JPH04205810A - Ｖｔｒの磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、ＶＴＲのビデオヘッドに係わり、特に、複数
のビデオヘッドを小径のシリンダに高い相対位置精度で
搭載でき、しかも該搭載時に取付は位置調整を容易に行
なうのに好適なビデオヘッドに関する。

［従来の技術］ ＶＴＲのビデオヘッドは、現状では単結晶フェライトを
使用したフェライトヘッドや、磁気ギャップ近傍に金属
磁性膜を使用した、いわゆるＭＩＧ　（ｍｅｔａ　ｌ　
　ｉｎ　　ｇａｐ）　ヘッドが一般的に製作されている
。これを第１４図ないし第１８図により説明する。第１
４図は従来のＶＴＲのビデオヘッドの一例を示す斜視図
、第１５図は第１４図に示すビデオヘッドをシリンダ上
の対称位置に２個搭載した状態を示す平面図、第１６図
は第１５図のＸＶＩ−ＸＶＩ断面図、第１７図および第
１８図は第１５図の“つ″部拡大図で、ビデオヘッドの
取付は位置調整説明図である。

第１４図において、３０はビデオヘッドチップ（以下、
ヘッドチップという）、３１はへラドチップ３０を接着
固定する金属製のビデオへラドベース（以下、ヘッドベ
ースという）で、ヘッドチップ３０の巻線用端子付きの
プリント配線基板３２を有している。３１ａはヘッドベ
ース３１取付は用の穴である。符号３０〜３２で構成さ
れるビデオヘッド３３は、複数個（本例の場合は２個）
が第１５図に示すように穴３１ａを介してシリンダ３４
上にそれぞれ止めねし３５等の固定手段により取り付け
られている。そして、通常、この取付けの際、第１５図
に示す相対するヘッドチップ３０．３０間の角度割り出
し量Ａ（ヘットチップ３０．３０間の回転方向の相対位
置）、第１６図に示すシリンダ３４の回転面３４ａから
各ヘッドチップ３０．３０までの高さＢ、Ｂ’の差ΔＢ
（ΔＢ＝Ｂ−Ｂ　’）＋第１７図に示す各ヘットチップ
３０，３０のシリンダ３４の外周面３４ｂからの突出量
Ｃおよび第１８図に示す各ヘットチップ３０．３０のシ
リンダ３４の回転方向の姿勢誤差θ（取付は角度の誤差
）等をそれぞれ調整している。これらの調整はミクロン
単位の精度で微調整される必要があり、上記例の場合に
は、シリンダ３４に穿設された取付は調整用のピン穴３
６を利用して個別に手動調整している。しかし、この調
整方法は、精度の点からも、また、長時間を必要とする
点からも実用的ではない問題点を有していた。

このため、調整時間を短縮する調整方法が提案されてい
る。その−例として、ＶＴＲヘッドのギャップ位置、お
よびＶＴＲヘッド前面の干渉縞の中心位置を、ガルバノ
ミラ−や光電子増倍管等を使用し、或いは撮像管で取り
出した像を画像処理して認識する認識手段と、該認識手
段の信号に基づき前記ＶＴＲヘッドを所定の位置に位置
決めするＸＹ運動および回転が可能な位置決め手段を有
し、該位置決め手段により前記ＶＴＲヘッドをＸ方向に
移動させたときのギャップ信号の大きさ、或いは干渉縞
信号の有無により、前記ＶＴＲヘッドの突出し量を調整
し、前記ギャップ位置の基準位置からの偏位量を前記認
識手段により検出し、その偏位量だけ前記位置決め手段
により前記ＶＴＲヘッドをＹ方向に移動させることによ
り割り出し調整を行い、前記干渉縞の中心位置の基準位
置から偏位量を前記認識手段により検出し、前記位置決
め手段により前記ＶＴＲヘッドを回転させることにより
回転方向の姿勢誤差θ（Ｒ合わせ）を行なう構成のもの
（例えば、特開昭５８−１３９３２６号公報）があり、
ＶＴＲヘッドの位置調整を自動化することによって調整
時間を短縮するとともに、ＶＴＲヘッドのシリンダへの
取付は精度を向上させることができるとするものである
。

一方、ＶＴＲは、従来の据置き型のほか、現在では装置
の小型軽量化を要求されるカメラ一体型のものも広く普
及されてきており、そのため、シリンダの小型化が急速
に進められ、従来約６０ｍあったシリンダ径が約３０ｍ
ｍないし２０ｍ８度まで小さくなっている。そして同時
に、機能面においても従来以上の高性能・多機能化が要
求されてきており、その対策の１つとじて一つのシリン
ダ上に前記従来例のように２個のみでなく、それ以上の
多数のビデオヘッドを搭載することが試みられている情
勢である。

