JPH04192532A - 半導体チップキャリアの製造方法 - Google Patents
半導体チップキャリアの製造方法Info
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- JPH04192532A JPH04192532A JP32675290A JP32675290A JPH04192532A JP H04192532 A JPH04192532 A JP H04192532A JP 32675290 A JP32675290 A JP 32675290A JP 32675290 A JP32675290 A JP 32675290A JP H04192532 A JPH04192532 A JP H04192532A
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Landscapes
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、熱放散型の半導体チンプキャリアの製造方法
に関するものである6
に関するものである6
半導体の高密度化や高出力化などに伴って、半導体チッ
プからの発熱が高くなっており、半導体チップを実装す
る半導体チップキャリアとして、半導体チ・リブの発熱
を放熱することができるものが要求されている。 第8図はそグ)−例を示すものであり、プリント配線板
などで形成される絶縁基板1内に金属板2を埋設し、絶
縁基板1の一方の面(下面)に金属板2が底面となるキ
ャビティ凹所3を設けてこのキャビティ凹所3に半導体
チップ4が実装しである。絶縁基板1の表面には回路(
図示省略)が形成してあり、この回路の一端に半導体チ
ップ4をワイヤー11等を介して接続すると共に絶縁基
板1に基部を埋入した端子12に回路の他端を接続する
ようにしである。また絶縁基板1の他方の面(上面)に
金属板2が底面となる放熱凹所5を設け、放熱凹所5内
において絶縁基板1の上面がら突出するように伝熱金属
体6が接合して取り付けである。そして必要に応じて伝
熱金属体6の表面にヒートシンク7が接合される。 、′め家、めt〜本^ア 土道鹸キ11.ブ、1シ、L
春髄へれる熱は、金属板2に吸熱されるヒ共に金属板2
から伝熱金属体6に伝熱されて放熱される。伝熱金属体
6にヒートシンク7を接合している場合には、熱は伝熱
金属体6からヒートシンク7に伝えられて放熱される。 そしてこの半導体チップキャリアの上面と下面にはエポ
キシ樹脂等の封止樹脂10によって封止が施されている
。この封止をおこなうにあたっては、第7図に示すよう
にモールド金型9内に半導体チップキャリアをセットし
て、型閉めすることによって伝熱金属体6の絶縁基板1
から突出する表面をモールド金型9の内面に当接させ、
この状態でモールド金型9内に封止樹脂10を射出等し
て注入することによっておこなわれている。伝熱金属体
6の表面をモールド金型9の内面に当接させることによ
って、伝熱金属体6の表面が封止樹脂10で被覆されな
いようにし、伝熱金属体6がらの放熱面積が封止樹脂1
0で小さくならないようにすると共に、ヒートシンク7
を設ける場合にはヒートシ〕/り7と伝熱金属体6との
接合面積が小さてならないようにしているめである。
プからの発熱が高くなっており、半導体チップを実装す
る半導体チップキャリアとして、半導体チ・リブの発熱
を放熱することができるものが要求されている。 第8図はそグ)−例を示すものであり、プリント配線板
などで形成される絶縁基板1内に金属板2を埋設し、絶
縁基板1の一方の面(下面)に金属板2が底面となるキ
ャビティ凹所3を設けてこのキャビティ凹所3に半導体
チップ4が実装しである。絶縁基板1の表面には回路(
図示省略)が形成してあり、この回路の一端に半導体チ
ップ4をワイヤー11等を介して接続すると共に絶縁基
板1に基部を埋入した端子12に回路の他端を接続する
ようにしである。また絶縁基板1の他方の面(上面)に
金属板2が底面となる放熱凹所5を設け、放熱凹所5内
において絶縁基板1の上面がら突出するように伝熱金属
体6が接合して取り付けである。そして必要に応じて伝
熱金属体6の表面にヒートシンク7が接合される。 、′め家、めt〜本^ア 土道鹸キ11.ブ、1シ、L
春髄へれる熱は、金属板2に吸熱されるヒ共に金属板2
から伝熱金属体6に伝熱されて放熱される。伝熱金属体
6にヒートシンク7を接合している場合には、熱は伝熱
