JPH04168614A

JPH04168614A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH04168614A
Application number: JP29564490A
Authority: JP
Inventors: Takao Yamano; 山野　孝雄; Takashi Yanai; 柳井　孝; Hiroyuki Okuda; 裕之奥田; Tsukasa Shimizu; 司清水; Takashi Ogura; 隆小倉
Original assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Current assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Priority date: 1990-10-31
Filing date: 1990-10-31
Publication date: 1992-06-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（イ〉　産業上の利用分野本発明はＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）、ＤＡＴ（デ
ジタルオーディオテープレコーダー）等の広帯域の磁気
記録装置に用いて好適な磁気ヘッドの製造方法に関する
。

（ロ）従来の技術近年、ＶＴＲ，ＤＡＴ等の磁気記録装置は高密度記録化
が進められており、磁気媒体としては磁性粉にＦｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ等の強磁性金属粉末を用いた高抗磁力のメタル
テープが使用されるようになっている。一方、このメタ
ルテープに記録を行う磁気ヘッドとしては、例えば特開
昭６０−３２１０７号公報（Ｇ１１Ｂ５／１２７）等に
開示されているように、磁気ギャップの近傍部分に飽和
磁化の大きな金属磁性薄膜（例えばパーマロイ、センダ
スト、アモルファス磁性体）と絶縁薄膜とを交互に形成
した積層薄膜を配置した磁気ヘッドが提案されている。

第５図はこの磁気ヘッドの外観を示す斜視図である。

図中（１ｍ）（ｌｂ）は結晶化ガラス等の非磁性材料か
らなる一対のコア半体で、該コア半体（ｌａ）（ｔｂ）
の磁気ギャップ（２）近傍部には積層薄膜（３〉が被着
形成されている。前記積層薄膜（３）はセンダスト等の
強磁性金属薄膜（４）とＳｉＯオ等の絶縁薄膜（５）と
から成る。尚、（６）は前記磁気コア半体（ｌａ）（ｌ
ｂ）を接合するためのガラス、（７）は巻線溝である。

次に、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。

先ず、第６１１！Ｉ（ａ　）に示すように結晶化ガラス
等の非磁性材料よりなる基板（８〉の上面に傾斜溝（９
）及び巻線溝（７）を形成する。前記傾斜溝（９〉は基
板（８）上面に対して直交する第１面（１０）と所定角
度傾斜している第２面（１１）とから構成されている。

次に、第６図（ｂ）に示すように前記基板（８）の上面
に金属磁性薄膜（４）と絶縁薄膜（５）とを交互にスパ
ッタリング等により被着して積層薄膜（３）を形成する
。

次に、第６図（Ｃ）に示すように前記基板（８）の上面
に被着した積層薄膜を研磨、研削等により除去すること
により傾斜溝（９）及び巻線溝（７）に被着している積
層薄膜（３）の端面（３ａ）を露出させ、ギャップ衝合
面を形成する。

次に、第６図（ｄ）に示すように前記基板（８〉の上面
にＳ　ｉ　Ｏｍ等の非磁性材料よりなるギャップスペー
サ（１２）を被着形成し、その後トラック幅規制溝（１
３）を形成する。

次に、第６図（ｄ）に示す基板を１組用意し、そのうち
一方の基板（８′）に第６図（ｅ）に示すようにガラス
棒挿入溝（１４）を形成する。

次に、第６図＜ｒ＞に示すように前記１組の基板（８）
（８’＞をギャップ衝合面同士が対向するように衝き合
わせ、ガラス棒挿入溝（１４）に挿入したガラス棒を溶
融固化することにより傾斜溝（９）（９）及びトラック
幅規制溝（１３）（１３）内にガラス（６）を充填し、
前記基板（８）（８’）をギャップ接合してブロック（
１５）を形成する。

次に、第６図（ｇ）に示すように前記ブロック（す）を
切断してコアブロック（狭）を形成し、該コアブロック
（１６）の端面にＲ付加工を施して第６図（ｈ）に示す
ように媒体摺接面（１７）を形成する。

次に、第６図（ｉ）に示すように前記コアブロック（！
りを切断してコアチップ（す）を形成し、磁気ヘッドが
完成する。

金属磁性薄膜は、飽和磁束密度が大きいという点では有
利であるが、比抵抗が小さいという欠点をもつ、このた
め、高周波領域になると渦電流が発生し、磁性体内を磁
束が通りにくくなり、透磁率μが低下する。この現象を
回避するため、上述のように金属磁性薄膜（４）と絶縁
薄膜（５）とよりなる積層薄膜（３）を用いた磁気ヘッ
ドが提案されている。

従来、この絶縁薄膜（５）が擬似ギャップとして働くた
め、録再出力が著しく低下するという問題があったが、
特開平２−１６８４０４号公報（０１１Ｂ５／２３）に
示されているように積層薄膜とヘッド側面との角度３０
°以下とする等の方法によりかなり改善されてきた。し
かし、実用化には未だ不十分であった。尚、積層薄膜と
ヘッド側面との角度を３０″以下にするためには、アジ
マス角を５〜１０°と考慮して金属磁性薄膜（４）と絶
縁薄膜（５）との界面と磁気ギャップ（２）との為す角
度、即ち傾斜溝（９）の第２面（１１）と基板（８）の
上面との為す角度を５０°以下にする必要がある。