［発明が解決しようとする課題］ 前記ＶＴＲヘッドの位置調整を自動化する調整方法にお
いては、調整時間を短縮するとともに、ＶＴＲヘッドの
シリンダへの取付は精度を向上させることができるもの
の、前記の如く、ＶＴＲヘッドの位置を認識するガルバ
ノミラ−や光電子増倍管等を使用した認識手段と、ＶＴ
Ｒヘッドを所定の位置に位置決めするｘｙ運動および回
転が可能な位置決め手段とを必要とし、装置が複雑にな
る問題点を有しており、さらに、従来のビデオヘッドを
シリンダに組付ける搭載方法においては、シリンダ径が
約３０ｍｎないし２０ｍ＋ｎ程度まで小さくなると、多
数のビデオヘッドを精度良く搭載することかスペース的
に困難になる。具体例として約４０ｎｗｎの径のシリン
ダ上に約６ｍｍ角ないし１０ｍ角のビデオヘッドを５個
搭載した例もあるが、ある程度数が増すとスペース的に
無理となり５、シリンダの小型化を図る上での基本的な
障害となる問題点を有していた。

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、シリンダ上に
多数のビデオヘッドを簡易に高精度位置決めすることが
でき、シリンダに対するビデオヘットの取付は調整時間
を短縮するとともに、シリンダを小型軽量化することが
可能なＶＴＲのビデオヘッドを提供することを目的とす
る。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、本発明は、シリンダに搭載さ
れるＶＴＲのビデオヘッドにおいて、複数のビデオヘッ
トが、前記シリンダに搭載可能に。

かつ基板の外周部に該基板と一体に形成される構成にし
たものである。

そして、前記基板の中心部に、位置決め用の基準となる
円形の貫通した穴を設けた構成にするとよい。

また、前記複数のビデオヘッドが、そのテープ摺動面を
、搭載すべきシリンダの外径に対して所定量だけプラス
した直径の範囲内の同一円周上に形成され、テープ摺動
面を該プラスした直径分だけ前記シリンダの外径より突
出させることが望ましく、さらに、前記複数のビデオヘ
ッドが、その磁気ギャップ近傍を搭載すべきシリンダの
外径より＋０．１ｍｎ〜＋２．Ｏｍｎの範囲内で同径に
形成され、磁気ギャップ近傍以外の部分を前記シリンダ
径より小径に形成することが望ましい。

［作用］ 上記のように構成したことにより、ビデオヘッドの形成
において、従来のようなヘッドベースを使用することな
く、同一基板上に該基板と一体に複数のビデオヘッドが
同時に形成されるから、形成された各ビデオヘッドの基
板上に占める面積割合は、従来のベツドチップ程度の微
小なものとなり、基板上に多数のビデオヘッドを形成す
ることが可能になるのは勿論、ビデオヘッドの数が増え
た場合でも前記基板の寸法を小径化することが可能にな
る。

そして、各ビデオヘットの基板との同時一体形成は、複
数のビデオヘッド間の各相対位置精度が一体形成時に高
精度に形成されることになり、さらに、該高精度に一体
形成された基板をシリンダに対して搭載することになる
から、シリンダ上におけるビデオヘッド間の各相対位置
決めは基板全体の位置決めをするだけで足り、従来、シ
リンダ搭載後に行なわれていた位置調整が不要になり、
ビデオへ、ラド間の各相対位置の決定が、高精度に、し
かも極めて容易に可能になる。

また、基板の中心部に設けた円形の貫通した穴は、基板
と同時一体に形成された各ビデオヘッドのテープ摺動面
を研削加工する場合の基準穴として使用され、該テープ
摺動面の加工精度をミクロン単位に可能にするほか、基
板をシリンダ上に搭載した際、シリンダ上面の中心部に
設けられている穴との間で同心度調整を行なう場合にも
使用され、この同心度調整により上記シリンダ上におけ
る基板全体の位置決めを容易に行なうことを可能にする
。

他方、前記基板と同時一体に形成された各ビデオヘッド
のテープ摺動面を、シリンダ外径より所定量だけ僅かに
突出させたことにより、該摺動面と磁気テープとの接触
が円滑になり接触効率を向上させることができる。また
、ビデオヘッドの磁気ギャップ近傍をシリンダ外径より
＋０．１ｍ〜＋２．０ｍｍの範囲内で大きく、かつ磁気
ギャップ近傍以外の部分をシリンダ径より小径に形成し
たことにより、上記と同様に、ビデオヘッドのテープ摺
動面と磁気テープとの接触を円滑にし接触効率を向上さ
せる。

［実施例］ 以下、本発明の一実施例を第１図ないし第１３図を参照
して説明する。第１図は基板と一体に同時形成されたビ
デオヘッドの平面図、第２図は第１図の″ア″部拡大斜
視図、第３図ないし第１３図は第１図に示すビデオヘッ
ドの形成プロセスの一例を示す説明図である。