金属体6からヒートシンク7に伝えられて放熱される。 そしてこの半導体チップキャリアの上面と下面にはエポ
キシ樹脂等の封止樹脂10によって封止が施されている
。この封止をおこなうにあたっては、第7図に示すよう
にモールド金型9内に半導体チップキャリアをセットし
て、型閉めすることによって伝熱金属体6の絶縁基板1
から突出する表面をモールド金型9の内面に当接させ、
この状態でモールド金型9内に封止樹脂10を射出等し
て注入することによっておこなわれている。伝熱金属体
6の表面をモールド金型9の内面に当接させることによ
って、伝熱金属体6の表面が封止樹脂10で被覆されな
いようにし、伝熱金属体6がらの放熱面積が封止樹脂1
0で小さくならないようにすると共に、ヒートシンク7
を設ける場合にはヒートシ〕/り7と伝熱金属体6との
接合面積が小さてならないようにしているめである。
しかし、モールド金型9内に半導体チ・ソアキャリアを
セ・ソトするにあたって、伝熱金属体6の表面とモール
ド金型9の内面との平行度を正確に保って伝熱金属体6
の表面の全面をモールド金型9の内面に完全に密着させ
るのは困難てあり、また伝熱金属体6の表面を研磨等し
て完全な平面に調整しておかないと伝熱金属体6の表面
の全面をモールド金型9の内面に密着させることは困難
である。従って、伝熱金属体6の表面とモールド金型9
の内面との間の隙間に封止樹脂10が侵入して、第8図
(b)のように伝熱金属体6の表面の周部が封止樹脂1
0で覆われることになり、伝熱金属体6の表面の放熱面
積やヒートシンク7との接合面積が小さくなるものであ
った。 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、伝熱金
属体の表面が封止樹脂で覆われることを防ぐことができ
る半導体チップキャリアの製造方法を提供することを目
的とするものである。
セ・ソトするにあたって、伝熱金属体6の表面とモール
ド金型9の内面との平行度を正確に保って伝熱金属体6
の表面の全面をモールド金型9の内面に完全に密着させ
るのは困難てあり、また伝熱金属体6の表面を研磨等し
て完全な平面に調整しておかないと伝熱金属体6の表面
の全面をモールド金型9の内面に密着させることは困難
である。従って、伝熱金属体6の表面とモールド金型9
の内面との間の隙間に封止樹脂10が侵入して、第8図
(b)のように伝熱金属体6の表面の周部が封止樹脂1
0で覆われることになり、伝熱金属体6の表面の放熱面
積やヒートシンク7との接合面積が小さくなるものであ
った。 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、伝熱金
属体の表面が封止樹脂で覆われることを防ぐことができ
る半導体チップキャリアの製造方法を提供することを目
的とするものである。
本発明に係る半導体チ・ソアキャリアの製造方法は、半
導体チップ4を実装する絶縁基板1に伝熱金属体6をそ
の表面より突出するように設けると共に、伝熱金属体6
の絶縁基板1より突出する表面の端縁に全周に亙って止
め枠8を突出して設け、この絶縁基板1をモールド金型
9内にセットしてモールド金型9の内面に止め枠8を密
接させ、モールド金型9内に封止樹脂10を注入して絶
縁基板1の表面を樹脂封止することを特徴とするもので
ある。
導体チップ4を実装する絶縁基板1に伝熱金属体6をそ
の表面より突出するように設けると共に、伝熱金属体6
の絶縁基板1より突出する表面の端縁に全周に亙って止
め枠8を突出して設け、この絶縁基板1をモールド金型
9内にセットしてモールド金型9の内面に止め枠8を密
接させ、モールド金型9内に封止樹脂10を注入して絶
縁基板1の表面を樹脂封止することを特徴とするもので
ある。
本発明にあっては、伝熱金属体6の絶縁基板1より突出
する表面の端縁に全周に亙って止め枠8を突出して設け
、この絶縁基板1をモールド金型9内にセットすると共
にモールド金型9の内面に止め枠8を密接させ、モール
ド金型9内に封止樹脂10を注入するようにしているた
めに、止め枠8によってせき止められて封止樹脂1oが
伝熱金属体6の表面とモールド金型9の内面との間に侵
入することを防ぐことかできる。
する表面の端縁に全周に亙って止め枠8を突出して設け
、この絶縁基板1をモールド金型9内にセットすると共
にモールド金型9の内面に止め枠8を密接させ、モール
ド金型9内に封止樹脂10を注入するようにしているた
めに、止め枠8によってせき止められて封止樹脂1oが