また、上記従来の磁気ヘッドでは、積層薄膜（３）のみ
で磁路が形成されており、この積層薄膜（３）はヘッド
両側部において薄くなるため磁気抵抗が大きくなり、記
録再生特性が低下する。上述のように積層薄膜（３）が
ヘッド両側部において薄くなる理由は、第６図（ｂ）に
示す製造工程において積層薄膜（３）を形成する際、傾
斜溝（９）の第２面（１１）では、溝底部に行く程第１
面（１０〉が遮へい板として働き、形成される積層薄膜
（３）の膜厚が小さくなるためである。

（ハ）発明が解決しようとする課題本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
積層薄膜が薄くなることにより生じる記録再生特性の低
下を防止した磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的とするものである。

（ニ）課題を解決するための手段本発明は非磁性材料よりなる基板の上面に第１面と前記
基板上面に対して所定角度傾斜している第２面とを有す
る傾斜溝を形成した後、前記基板上面に積層薄膜等の磁
性薄膜を被着形成する工程を有する磁気ヘッドの製造方
法において、前記傾斜溝の第１面と第２面との間に溝底
面となる第３面を形成したことを特徴とする。

更に、本発明は前記傾斜溝の溝幅を溝深さの１．３３倍
以上としたことを特徴とする。

（ホ）作　用上記製造方法に依れば、第３面により第１面と第２面と
の距離は大きくなるため、磁性薄膜形成時前記第１面は
遮へい板としては働かず、第２面の溝底部側にも十分に
磁性薄膜が被着する。

特に、上記第３面により傾斜溝の溝幅が溝深さの１．３
３倍以上になると上記第２面に被着する磁性薄膜の膜厚
はギャップ近傍部となる溝上方域からヘッド両側端部と
なる溝下置載に亘って略均−になる。

（へ）実施例以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。

第１図は本実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す図であ
る。

先ず、第１図（＠）に示すように結晶化ガラス等の非磁
性材料よりなる基板（８）の上面に傾斜溝（１９）及び
巻線溝（７）を形成する。前記傾斜溝（１９）は基板（
８）上面に対して直交する第１面（２０）と、基板（８
）上面に対して所定角度傾斜している第２面（２１）と
、基板（８）上面に対して平行である第３面（２２）と
から構成されている。前記傾斜溝（１９）は第３図に示
すように溝幅がａ、溝深さがｂ、第３面（２２）の幅が
Ｃ１第２面（２１）の傾斜角が０１である。

次に、第１図（ｂ）に示すように前記基板（８）の上面
にセンダストよりなる５Ｊｍ厚の金属磁性薄膜（４）と
Ｓ　ｉ　Ｏ，よりなる０、ＩＪｍ厚の絶縁薄膜（５）と
を交互にスパッタリング等により被着して積層薄膜（３
）を形成する。

次に、第１図（ｃ）に示すように前記基板（８）の上面
に被着した積層薄膜を研磨、研削等により除去すること
により傾斜溝（１９）及び巻線溝（７）に被着している
積層薄膜（３）の端一（３ｇ）を露出させる。

次に、第１図（ｄ）に示すように前記基板（８）の上面
にＳｉｎ、等の非磁性材料よりなるギャップスペーサ（
１２）を被着形成し、その後トラック幅規制溝（１３）
を形成してギャップ衝合面を形成する。

次に、第１図（ｄ）に示す基板を１組用意し、そのうち
一方の基板（８゛）に第１図（ｅ）に示すようにガラス
棒挿入溝（１４）を形成する。

次に、第１図（ｆ）に示すように前記１組の基板（８）
（８’）をギャップ衝合面同士が対向するように衝き合
わせ、ガラス棒挿入溝（１４）に挿入したガラス棒を溶
融固化することにより傾斜溝（１９）（１９）及びトラ
ック幅規制溝（１３）内にガラス（６）を充填し、前記
基板（８）（８’）をギャップ接合してブロック（１５
）を形成する。

次に、第１図（ｇ）に示すように前記ブロック（１５）
を切断してコアブロック（１６）を形成し、該コアブロ
ック（１６）の端面にＲ付加工を施して第１図（ｈ）に
示すように媒体摺接面（１７）を形成する。

次に、第１図（ｉ）に示すように前記コアブロック（巧
）を傾斜溝（１９）とトラック幅規制溝（１３）の間の
部分で切断してコアチップ（１８）を形成する。前記コ
アチップ（１８）のチップ幅ｌは７００Ｊｍ、チップ厚
ｍは７００１■である。

