抵抗値が１×１０１２Ω以下であることを特徴と
する。すなわち、図面により説明すると、第２図におい
て、本発明の記録体は、基板１上に導電性材料又は／及
び帯電防止剤２′を含有する記録層２を積層した構成と
なっている。なお、第２図においては、導電性材料又は
／及び帯電防止剤２′は記録層２中に混入されているが
、これらは記録層２又は基板１のどちらか１層中に混入
されていればよく、また両方の層中に混入されていても
よい。ただ、記録体作製上からは、記録層２中に含有さ
せるのが最も有利である。

また、本発明の記録体においては基板と記録層との間に
導電性の中間層を設けることも有効である。

本発明の記録体における基板としては、　Ｎｉ、Ｃｕ。

Ｃｒ　、　Ｐｔなどの金属又は合金、あるいは四弗化エ
チレン、シリコーン、ポリイミド、ポリカーボネート、
エポキシ、メラミン、フェノール、ポリエステル、ポリ
アセタール、ユリア、ポリエチレンテレフタレートなど
の樹脂、更には金属酸化物などが挙げられ、記録体とし
て装置に組み込んだ場合に、転写に充分に耐えられるた
わみ性と転写時に加わる荷重に耐えられるものであるこ
とが望ましい。更に、直接記録に関する被転写体として
は、セルロース系の天然繊維からなる紙や、ＯＨＰ用等
の透明性のフィルムが基板として挙げられる。

本発明において、記録層を形成する材料としては、前記
のように液体反撥性を有する化合物が使用される。まず
、第１図（ａ）及び（ｄ）のタイプの化合物について述
べると、このタイプの化合物としては、ビニル系高分子
側鎖にアルキル基（弗素及び／又は塩素置換のものも含
む）を有する化合物などが考えられる。具体的には、式
（１）（ＩＩ　）（ｎｕ　）（ＩＶ）（Ｖ）（ＶＩ）及
び（■）で示される七ツマ−がらの重合体が挙げられる
。

（ＲニーＨ１−ＣＨ，、−Ｃ，Ｈ，、−ＣＦ、又は−Ｃ
２Ｆ。

Ｒｆ：Ｃ４以上のアルキル基又は弗素若しくは塩素置換
アルキル基を含有した基、又は 分子鎖中に（２←ｌｌ＋　七−）ａ若しくは一〇−をも
つ疎水基（α≧４） ｎ′＝１以上の整数〕 その他のポリマーとしては、式（■）（■）及び（Ｘ）
に示されるものが挙げられる。

（ＲニーＨ２−ＣＨ，、−Ｃ，Ｈ，、−ＣＦ、又は−Ｃ
，Ｆ。

Ｒｆ：Ｃ，以上のアルキル基又は弗素若しくは塩素置換
アルキル基を含有した基、又は分子鎖中に→ＣＦｚ）、
、−（ＣＨ２←ａ若しくは一〇−を含む疎水基（Ｑ≧４
） ｎ：１０以上の整数〕 これら具体例でＲｆをより詳しくいえば、下記（１）か
ら（２０）までのものを例示することができる。

（１）　−ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ。

（６）　−ＣＨ２（ＣＦ２）□。Ｈ （７）イＣＦ、升０−ＣＦ、ＣＦ３ （８）イＣＨ２汁ＮＨ−ＣＦ２ＣＦ３ （９）→ＣＦ２ＣＨ２ ＣＦ２）　（ＣＨ２）１ｏＣ，Ｆ１□ （１３）　−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ２Ｃ，Ｆ工。

（１５）　ｃ−ｓ−ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ３）６ＣＦ（Ｃ
Ｆ３）２（１６）　−ＣＨ２Ｃ，Ｆ２ＣＦ２ＣＦ。

（１７）　−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｆ（１８）　　
ｃＨｚ（ｃｐｚ）ｓｃＦ３（１９）　−ＣＨ２（ＣＦ２
）、ＣＦ３（２０）　−＋ＣＨ２）３ＣＦ。

これらの化合物のうちでも、特に、下記（Ｘ［）のモノ
マーを原料とする重合体がより望ましい。

〔Ｒ１：水素、−ＣｎＨｚ　ｎ＋、又は−ＣｎＦｚｎ＋
、（ｎ＝１又は２以上の整数） Ｒ２：（ＣＨ２＋−（ρ≧１の整数） 又は−（−ＣＨ，＋−Ｎ　（Ｒ”　）ＳＯ□−（Ｒ３は
一〇Ｈ，又は−Ｃ２Ｈ，，９≧１の整数）Ｃ６以上の整
数〕 従って、本発明における記録層を形成する化合物の好ま
しい具体例としては、下記モノマーからの重合体が挙げ
られ、特に側鎖に弗素原子を含む（共）重合体が好まし
い。