伝熱金属体6の表面とモールド金型9の内面との間に侵
入することを防ぐことかできる。
以下本発明を実施例によって詳述する。
絶縁基板1は、銅箔を積層したエポキシ樹脂積層板など
の銅張り積層板を加工して得られるプリント配線板等に
よって作成されるものであり、絶縁基板1内にはアルミ
ニウムや銅など熱伝導性の良好な金属板2が埋設しであ
る。この金属板2は絶縁基板1を構成する積層板を成形
する際に同時に埋入させることができる。第3図に示す
ようにこの絶縁基板1の一方の面(下面)と他方の面(
上面)にはそれぞれ金属板2の面積よりも小さい面積で
キャビティ凹所3と放熱凹所5とが設けてあり、キャビ
ティ凹所3の底面と放熱凹所5の底面はいずれも金属板
2の表面によって形成されるようにしである。また絶縁
基板1の下面にはキャビティ凹所3を中心に放射状に複
数本の回路(図示省略)が銅箔の工・ソチング加工など
で作成しである。ICチ・ツブなど半導体チップ4はキ
ャビテア jLIl % Q I*I L= k t
sア仝マ鼾つM 志f 1.− m # ”C+ 2゜
ものであり、半導体チ・ツブ4の外部接続端子部と回路
の一端部との間に命線なと゛のワイヤー11をボンディ
ングして半導体チ・ツブ4を回路に接続しである。絶縁
基板1にはさらに複数本の端子12.12・・・がその
下面から突出するように基部を絶縁基板1に埋入して取
り付けてあって、各端子12は回路の他端部に接続して
あり、半導体チップ4は回路を介して端子12に接続さ
れるようにしである。伝熱金属体6はアルミニウムなビ
熱伝導性が良好であると共に軽量で且つ傷つきにくい金
属で作成されるものであって、放熱凹所5の深さよりや
や厚い寸法に形成されるものてあり、溶接金属や金属粉
入り接着剤など熱伝導性の良好な接合材13を用いて伝
熱金属体6を金属板2に接きするようにしである。従っ
て伝熱金属体6は絶縁基板1の上面より突出するように
取り付けられている。そしてこの伝熱金属体6の突出す
る表面には第6図<a >(b >に示すように、その
端縁の全長に亙って止め枠8を接合して取り付けである
。この止め枠8としては、モールド金型9の熱に耐える
ニヒのできる耐熱性樹脂 例えばシリコン系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、テフロン系樹脂なと゛
で形成したものを用いるのが好ましく、幅寸法を最低0
.05mm以上、皐ましくけ0.1mm以上に設定する
のかよい。 次ぎにエポキシ樹脂などの封止樹脂10て゛封止成形を
おこなうにあたっては、伝熱金属体6や半導体チップ4
を取り付けた絶縁基板1をモールド金型9内にセットし
、第1図に示すように止め枠8をモールド金型9の内面
に押さえ付けて密接させる。このようにセ・リドした状
態でモールド金型8内に封止樹脂10を射出等して注入
することによって、第2図に示すように伝熱金属体6の
側方において絶縁基板1の上面を封止樹脂10て封止す
るものである。ここで、止め枠8は線としてモールド金
型9の内面に当接されるために、止め枠8は全長に亙っ
てモールド金型9の内面に容易に密着させることができ
るものであり、この止め枠8で囲まれる伝熱金属体6の
表面に封止樹脂10が侵入することを止め枠8でせき止
めて完全に防てニとかできる。従って第2[J<a>(
b)に示すように、伝熱金属体6の表面が封止樹脂10
て被覆されるようなことがなくなり 伝熱金属体6の表
面の放熱面積やヒートシンク7との接な面積が小さくな
ったりすることがなくなるものである。また第1図及び
第2図の実施例では、絶縁基板1の下面においても半導
体チップ4を被覆するように封止樹脂10て封止をおこ
なうようにしてあり、さらに、絶縁基板1にその上下に
貫通する貫通孔14を設けて、貫通孔14内を通して絶
縁基板1の上面の封止樹脂10と絶縁基板1の下面の封
止樹脂10とが一体化されるようにしである。 尚、上記実施例では、絶縁基板1内に金属板2を埋設す
ると共に伝熱金属体6をこの金属板2に接合することに
よって絶縁基板]−に取り付けるようにしたが、第4図
や第5図に示すように、金属板2を用いずに伝熱金属体
6を絶縁基板1に直接取り付けるようにしてもよい。ま
た上記各実施例における半導体チップキャリアはPGA
タイプであるが、QFPタイプなどに形成することもて
きる。
の銅張り積層板を加工して得られるプリント配線板等に
よって作成されるものであり、絶縁基板1内にはアルミ
