JPH0416845B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、融体超急冷法等の方法を採用するこ
とによつて形成された軟磁性の薄板を使用して形
成される磁気ヘツドの製造方法に関する。

従来、磁気ヘツドのコア材としては、パーマロ
イ、フエライト、センダスト合金等で形成されて
いる。

これらのパーマロイ、フエライト等は冷間圧延
または研摩されることによつて平板化されている
ので厚みむらが少ない。このようにして平板化さ
れた磁性材料を用いてコア取りをした場合には、
磁気ギヤツプ近傍の占積率を考慮した位置関係を
問題にしなくても良く、単に加工性或いは材料の
歩留りだけを考慮すれば良かつた。

また融体超急冷法を採用して薄板が製造される
こともあるが、この薄板は厚みむらが大きく、そ
の断面形状が凸面形または凹面形に形成されてい
た。このような、断面形状を有する薄板を用いて
位置関係を考えないでコア取りすると、最も占積
率が高いことが要求される磁気ギヤツプ近傍で占
積率が70％程度しか得られない場合が生じ、実効
的な磁束密度、透磁率の低下を来す。またコア材
を接着剤を用いて積層することによつてラミネー
ト・コアを形成する場合には、接着剤の塗布層の
厚みむらが生ずる。その結果、接着力が弱くな
り、強度的な問題が生じたり、偏磨耗がおこつた
りする。

本発明は上述の如き点に鑑みてなされたもので
ありその目的とするところは、磁気ギヤツプ近傍
の占積率が高く、実効的な磁束密度、透磁率の低
下がなく材料の特性を活かすことができ、またラ
ミネート・コアを形成する場合には接着剤の塗布
層の厚みむらがなくコア材相互の強く偏磨耗等の
問題が少ない磁気ヘツドの製造方法を提供するの
にある。

以下本発明の詳細を図面に従つて使用に供する
装置とともに説明する。

第１図は、本発明を実施するのに使用する融体
超急冷装置０の一例を示したもので、この融体超
急冷装置０は、対向したロール３，３に溶融母材
２を噴出すべきノズル１Ａを先端に設けた加熱容
器１と、該加熱容器１内に収容される溶融母材２
と、加熱容器１の外周に捲回したヒータＨまたは
高周波などの加熱手段とによつて形成される。

そして加熱容器１によつて加熱された溶融母材
２をノズル１Ａからロール３，３に噴出して超急
冷法により薄板４を得るが、薄板４の寸法および
断面形状は、溶融母材２に対する加熱温度、射出
速度、ローラ径、回転速度等の諸条件で決まる。

溶融母材２に対する加熱温度を低くし、回転速
度を速くするような圧延条件の場合に均一に冷却
すると、第２図に示すように長さ方向に垂直な断
面形状が略凸面形の軟磁性材料で形成された単一
の薄板４が製造される。ここで凸面形とは、前記
薄板４の中心点Ａにおける厚さD₀と、薄板４の
全幅Ｌの前記中心点Ａから略１／４離れた点Ｂの
厚さｄとの厚さの比D₀／ｄが１以上のものをい
う。

逆に、溶融母材２に対する加熱温度が高く、ロ
ーラー３，３の回転速度を遅くさせたような圧延
条件の場合には、断面形状が凹面形になる。また
溶融母材２に対する加熱温度と、ローラ３，３の
回転速度とが上記凸面形と凹面形との中間である
場合には薄板４の断面形状として矩形のものが得
られる。

そして溶融母材２としてセンダスト合金（Al
−Si−Fe合金）で上記凸面形で得られる条件は、
ローラ３，３の径で100mmの場合、溶融母材２の
加熱温度1250℃〜1600℃、回転数400〜2000r.p.m
の範囲である。

またFe−Si系合金では溶融母材２の加熱温度
は1350℃〜1600℃、回転数600〜1500r.p.mであ
る。

コア材を製造する場合には、このようにして製
造された薄板４を接着剤６を用いて十数枚、接着
して、積層することによつてラミネート・コアL.
Cを製造する（第７図、第８図、第１０図参照）。

この時、ラミネート・コアL.Cは単一の薄板４
の略凸面形の最も厚みが厚い略中心点Ａを揃えて
十数枚が接着される。そして軟磁性材料で製造さ
れた断面略凸面形の単一の薄板４を積層したラミ
ネート・コアL.Cから、縦スターガー取り（第３
図参照）、横スターガー取り（第４図参照）、縦平
行取り（第５図照）、横平行取り（第６図参照）
によつてコア取りを行うが、この際略凸面形に形
成される薄板４の最も厚い略中心点Ａに磁気ギヤ
ツプが位置するように切断する。