ししリーｕｌ−１２ｔ、ｌ’ｚｔ、ｔ′ｉｌ’ｔ、、１
’。

更に、これら式（１）（ＩＩ　）（ＩＩＩ）（ＩＶ）（
Ｖ）（ＶＩ）（■）及び（Ｘ［）のモノマー同士（２種
以上の七ツマ−）の共重合体の他に、これらのモノマー
と他のモノマー、例えばエチレン、塩化ビニル、スチレ
ン、ブタジェン、イソプレン、クロロプレン、ビニルア
ルキルエーテル、酢酸ビニル、ビニルアルコールなどと
の共重合体も上記化合物として適する。

また、式（Ｘ［）のモノマーと官能基を有する重合性上
ツマ−１例えば ＣＨ２＝Ｃ（Ｃ１（３）Ｃｏｏ　（ＣＦ＋２）２０ＨＣ
Ｉ（２＝Ｃ（ＣＨ，）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２
Ｃｌ（２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｏ）Ｉ）ＣＩｌＦよ
。

などの１種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能基
を多数導入するか、式（Ｘ［）のモノマーと官能基を有
する重合性上ツマ−との共重合物をつくり、続いて、官
能基を多数含んだ共重合物同士を架橋試薬を用いて架橋
することにより製造した架橋性重合体も、本発明の材料
としてすぐれている。

架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、ジアルデヒド、
Ｎ−メチロール化合物、ジカルボン酸、ジカルボン酸ク
ロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエポキシド、ビス
アジリジン、ジイソシアネートなどが挙げられる。この
ようにして得られた架橋重合物の一例を下記に示す。

上記の式において、Ａブロックは前記の熱的性質の変化
をもたらすアルキル基であり、一方、Ｂブロックは鎖状
ポリマー同士を架橋している（架橋試薬としてジイソシ
アネートを用いて架橋したもの）部位である。

架橋体による膜を得るには、前記の共重合物と架橋試薬
とを混合した溶液をコート液として基板上に塗布し、加
熱又は電子線照射や光照射により架橋重合膜を得るよう
にすればよい。

なお、前記モノマーから重合体を得るには、溶液重合、
電解重合、乳化重合、光重合、放射線重合、プラズマ重
合、グラフト重合、プラズマ開始重合、蒸着重合など、
材料により適当な方法が選択される。

次に、第１図（ｂ）に示した化合物について述べる。

ここでは１式（Ｘｌｌ）、　（ＸＩ［Ｉ）及び（ＸＩＶ
）に示す材料Ｒｆ　Ｃ０ＯＨ−−（ＸＩＩ） Ｒ４−ＯＨ・・・（ｘｍ） Ｒｆ＋ＣＨｚ＋ＦＶＳ　ｉ　Ｘ　　　　　　　・・・（
ＸｒＶ）（Ｒｆ：炭素数４以上のアルキル基又は弗素若
しくは塩素置換のアルキル基を含有した基、又は分子鎖
中に一＋ＣＦ、トａ、イＣＨ２）鷹若しくは一〇−を含
む疎水基（Ｑ≧４） ｎ：１以上の整数 Ｘ：塩素、メトキシ基又はエトキシ基〕等をガラス、金
、銅などの無機材料やポリイミド。

ポリエステル、ポリエチレンテレフタレートなどの有機
材料表面に物理吸着又は化学結合した材料（表面エネル
ギーが約５０ｄｙｎ／ｃ−以下であるのが好ましい）で
あることが望ましい。

式（ＸＩ）（ｘｌｌ）及び（ＸＩＶ）の具体例としては
、ＣＦ、（ＣＦ、）ｒｃＯＯＨ ＣＦ３−＋ＣＦｚｈＣＯＯＨ ＣＦ、→ＣＦ２升（ＣＨ２＋ＴＯＨ Ｈ−＋ＣＦ２七Ｃ００Ｈ Ｈ−＋ＣＦ２后ＣＨ２０Ｈ Ｆ−＋ＣＦＪｒＣＨ２ＣＨ２−５ｉ　（ＣＨ３）２ＣＲ
ＣＦ２ＣＲ（ＣＦ、）ＣＦ（ＣＦ２）、Ｃ００ＨＣＦ、
（ＣＦＪ７　（ＣＨ２）２　Ｓ　ｘ　ＣＱ、３などが挙
げられる。

第１図（ｃ）に示す化合物としては式（Ｘ　１１　）、
式（ｘｍ）や式（ＸＩＶ）の材料のみの構造体が挙げら
れる。

本発明の記録体は、前記材料からなる記録層及び基板の
少なくとも一方の層に導電性材料又は／及び帯電防止剤
が添加されるが、この場合、導電性材料としては、表面
に帯電防止作用を与えるような材料であって、しかも耐
熱性及び耐摩擦性を付与できるという特性を有する材料
が使用される。

使用される導電性物質の具体例としては、例えば、アセ
チレンブラック、オイルブラック、ガスブラック、フオ
ーネスブラック、チャンネルブラック及びサーマルブラ
ックなどの各種カーボンブラックの他に、カーボン繊維
あるいはグラファイトなどが挙げられる。また、金、銀
、銅、アルミニウム及びチタンなどの金属あるいは酸化
アンチモン及び酸化錫などの金属酸化物を使用すること
もできる。更に、繊維状チタン酸カリウムや酸化チタン
の粒子表面を酸化錫と酸化アンチモンで被覆した白色導
電性物質等も使用することが可能である。