ニウムや銅など熱伝導性の良好な金属板2が埋設しであ
る。この金属板2は絶縁基板1を構成する積層板を成形
する際に同時に埋入させることができる。第3図に示す
ようにこの絶縁基板1の一方の面(下面)と他方の面(
上面)にはそれぞれ金属板2の面積よりも小さい面積で
キャビティ凹所3と放熱凹所5とが設けてあり、キャビ
ティ凹所3の底面と放熱凹所5の底面はいずれも金属板
2の表面によって形成されるようにしである。また絶縁
基板1の下面にはキャビティ凹所3を中心に放射状に複
数本の回路(図示省略)が銅箔の工・ソチング加工など
で作成しである。ICチ・ツブなど半導体チップ4はキ
ャビテア jLIl % Q I*I L= k t
sア仝マ鼾つM 志f 1.− m # ”C+ 2゜
ものであり、半導体チ・ツブ4の外部接続端子部と回路
の一端部との間に命線なと゛のワイヤー11をボンディ
ングして半導体チ・ツブ4を回路に接続しである。絶縁
基板1にはさらに複数本の端子12.12・・・がその
下面から突出するように基部を絶縁基板1に埋入して取
り付けてあって、各端子12は回路の他端部に接続して
あり、半導体チップ4は回路を介して端子12に接続さ
れるようにしである。伝熱金属体6はアルミニウムなビ
熱伝導性が良好であると共に軽量で且つ傷つきにくい金
属で作成されるものであって、放熱凹所5の深さよりや
や厚い寸法に形成されるものてあり、溶接金属や金属粉
入り接着剤など熱伝導性の良好な接合材13を用いて伝
熱金属体6を金属板2に接きするようにしである。従っ
て伝熱金属体6は絶縁基板1の上面より突出するように
取り付けられている。そしてこの伝熱金属体6の突出す
る表面には第6図<a >(b >に示すように、その
端縁の全長に亙って止め枠8を接合して取り付けである
。この止め枠8としては、モールド金型9の熱に耐える
ニヒのできる耐熱性樹脂 例えばシリコン系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、テフロン系樹脂なと゛
で形成したものを用いるのが好ましく、幅寸法を最低0
.05mm以上、皐ましくけ0.1mm以上に設定する
のかよい。 次ぎにエポキシ樹脂などの封止樹脂10て゛封止成形を
おこなうにあたっては、伝熱金属体6や半導体チップ4
を取り付けた絶縁基板1をモールド金型9内にセットし
、第1図に示すように止め枠8をモールド金型9の内面
に押さえ付けて密接させる。このようにセ・リドした状
態でモールド金型8内に封止樹脂10を射出等して注入
することによって、第2図に示すように伝熱金属体6の
側方において絶縁基板1の上面を封止樹脂10て封止す
るものである。ここで、止め枠8は線としてモールド金
型9の内面に当接されるために、止め枠8は全長に亙っ
てモールド金型9の内面に容易に密着させることができ
るものであり、この止め枠8で囲まれる伝熱金属体6の
表面に封止樹脂10が侵入することを止め枠8でせき止
めて完全に防てニとかできる。従って第2[J<a>(
b)に示すように、伝熱金属体6の表面が封止樹脂10
て被覆されるようなことがなくなり 伝熱金属体6の表
面の放熱面積やヒートシンク7との接な面積が小さくな
ったりすることがなくなるものである。また第1図及び
第2図の実施例では、絶縁基板1の下面においても半導
体チップ4を被覆するように封止樹脂10て封止をおこ
なうようにしてあり、さらに、絶縁基板1にその上下に
貫通する貫通孔14を設けて、貫通孔14内を通して絶
縁基板1の上面の封止樹脂10と絶縁基板1の下面の封
止樹脂10とが一体化されるようにしである。 尚、上記実施例では、絶縁基板1内に金属板2を埋設す
ると共に伝熱金属体6をこの金属板2に接合することに
よって絶縁基板]−に取り付けるようにしたが、第4図
や第5図に示すように、金属板2を用いずに伝熱金属体
6を絶縁基板1に直接取り付けるようにしてもよい。ま
た上記各実施例における半導体チップキャリアはPGA
タイプであるが、QFPタイプなどに形成することもて
きる。
上述力ように本発明にあっては、伝熱金属体め絶縁基板
より突出する表面の端縁に全周に亙って止め枠を突出し
て設け、この絶縁基板をモールド金型内にセントすると
共にモールド金型の内面に止め枠を密接させ、この状態
でモールド金型内に封止樹脂を注入するようにしたのて
、止め枠は線ヒして当接されることになって全長に互っ
てモールド金型の内面に容易に密着させることがてきる
ものであり、この止め枠で囲まれる伝熱金属体の表面に