次に、前記コアチップ（１８）の媒体摺接面（１７）の
端部を研磨により除去して面取り（２３）（２３）を形
成して第２図に示す本実施例の磁気ヘッドが完成する。

上述の磁気ヘッドの製造方法において、傾斜溝（１９〉
の溝深さｂが１５０Ｊｍ、第２面（２１）の傾斜角θが
５５６である場合に、前記第２面（２１）の上方域（ギ
ャップ衝合面近傍）に被着した積層薄膜（３）の膜厚Ｉ
と、第２面（２１）の下方域（溝底部）に被着した積層
薄膜（３）の膜厚ｙとの比率が溝幅２、即ち第３面（２
２）の幅Ｃに対してどのように変化するかを調べ、その
結果を第４図に示す。

第４図から判るように、傾斜溝（１９）に第３面（２２
）を設けることにより、第２面（２１）の上方域に被着
している積層薄膜（３）と下方域に被着している積層薄
膜（３）との膜厚の差は小さくなる。また、溝幅ａが１
５０鐸、即ち溝深さｂに等しい場合では、第２面（２１
）の下方域に被着している積層薄膜（３）の膜厚ｙは、
第２面（２１）の上方域に被着している積層薄膜（３）
の膜厚Ｘに比べて小さいが、溝幅ａが２００ｊｍ以上、
即ち溝深さに対して１．３３倍以上では、第２面（２１
）に被着している積層薄膜（３）の膜厚は溝上部から溝
底部に亘って略等しくなる。

以上のように、上述のような本実施例の磁気ヘッドの製
造方法では、傾斜溝（１９）に第３面（２２）を設ける
ことにより、第１面（２０）と第２面（２２）との距離
が離れるため、積層薄膜（３）を形成する際、前記第１
面（２０）が遮へい板としては働かず、前記第２面（２
１）の下方域にも十分に積層電膜（３）が被着される。

このため、製造された磁気ヘッド完成体においてもヘッ
ド両側部で積層薄膜（３）の膜厚が薄くなることはなく
、記録再生特性の低下は防止される。特に、第３面（２
２）を設けることにより溝幅ａが溝深ａｂの１，３３倍
以上になると、ヘッド両側部の積層薄膜（３）の膜厚は
磁気ギャップ（２）近傍部の積層薄膜（３）の膜厚と略
等しくなる。

また、上記実施例の製造方法により製造された磁気ヘッ
ドでは、傾斜溝（１９）の第３面（２２）の存在により
チップ厚ｍが大きくなり、この大きなチップ厚ｍにより
機械的強度が十分に確保される。このため、チップ幅！
は従来のヘッドに比べて小さくすることが出来、巻線の
巻回部分の断面において非磁性体の占める割合を小さく
することが出来る。

尚、上述の実施例では積層薄膜を基板上面に被着形成し
たが、金属磁性薄膜のみで構成される単層薄膜において
も、本発明の効果を得ることが出来る。

（ト）発明の効果本発明に依れば、ヘッド両側部において磁路が狭くなる
ことはなく、磁路が狭くなることにより生じる記録再生
特性の低下を防止した磁気ヘッドの製造方法を提供し得
る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明に係り、第１図は磁気ヘッド
の製造方法を示す斜視図、第２図は磁気ヘッドの外観を
示す斜視図、第３図は傾斜溝の形状を示す断面図、第４
Ｉ！！は積層薄膜の被着状態と傾斜溝の溝幅との関係を
示す図である。第５図乃至第６図は従来例に係り、第５
図は磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第６図は磁気ヘッ
ドの製造方法を示す斜視図である。（３）・・・積層薄膜、（３ａ）・・・端面、（４）・
・・金属磁性薄膜、（５）・・・絶縁薄膜、（６）・・
・基板、（１２）・・・ギャップスペーサ、（１３）・
・・トラック幅規制溝、（１５）・・・ブロック、（１
９）・・・傾斜溝、（２０）・・・第１面、（２１）・
・・第２面、（２２）・・・第３面。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性材料よりなる基板の上面に第１面と前記基
板上面に対して所定角度傾斜している第２面とを有する
傾斜溝を形成した後、前記基板上面に磁性薄膜を被着形
成し、次いで前記基板上面に被着した磁性薄膜を除去す
ることにより前記第２面に被着している磁性薄膜の端面
を露出させ、その後、前記基板上面にトラック幅規制溝
を形成して前記磁性薄膜の端面よりなるギャップ衝合面
を形成し、前記基板のギャップ衝合面を他の基板のギャ
ップ衝合面にギャップスペーサを介して衝き合わせタ状
態でギャップ接合してブロックを形成する工程を有する
磁気ヘッドの製造方法において、前記傾斜溝の第１面と
第２面との間に溝底面となる第３面を形成したことを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法。
（２）前記傾斜溝の溝幅を溝深さの１．３３倍以上とし
たことを特徴とする請求項（１）記載の磁気ヘッドの製
造方法。
（３）前記磁性薄膜が金属磁性薄膜と絶縁薄膜との積層
薄膜であることを特徴とする請求項（１）又は（２）記
載の磁気ヘッドの製造方法。