また、帯電防止剤としては、非イオン性ポリマー、イオ
ン性ポリマー等が挙げられるが、表面固有抵抗値がＩ　
Ｘ　ｔｏ１２Ω以下となることが重要である。なお、帯
電防止剤自身の体積抵抗は、１０７ΩＣ膳又はそれ以下
であることが好ましい。

また、導電性材料は充填剤として加えるのが有利である
。と言うのは、蒸着型等と比較して導電性粉末分散型の
ため工程が簡単であり、また塗料化して塗布することに
より異型のものにも応用できるためである。なお、導電
性粉末をプラスチック、ゴム、繊維等に混練して、体積
抵抗を押さえる方法により、帯電圧、導電性を調整する
こともできる。

記録体の表面固有抵抗値の範囲としては１×１０１２Ω
以下であり、好ましくは樹脂層の表面が帯電性を示さな
い程度、すなわち、ｌＸ１０’〜ｌＸｌＯ１２Ωである
ことが重要である。従って、導電性材料及び帯電防止剤
は、記録体にＩ　Ｘ　１０６〜ｌＸ１０１２Ω程度の表
面固有抵抗値を与えるような範囲で任意の量が添加され
る。

記録層の膜厚は、記録層と基板との組合せにより、また
記録層と基板の間に中間層を設ける場合はこれら３者の
組合せにより決定されるが、転写の際の圧力に耐えられ
る程度の膜厚にすることが好ましい。

本発明の記録体を得るには、一般に記録層材料中に前記
導電性材料等を混合分散させ、これを基板上に塗工する
ことによって得られる。この場合、この記録層材料中へ
の導電性材料等の分散方法としては、ボールミル、ペイ
ントシェーカー、超音波ホモジナイザー、サンドミル等
が適用できる。

また、この導電性材料等を分散した記録層材料の基板へ
の塗工は、アプリケーター、スプレーコーター、バーコ
ーター、デイツプコーター、ドクターブレード等によっ
て行なうことができる。また、紙のような基板へは、塗
工しただけでは表面状態が一般に良くないので、カレン
ダー等で表面処理し、塗布面平滑性を向上させることも
有効である。

なお、樹脂基板に導電性材料を混入した記録体を得る場
合には、導電性材料等を重合性溶液あるいは重合体溶液
に、上記と同様な方法で混合分散させて基板を作製した
後、（場合により導電性材料等が混合分散された）記録
層材料を上記と同様な方法で塗工することによって得ら
れる。また、一般に使用される帯電防止性付与フィルム
を利用することも有効である。

更に、本発明の記録体を利用したプロセスでは、潜像形
成時の加熱は記録層材料側からだけでなく、基板側から
加熱することも可能である（記録層側へ液体をおき基板
側から加熱）（加熱手段の項参照）。この場合、記録体
の基板材料へ直接加熱す多る構成となるため、熱による
記録体の劣化が想定されるが、これらの問題に対処する
ためには、基板側に耐熱性のバック層を設けることが有
効である。バック層には熱硬化性、あるいは高軟化点の
耐熱性の樹脂が採用される。また、これらバック層中に
滑性の高い無機顔料を含有することも有効である。ここ
で言う無機顔料とは、タルク、雲母粉、微細シリカ粉末
、二硫化モリブデンなどの微粉末をさし、樹脂材料とし
てはシリコーン樹脂、弗素樹脂、エポキシ樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ニトロセル
ロース等の樹脂が有効である。

次に、接触材料について説明する。

接触材料は、先に記載したとおりであるが、端的に言え
ば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は記録層に
おける後退接触角θｒの低下開始温度以下で結果的に液
体を生じさせる固体である。

ここでの蒸気は、記録層の表面又は表面近傍で、少なく
ともその一部が凝縮して液体を生ぜしめ、その液体が記
録層の表面を濡らすことができるものであれば充分であ
る。一方、ここでの固体は、前記後退接触角θｒの低下
開始温度以下で液体となるか、液体を発生させるか、又
は蒸気を発生させるものである。固体から発生された蒸
気は記録層の表面又はその近傍で凝縮して液体を生じさ
せることは前記の場合と同様である。

これら接触材料をより具体的に言えば、次のとおりであ
る。すなわち、接触材料の一つである液体としては、水
の他に、電解質を含む水溶液、エタノール、ｎ−ブタノ
ール等のアルコール、グリセリン、エチレングリコール
等の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケトン類
のごとき有極性液体や、ｎ−ノナン、ｎ−オクタン等の
直鎖状炭化水素、シクロヘキサン等の環式状炭化水素、
−一キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素のごとき無
極性液体が挙げられる。また、これらの混合体でもよい
し、各種分散液や液状インクも使用できる。