このようにして製造される場合のラミネート・
コアL.Cの占積率＝ コア材５だけの断面積／コア材５と接着剤とを含めた
断面積 は高くなる。

そして薄板４の全幅をＬとし、薄板４の片端か
ら距離ｘだけ離れた位置で切断した場合の占積率
の距離ｘに対する依存性は第９図のようになる。

第９図から薄板４の片端から距離ｘと、薄板４
の全幅Ｌとの比が0.4〜0.6のところではその占積
率が97％と高い。

このように凸面形で形成された単一の薄板４を
積層することにより形成されたラミネート・コア
L.Cは、コア材５の積層時における加圧が充分に
行えるため、占積率が高くなる。また接着剤６の
厚みむらが生じないとともに接着剤６が滲み出る
ようなトラブルが生じないのでコア材５相互の接
着力は強くなる。

次に図面を参照しながら本発明の一実施例を説
明する。

先ず第１図において溶融母材２としてFe−Al
−Si系のセンダスト合金、例えばFe：Al：Siが
92〜81：３〜８：５〜11（重量パーセント）を加
熱容器１内に入れてヒータＨで加熱して溶融させ
る。そして加熱容器１によつて加熱された溶融母
材２を不活性ガス、例えばヘリウム、アルゴン等
を注入することによつて加熱容器１内の内圧を高
め、ノズル１Ａから、ロール３，３に噴出して融
体超急冷法により、断面形状が略凸面形の単一の
薄板４を得た。この場合のセンダスト合金の加熱
温度は、1250℃〜1600℃で対向するローラ３，３
の回転数は、400〜2000r.p.mである。こうして略
同一条件にて製造された薄板４を12枚、その最も
厚い中心点Ａを揃え、接着剤６を用いて積層し、
その後最も厚い略中心点Ａに磁気ギヤツプが位置
するように、例えば縦スターガー取り（第３図）
によつてコア取りして略一定の幅、厚みのコア材
５を得る。この場合に用いる接着剤６としては例
えばエポキシ系の接着剤が用いられる。

こうして形成されたラミネート・コアL.Cは曲
げ強度が強く、加工性の良いものが得られた。

この場合、ラミネート・コアL.Cは、コア材５
の断面形状が略凸面形であり、その最も厚い中心
点Ａ位置付近に磁気ギヤツプＧが来るように形成
されているので、上上下から力を加える場合に
も、接着力６の塗布量に厚みむらが生じないた
め、コア材５の接着力が大きくなり、単一の薄板
４の過度の加圧力による歪みはなく、磁気ヘツド
の磁気特性が損なわれることがない。

従つて磁気ヘツドは偏摩耗もなく、スペーシン
グ・ロスによる劣化が少ない。

この場合、薄板４の全幅をＬとし、薄板４の片
端より距離ｘだけ離れた位置で切断した場合のコ
ア材５のｘ／Ｌが0.4〜0.6である場合の占積率は
97％と高い。

なお薄板４を形成するのに上記実施例のほかア
モルフアス磁性材料で形成してもよい。

上述のように本発明は、磁気ギヤツプ近傍の占
積率が高く、実効的な磁束密度、透透磁率の低下
がなく、材料の特性を活かした磁気ヘツドを製造
することができる。またラミネート・コアを形成
する場合に、接着剤の塗布量に厚みむらがなく、
コア材相互の接着力が強い。しかも偏磨耗もな
く、スペーシング・ロスによる劣化が少ない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を構成する軟磁性の薄板を製造
すべき融体超急冷装置を示した断面図、第２図は
上記装置用いて製造される断面略凸面形の単一の
薄板を示した断面図、第３図は上記薄板を用いて
縦スターガーのコア取りをする場合の平面図、第
４図は同じく横スターガーのコア取りをする場合
の平面図、第５図は同じく縦平行のコア取りをす
る場合の平面図、第６図は同じく横平行のコア取
りをする場合の平面図、第７図は断面略凸面形の
単一の薄板を積層してラミネート・コアを形成し
た場合の斜面図、第８図は同じく任意の箇所で切
断した場合の断面図、第９図はコア取りの際の占
積率の断面方向の位置依存性を示した特性図、第
１０図は第７図の縦断面図である。 ４…薄板、５…コア材、６…接着剤、L.C…ラ
ミネート・コア。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 軟磁性の薄板を積層して磁気ヘツドを形成す
   る製造方法にして、前記薄板の断面形状を単一の
   略凸面形に形成し、前記薄板の適宜複数枚をその
   凸面形の最も厚い箇所を揃えて接着することによ
   りラミネート・コアを形成し、前記ラミネート・
   コアを略凸面形の前記薄板の最高厚み付近におい
   て切断して磁気ギヤツプを形成することを特徴と
   した磁気ヘツドの製造方法。