封止樹脂が侵入することをせき止めることができ、封止
樹脂が伝熱金属体の表面とモールド金型の内面との間に
侵入して封止樹脂て伝熱金属体の表面が被覆されること
を防ぐことができるものである。
より突出する表面の端縁に全周に亙って止め枠を突出し
て設け、この絶縁基板をモールド金型内にセントすると
共にモールド金型の内面に止め枠を密接させ、この状態
でモールド金型内に封止樹脂を注入するようにしたのて
、止め枠は線ヒして当接されることになって全長に互っ
てモールド金型の内面に容易に密着させることがてきる
ものであり、この止め枠で囲まれる伝熱金属体の表面に
封止樹脂が侵入することをせき止めることができ、封止
樹脂が伝熱金属体の表面とモールド金型の内面との間に
侵入して封止樹脂て伝熱金属体の表面が被覆されること
を防ぐことができるものである。
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図(a)(b
)は同上によって製造された半導体チップキャリアの断
面図と平面図、第3図乃至第5図はそれぞれ伝熱余属体
七半導体千ツブを取り付けた絶縁基板の断面図、第6図
(a)(L))は同上刃伝熱金属体の拡大した断面図と
平面図 第7図は従来例の断面図、第8図(a Hb
>は同上によって製造された半導体チ・ツブキャリアの
断面図と平面図である。 1は絶縁基板、4は半導体チ・ツブ、5は放熱凹所、6
は伝熱金属体、8は止め枠 9はモールド金型、10は
封止樹脂である。
)は同上によって製造された半導体チップキャリアの断
面図と平面図、第3図乃至第5図はそれぞれ伝熱余属体
七半導体千ツブを取り付けた絶縁基板の断面図、第6図
(a)(L))は同上刃伝熱金属体の拡大した断面図と
平面図 第7図は従来例の断面図、第8図(a Hb
>は同上によって製造された半導体チ・ツブキャリアの
断面図と平面図である。 1は絶縁基板、4は半導体チ・ツブ、5は放熱凹所、6
は伝熱金属体、8は止め枠 9はモールド金型、10は
封止樹脂である。
Claims (1)
- (1)半導体チップが実装される絶縁基板に伝熱金属体
をその表面から突出するように設けると共に、伝熱金属
体の絶縁基板より突出する表面の端縁に全周に亙つて止
め枠を突出して設け、この絶縁基板をモールド金型内に
セットしてモールド金型の内面に止め枠を密接させ、モ
ールド金型内に封止樹脂を注入して絶縁基板の表面を樹
脂封止することを特徴とする半導体チップキャリアの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32675290A JPH0719786B2 (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 半導体チップキャリアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32675290A JPH0719786B2 (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 半導体チップキャリアの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04192532A true JPH04192532A (ja) | 1992-07-10 |
| JPH0719786B2 JPH0719786B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=18191292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32675290A Expired - Lifetime JPH0719786B2 (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 半導体チップキャリアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719786B2 (ja) |
-
1990
- 1990-11-27 JP JP32675290A patent/JPH0719786B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0719786B2 (ja) | 1995-03-06 |
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