更に望ましくは、極性液体の方がよりすぐれて）Ｎる。

接触材料の他の一つである蒸気としては、水蒸気の外に
接触材料の液体の蒸気であれば使用できるが、特にエタ
ノール蒸気やｍ−キシレン蒸気などの有機化合物の蒸気
（噴霧状態のものを含む）が挙げられる。この有機化合
物蒸気の温度は記録層の表面を形成する化合物の融点あ
るいは軟化点以下である必要がある。接触材料の他のも
う一つである固体としては、高級脂肪酸、低分子量ポリ
エチレン、高分子ゲル（ポリアクリルアミドゲル、ポリ
ビニルアルコールゲル）、シリカゲル、結晶水を含んだ
化合物などが挙げられる。

なお、後述するところからより明らかになるが、接触材
料として、前記液状インクのごとき′′顕色剤を含有し
た記録剤”を用いた場合には、潜像形成と同時に顕像化
が行なわれることになる。

続いて、加熱手段について説明する。

加熱手段としてはヒータニ、サーマルヘッドなどによる
接触加熱の他に、電磁波（レーザー光源、赤外線ランプ
などの発光源からの光線をレンズで集光する）による非
接触加熱がある。

続いて、本発明の記録体の性状、本発明記録体を用いて
の潜像形成、可視像形成について、添付の図面に従って
説明する。

第３図（ａ）は基板１上に記録層２が形成され、この層
面に接触材料（例えば液体３）が存在している状態を示
している。この状態において、第４図（ａ）に示たよう
に、層２を加熱すると、層２表面は後退接触角θｒが低
下して著しい濡れを示し、液体付着性を有してしまうの
が認められる。更に、この液体付着性を有する層２を空
気中、真空中又は不活性ガス雰囲気中で再び加熱する〔
（第３図（ｂ）〕と。

層２表面は後退接触角θｒが高まってゆき、再び液体反
撥性を示すのが認められる。

このような現象と幾分類似した現象を示すものとして、
先に挙げた特公昭５４−４１９０２号公報に記載された
方法がある。だが、ここに開示されている方法では、記
録材料に実質的にディスオーダーでかつ一般的に不定形
のメモリ物質の層を得るようにしている点で、メカニズ
ム上大きく相違したものとなっている。すなわち、本発
明の記録体による方法では、接触材料の存在なしでは、
記録層表面には状態変化が起こり得ない。また、特公昭
５４−４１９０２号公報に記載された方法では、簡単な
操作で可逆性を得ることはできない。

第４図（ａ）のごとく、画像情報に応じて液体３の接触
下で層２に熱を加える〔第４図（ｂ−１）のように、液
体不存在のものに層２に画像情報に応して熱を加えた状
態のもとで、液体と接触させても同様である〕と、加熱
部分の層２の表面が液体付着性化される。図中、４はヒ
ーター、３１は液体供給口、４１は赤外線ランプ、５は
レンズ、６はシャッターを表わしている。

第４図（ａ）は層２の加熱を基板１を通して行なってい
る例であるが、第４図（ｂ−２）に示した例は、液体３
を通して加熱がなされている例である。

この層２の水溶液接触下での加熱前後の水溶液の接触角
の変動、及びこのものを更に空気中で加熱した場合の水
溶液の接触角の変動の一例を第５図に示した。第５図に
おいて、Ｏは前進接触角、△は後退接触角を表わしてい
る。

一般に、後退接触角が９０°以上の高い値の場合、その
表面は液体反撥性を示し、９０°以下の低い値の場合、
その表面は液体付着性を示す。

接触材料に接した状態での記録層表面の加熱温度として
は、５０℃〜２５０℃の範囲が望ましく、更に望ましく
は８０℃〜１５０℃である。加熱時間は０．１ミリ秒〜
１秒程度で、望ましくは０．５ミリ秒〜２ミリ秒である
。加熱のタイミングとしては、潜像形成であれば、■記
録層表面を加熱した後、冷めないうちに接触材料に接触
させる、■記録層表面に接触材料を接触させた状態のも
とに記録層表面を加熱させる、のいずれかでよい。一方
、潜像消去であれば、接触材料の不存在下で記録層表面
を５０〜３００℃、望ましくは１００〜１８０℃に加熱
すればよい。加熱時間はいずれの場合も１ミリ秒〜１０
秒程度で、好ましくは１０ミリ秒〜１秒である。

続いて、記録層表面に実際に画像情報の記録を行なう手
段について、より詳細に説明する。

一つは液体又は蒸気雰囲気下で画像信号に応じて記録層
表面を加熱し、記録層の表面に液体付着領域を形成（潜
像形成）し、その後、この潜像部に記録剤を接触させる
手段により潜像部に記録剤を付着させ（現像）、この後
、この記録剤をそのまま記録層の表面上に定着させる方
法である（直接記録方法）。もう一つは、液体又は蒸気
雰囲気下で画像信号に応じて記録層の表面を加熱し、記
録層の表面に液体付着領域を形成（潜像形成）し、その
後、この潜像部に記録剤を接触させる手段により潜像部
に記録剤を付着させ（現像）、この後、記録紙に記録層
表面の記録剤を転写する方法である（間接記録方法）。

更に、上記の方法において、記録剤を転写後、再び潜像
部に記録剤を接触させる手段を行なえば、記録層を印刷
版として用いた印刷方法となる。また、上記の方法にお
いて、記録剤を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像
を形成した記録層の表面を加熱し潜像を消去することに
より、記録層が再生可能な記録方法となる。第６図（ａ
Ｌ　（ｂ）　、（ｃ）に直接記録方法１間接記録方法（
印刷法）、記録体の可逆的な記録方法（繰り返し記録方
法）の代表的なプロセスを示す。

次に、記録体及び記録方法における装置構成について述
べる。

記録層は、加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退
接触角が低下する表面（便宜上「層２」又は「記録層表
面」と記すことがある）を有しているものであれば、そ
の形態にはとられれない。従って。

記録体は、剛体円筒形状であっても、あるいはベルト形
状、板形状であってもかまわない。ただ、剛体円筒形状
記録体（円筒状剛体の表面に層２が形成されたもの）は
、記録体を稼働する際位置ずれ等が生じにくく制御性に
優れているので、望ましくは剛体円筒形状の記録体が良
い。

記録体基板に樹脂を用いた場合、このものは熱の良導体
とは言いがたく、記録層表面が加熱され液体付着性を有
するまでにはある程度の時間を要する。そこで、熱の良
導体を基板の全体に又は基板１上の部分に用いることが
考えられてよい。

第７図（ａ）は、例えば金属のような熱の良導体を基板
（金属基板１１）とし、その上に有機薄膜１２を蒸着し
、更にその上に層２を形成したものであるが。

このようにすると、垂直方向の熱伝導速度が向上する。

ここでの有機薄膜１２としては、ポリイミド、ポリエス
テル、フタロシアニンなどが例示される。

印字ドツトが比較的大きくてよい場合にはこの構成で充
分であるが、両方向への熱拡散により液体付着性を有す
る部分が拡大するため、−層の高密度印字を目的とする
場合には適さない。第７図（ｂ）は、そのため、基板１
上に熱の良導体部分を区切って設けることにより面方向
への熱拡散を防ぎ、液体付着性を有する部分２ａの微小
化を図ったものである。第７図（ｂ）において、１１ａ
は微小化された金属膜を表わしている。

続いて、加熱による潜像形成手段について述べる。前記
したごとく、加熱源としては、ヒーターやサーマルヘッ
ドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプのごと
き電磁波による非接触加熱源が望ましい。

これらの具体例として、液体と接した状態で記録層２表
面を加熱する手段を述べる。まず、あらかじめ記録層２
表面に液体３を接しておき、その接した状態で基体１側
又は液体３側から加熱を行なう手段〔第８図（ａ）及び
（ｂ）〕や、初めに記録層２表面側から加熱を行ない、
直ちに液体３を記録体加熱部（記録層２表面）に接触さ
せる手段〔第８図（ｃ）及び（ｄ）〕を採用することが
望ましい。

液体３の供給手段としては、記録体７下部に皿を設は液
体を満たし、記録層２が皿中の液体３に常に接するよう
にし、加熱源を皿の近傍又は皿の中に配置する構成が最
も簡単な構成となる。皿の替わりに、液体を充填したス
ポンジ状多孔質体３４を用いても良い。電磁波による潜
像形成手段も上記構成と基本的に同様である。

第８図において、４２はレーザー光源、４３はサーマル
ヘッドである。このようにして、記録層２表面には潜像
が形成される。

上記手段により画像信号に応じて選択的に付与された液
体付着性領域に記録剤（インク）を付着させる手段とし
ては、記録剤３ａを充填した皿を潜像形成手段配置位置
に対して記録体の進行方向に配置し常に記録層に接して
おく構成が最も簡単である（第９図及び第１０図）。な
お、第１０図に示すごとく、潜像形成に用いる液体を記
録剤と兼用すると一つの皿で構成でき、潜像形成と顕像
化とを一体化できるため、装置を小型化できる。

また、直接記録の場合、記録体基板として柔軟性を有す
るフィルム又は剛体のフィルムを用い、基板１上に記録
層２を成膜し記録体とする。この記録層２に上記の手段
により潜像形成及び顕像化を施す。こののち、自然乾燥
又は加熱乾燥を行ない、記録層２上に付着した記録剤３
ｂを定着させる。直接記録方法の実施に望ましい装置の
例を第１１図に示す。第１１図の例では、潜像形成手段
及び顕像化手段を固定し記録体を移動している。

更に、直接記録後、記録剤を定着した記録体基板が透明
フィルムの場合は、透過光を照射することで、スライド
投影機のごとき装置の原版として使える（第１２図）。

また、ビーム状の反射光や透過光を照射し記録剤の有無
による光の強度変化を検知することで、情報記憶用媒体
としても利用できる（第１３図）。第１２及び第１３図
で、５２はスクリーン、５３は光源、５４は検知器、５
５はモーターである。

間接記録の場合、前記のとおり、例えば剛体円筒管が記
録体基板として用いられるのが有利である。潜像形成及
び現像（顕像化）後、例えば記録体上の付着記録剤３ｂ
は、記録紙６１と直接接する手段を設けることで、記録
紙の毛管作用により、記録紙６１へ転写される（転写手
段）。転写を行なう位置は、現像後であれば、記録体の
どの位置でもかまわないが、現像後、直ちに転写が行な
われる位置が望ましい。転写後、潜像消去を行なわず現
像を繰り返えせば、この装置は印刷装置となる。第１４
図に上記印刷装置の例を示す。一つの画像情報の印刷が
終了すれば、記録体を交換することで又は潜像消去を行
なうことで、別の画像情報の記録・印刷が可能となる。

また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の不存在下で、
すなわち、空気中、真空中、又は不活性ガス中で、潜像
部付近を加熱することにより潜像を消去すれば、記録体
は繰返し使用可能な記録装置となる（第１５図）。なお
、潜像消去のための加熱源としては、ヒーターやサーマ
ルヘッドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ランプ
のごとき電磁波による非接触加熱源が望ましい。加熱は
記録層全面に行なっても良く、潜像部のみに行なっても
良い。但し、全面加熱の方が装置構成を簡単にできるた
め、より望ましい。なお、潜像消去手段は、消去のため
の加熱を行なったのち、再び潜像形成を行なうまでの時
間の間に、記録層表面が実質的に冷却する位置に設ける
。消去に必要な加熱温度は、当該記録層表面の材料によ
り異なるが、記録層表面の材料の後退接触角低下開始温
度以上でかつ分解点以下の温度が望ましい。

記録紙（被転写体）としては、透明樹脂フィルム、普通
紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが適当である。

次に記録剤について述べる。

本発明の記録体による記録方法において、記録層表面上
に可視画像を得るには、記録剤として筆記用インク、イ
ンクジェット用インク、印刷インク、電子写真用トナー
等の従来の印字記録方法に用いられてきた記録剤の中か
ら、本プロセスに適合するものを選択し使用することが
できる。

より具体的な例を挙げると、例えば水性インクとしては
、水、湿潤剤及び染料からなる水溶性インク、水、湿潤
剤、顔料及び分散用高分子化合物からなる水性顔料分散
インクあるいは顔料又は染料を界面活性剤を用いて水に
分散せしめたエマルジョンインク等が用いられる。水性
インクに用いられる湿潤剤としては、次のような水溶性
の有機液体化合物が挙げられる。

エタノール、メタノール、プロパツール等の一価アルコ
ール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプ
ロピレングリコール、グリセリン、低分子量のポリエチ
レングリコール、ヘキシレングリコール等の多価アルコ
ール類；エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコール七ノエチルエーテル、
トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエ
チレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリ
コールモノエチルエーテル等の多価アルコールアルキル
エーテル類；エチレングリコールモノエチルエーテル、
エチレングリコールモノベンジルエーテル等の多価アル
コールアリールエーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ε−カブロラ
クタム、γ−ブチロラクトン等の含窒素複素環化合物；
ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等のアミド類；モノエタノールアミン
、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のア
ミン類蔓ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄
化合物類；プロピレンカーボネート、炭酸エチレン等。

水溶性染料としては、カラー・インデックスにおいて酸
性染料、直接染料、塩基性染料、反応性染料、食用染料
に分類される染料で、耐水、耐光性の優れたものが用い
られる。これら染料の具体例としては、例えば次のもの
が挙げられる。

Ｃ，１，アシッド・イエロー１７，２３，４２，４４，
７９，１４２Ｃ，１，アシッド・レッド１，８，１３，
１４，１８，２６，２７，３５゜３７．４２，５２，８
２，８７，８９，９２，９７゜１０６．１１１，１１４
，１１５，１３４，１８６゜２４９．２５４，２８９ Ｃ，１，アシッド・ブルー９．２９，４５，９２，２４
９，８９０Ｃ，１，アシッド・ブラック１，２，７，２
４，２６．９４Ｃ，１，フード・イエロー３，４ Ｃ，１，フード・レッド７．９．１４ Ｃ，１，フード・ブラック２ Ｃ，１，ダイレクト・イエロー１，１２，２４，２６，
３３，４４，５０゜１４２．１４４，８６５ Ｃ，１，ダイレクト・レッド１，４，９，１３，１７，
２０，２８，３１゜３９．８０，８１，８３，８９，２
２５゜Ｃ，１，ダイレクト・オレンジ２６，２９，６２
，１０２Ｃ，１，ダイレクト・ブルー１．２，６，１５
，２２，２５，７１，７６゜７９．８６，８７，９０，
９８，１６３゜１６５．２０２ Ｃ１１，ダイレクト・ブラック１９，２２．３２，３８
，５１，５６゜７１，７４，７５，７７．１５４，１６
８Ｃ，１，ベーシック・イエロー１，２，１１，１３，
１４，１５，１９゜２１．２３，２４，２５，２８，２
９゜３２．３６，４０，４１，４５，４９゜５１．５３
，６３，６５，６７．７０゜７３．７７．８７．９１ Ｃ，１，ベーシック・レッド２，１２，１３，１４，１
５，１８，２２゜２３．２４，２７，２９，３５，３６
，３８゜３９．４６，４９，５１，５２，５４，５９゜
６８．６９，７０，７３，７８，８２，１０２゜１０４
．１０９，１１２ Ｃ，１，ベーシック・ブルー１．３，５，７，９，２１
，２２，２６，３５゜４１．４５，４７，５４，６２，
６５，６６゜６７．６９，７５，７７．７８，８９，９
２゜９３．１０５，１１７，１２０，１２２゜１２４．
１２９，１３７，１４１，１４７゜ベーシック・ブラッ
ク２，８ 等。

顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フタロシアニン
系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン
系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノン系、ペリレ
ン系、イソイン下レノン系、アニリン・ブラック、アゾ
メチン系、カーボン・ブラック等が挙げられ、無機顔料
として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、水酸化アルミニウム、バリウムイエロー、紺青、
カドミウムレッド、クロムイエロー、金属粉が挙げられ
る。

顔料分散用化合物としては、ポリアクリルアミド、ポリ
アクリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性スチレンア
クリル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチレンマレイ
ン酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル樹脂、水溶
性ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、β−ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四級アンモニウ
ムやアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含む高分子化
合物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、カゼイン等
の蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等の天然ゴム
類、サポニン等のグルコキシド類、カルボキシメチルセ
ルロ−ス チルセルロース、メチルセルロース、等のセルロース誘
導体、リグニンスルホン酸及びその塩、セラック等の天
然高分子化合物、等が挙げられる。

油性の記録剤としては、水性インクと同様に、油溶性染
料を有機液体化合物に溶解したものや、顔料を有機液体
化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料を油性ベース
に乳化させたもの、等が用いられる。

油性染料の代表的な例としては、例えば次のものが挙げ
られる。

Ｃ．１．ソルベント・イエロー１，２，３，４，５，６
，７，８，９。

１０、１１，１２，１４，１６，１７。

２６、２７，２９，３０，３９，４０。

４６、４９，５０，５１，５６，６１。

８０、８６，８７，８９．９６ Ｃ．１．ソルベント・オレンジ１２，２３，３１，４３
，５１，６１Ｃ．１．ソルベント・レッド１，２，３，
１６，１７，１８，１９，２０。

２２、２４，２５，２６，４０，５２，５９。

６０、６３，６７、６８，１２１ Ｃ．１．ソルベント・バイオレット７、１６．１７Ｃ．
１．ソルベント・ブルー２．６，１１，１５，２０，３
０，３１，３２。

３５、３６，５５，５８，７１．７２ Ｃ．１．ソルベント・ブラウン２，１０，１５，２１．
２２Ｃ．１．ソルベント・ブラック３，１０，１１，１
２．１３等。

また、染料を溶解したり、顔料を分散するための油性ベ
ースとしては、ｎ−オクタン、ｎ−デカン、ミネラネス
ピリット、リグロイン、ナフサ、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の炭化水素類；ジブチルエーテル、ジブチル
エーテル、アニソール、フェネトール、ジベンジルエー
テル等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコ
ール類；ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の
多価アルコールエーテル類；エチレングリコールモノメ
チルアセタート、エチレングリコ−ルモノエチルアセタ
ート、エチレングリコールモノブチルアセタート等の多
価アルコールアセタート類；オレイン酸等が挙げられる
。

油性インクにおいても、先に例示した顔料を用いること
ができる。油性の顔料分散剤の例としては、ポリメタク
リル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビ
ニル、塩ビニル系共重合体、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルブチラール等のビニル系共重合体、エチルセル
ロース、メチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリ
エステル、ポリアミド、フェノール樹脂等の縮重合樹脂
、ロジン、セラック、ゼラチン、カゼイン、等の天然樹
脂等がある。

〔実施例〕

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明する。なお
、以下において示す部はいずれも重量基準である。

合成例 （ＬＨ，ＬＨ，２Ｈ，２Ｈ−へブタデカフルオロデシル
アクリレート）の重合 三ツロナスフラスコに温度計を取り付け、■、１゜１−
トリクロロエタン１００部、ＬＨ，ＩＨ，２１（，２Ｈ
−へブタデカフルオロデシルアクリレート〔ビスコース
１７Ｆ：大阪有機化学工業（株）製〕１００部、アゾビ
スイソブチロニトリル（ＡＴＢＮ）０．３部を仕込み、
約３０分間撹拌しながら窒素置換を行なった後、窒素気
流下撹拌しながら７０℃で５時間重合を行ない、１，１
．１−トリクロロエタンに分離した生成物を得た。

この生成物をフロン−１１３に溶解し、メタノールへ沈
澱することにより、精製を行なった。更に、沈澱物を１
００〜１２０℃で減圧乾燥し、目的物３５部を得た。

実施例１ 基板としてポリイミドフィルムを用い、導電性材料等を
含有する記録層材料を被覆処理して、本発明の記録体を
作製し、その評価を行なった。使用材料、作製条件等は
次の通りである。

（ｉ）記録体基板：ポリイミドフィルム（カプトン３０
０Ｖｉ東しデュポン社 製） （ｉ］）導電性物質：ケッチエンブラックＥＣ（川）記
録層コート液組成及びコート方法：フロン−１１３１３
部 合成例で得られた重合体　　　　　　　１部ケッチエン
ブラックＥＣＯ，３部 上記割合で、フロン−１１３に合成例で得られた重合体
とケッチエンブラックを混合撹拌後、直ちにこれをポリ
イミドフィルム上にキャストコートし、１３０℃にて３
０分加熱乾燥を行なった。

（ｉｖ）評価： 得られた記録体を用いて熱転写プリンター用サーマルヘ
ッドにより、所定の方法にて画像形成を行なったところ
、良好な走行性を示した。表面固有抵抗値は２．４　Ｘ
　１×１０１２Ωであり、表面の帯電性もおさえられて
いた。

実施例２ ケッチエンブラックＥＣの代わりに、帯電防止剤として
ケミスタット１００５（工注化成社製）を用いた以外は
、実施例１と同様にして本発明の記録体を作製し、その
評価を行なった。

（ｉｖ）評価： 得られた記録体を用いて熱転写プリンター用サーマルヘ
ッドにより、所定の方法にて画像形成を行なったところ
、良好な走行性を示した。表面固有抵抗値は５．ＯＸ　
１×１０１２Ωであり、表面の帯電性もおさえられてい
た。

比較例 ケッチエンブラックＥＣを使用しなかった以外は、実施
例１と同様にして比較用の記録体を作成し、その評価を
行なった。

（■）評価： 得られた記録体を用いて熱転写プリンター用サーマルヘ
ッドにより、所定の方法にて画像形成を行なったところ
、良好な走行性を示していたが。

表面固有抵抗値は１０１５０程度と、大きい帯電性が認
められた。

〔発明の効果〕

請求項（１）の記録体は、基板とその上に積層された記
録層とからなり、しかも導電性材料又は／及び帯電防止
剤を含み、表面固有抵抗値が１×ＩＯ”′Ω以下という
構成にしたことから、帯電防止性が付与され、繰り返し
使用しても汚れが発生せず、且つ記録体の劣化も防止さ
れたものである。

また、請求項（２）の記録体は、接触材料として記録剤
を兼ねるものを使用するという構成にしたことから、潜
像形成と顕像化とを一体化できるので、記録装置を小型
化できるという効果が加わる。

更に、請求項（３）の記録体は、記録層が側鎖に弗素原
子を含む化合物からなるという構成にしたことから、記
録層上への潜像形成及び潜像消去がより一層容易になる
という効果が加わる。

【図面の簡単な説明】

第１図は表面自己配向機能を有する形態の模式的な四側
の図である。 第２図は本発明の記録体の構造を示す模式断面図である
。 第３図及び第４図は本発明の記録体の性質を基本的に説
明するための図である。 第５図は本発明の記録体の記録層表面に液体を接触させ
た状態で記録層表面を加熱した場合、その表面にみられ
る後退接触角ｏｒの変化を表わした図である。 第６図は本発明の記録体を用いる記録方法の三つの態様
を示したものである。 第７図、第８図、第９図、第１０図、第１１図、第１４
及び第１５図は本発明の記録体の実施の様子を表わした
図である。 第１２図及び第１３図は本発明の記録体から得られた記
録物の応用例を示したものである。 １・・・基板、２・・・記録層、２ａ・・・微小化され
た記録層、２′・・・導電性材料、帯電防止剤、３・・
・液体、３ａ・・・記録剤、３ｂ・・・付着記録剤、４
・・・ヒーター、５・・・レンズ、６・・シャッター、
７・・・記録体、１１・・・金属基板、ｌｌａ・・・微
小化された金属膜、１２・・・有機簿膜、３１・・・液
体供給口、３４・・・スポンジ状多孔質体、４１・・・
赤外線ランプ、４２・・・レーザー光源、４３・・・サ
ーマルヘッド、５２・・・スクリーン、５３・・・光源
、５４・・・検知器、５５・・・モーター、６１・・・
記録紙、６２・・・加圧ローラー。 第１図 （Ｃ） （ｂ） （ｄ） 第２図 第３図 第８図 第９図　　　　第１０図 ト ｒｆｆＪ　ＣＸＪ　ソ　＝ 第１２図 第１３図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）加熱状態でかつ液体と接触させたときに後退接触
   角が低下する表面を有する記録層の表面と、液体、蒸気
   及び該記録層における後退接触角の低下開始温度以下で
   液体となるか又は液体若しくは蒸気を発生する固体から
   選ばれる接触材料とを接触させた状態で選択的に加熱す
   ることにより、又は該記録層の表面を選択的に加熱した
   状態で該接触材料と接触させることにより、該記録層表
   面に加熱温度に応じた後退接触角を示す領域を形成させ
   る記録方法に用いる記録体であって、該記録体は導電性
   材料又は１及び帯電防止剤を含み、表面固有抵抗値が１
   ×１０＾１＾２Ω以下であることを特徴とする記録体。
2. （２）前記接触材料が顕色材を含有した液状記録剤であ
   る請求項（１）記載の記録体。
3. （３）前記記録層が側鎖に弗素原子を含む化合物を含有
   するものである請求項（１）又は（２）記載の記録体。