第１図において、１は円形状の非磁性基板、２ａ、２ｂ
、３ａ、３ｂ、４ａ、４ｂ、５ａ、５ｂ（以下、２ａ等
という）は、後述する形成プロセスにより基板１の外周
部に等分に、かつ基板１と一体に同時に形成された各ビ
デオヘットで、ビデオヘッド２ａ等は、それぞれ近接し
た所定の間隔に異なるアジマス角度（例えば、＋６°と
一６°）に形成されたいわゆるダブルアジマスヘッドに
なっている。６は基板１上に形成されている保護膜、７
はビデオヘッド２ａ等に対応して設けられている端子板
、８は基板１をシリンダへ搭載する時の位置決め用の基
準となる円形の貫通した穴で、基板１の中心部に設けら
れている。六８は後述するように、ビデオヘッド２ａ等
のテープ摺動面を研削加工する場合の基準穴としても使
用される。９は基板１をシリンダへ搭載する時の取付は
穴である。

第２図は完成されたビデオヘッド部の構成例で、図中、
第１図と同符号のものは同じものを示す。

図において、１１は例えばＡｌ１ｋの薄膜で基板１上に
形成されている下地膜、１２　（１２ａ、１２ｂ）は下
地膜１１の上に形成された第１の磁性膜で、例えば、Ｃ
ｏ系のアモルファス金属磁性薄膜がスパッタリング等で
形成される。１３　（１３ａ、１３ｂ）は第１の磁性膜
１２と磁気キャップ２３ａおよび２３ｂを介して、第１
の磁性膜１２と同様にして形成された第２の磁性膜であ
る。１５は基板１を貫通している巻線用の穴、１６は隣
接するビデオヘッド４ａ、４ｂを仕切るための溝である
。

なお、溝１６は必ずしも設けなくてよい。

つぎに、第３図ないし第１３図により第１図に示すビデ
オヘッドの形成プロセスの一例を説明する。本例は直径
３０ｍのシリンダ上に第１図に示す４組のダブルアジマ
スヘッド（８個のビデオヘッド）を搭載する場合のもの
である。

第３図は基板１を示す斜視図で１本例の基板１は、直径
３２ｍ、厚さ２ｍｍの非磁性基板（例えば、Ｍ　ｎ　−
Ｎ　ｉ系酸化物基板で、熱膨張係数α＃１２０ＸＩＯ−
’のもの）が、予め平行度１μｍ以下に仕上げ加工され
、さらに基準用の穴８．取付は穴９および巻線用の穴１
５の下穴１５′等が超音波加工等の手段により所定の位
置に穿設されている。

基板１は、その上面に厚さ２μｍ〜５μｍ程度の下地膜
１１をスパッタリング等により形成した後、第４図（ａ
）、（ｂ）に示すように１巻線用の下穴１５′にＰＩＱ
　（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ　　Ｉｓ。

１ｎｄｏｌｏｑｕｉｎａｚｏｌｉｎｅｄｉｏｎｅ：ポリ
イミドイソイントロキナゾリンジオン）等の埋込材１７
が埋め込まれる。ここで、第４図（ｂ）は第４図（ａ）
のＩＶｂ−ＴＶｂ断面図である。ついで、第５図（ａ）
に示すように、下地膜１１上にＰＩＱ等のパターン材１
８により第１の磁性膜１２　（１２ａ、１２ｂ）および
第２の磁性膜１３（１３ａ、１３ｂ）を形成するための
パターン１９を所定の位置に形成する。第５図（ｂ）は
第５図（ａ）の″イ″部拡大図、第５図（ｃ）は第５図
（ｂ）のＶｃ−Ｖｃ断面図で、この両図に示すようにパ
ターン材１８の位置は、上記パターン１９形成時に、巻
線用の下穴１５′上の位置から外された位置になってい
る。つづいて、ＡＱ材等のパターン埋込材２０によりパ
ターン１９を埋め込んだ後、上面をラッピング等により
平坦化する。

そして、第６図（ａ）に示すように、図に斜線で示すパ
ターン１９の一部をプラズマエツチング等により除去し
、第６図（ａ）の■ｂ　−ＶＩ　ｂ断面図である第６図
（ｂ）に示すような形状にする。この除去した部分に例
えば、Ｃｏ系のアモルファス金属磁性膜からなる第１の
磁性膜１２をスパッタリング等により形成した後、その
上面をラッピング等により平坦化する。そして、第６図
（ａ）。

（ｂ）にパターン材１８で示されているパターン１９の
残りの部分を、第７図に示すようにプラズマエツチング
等により除去する。ここで、第７図（ｂ）は第７図（ａ
）の■ｂ−■ｂ断面図、第７図（Ｃ）は第７図（ａ）の
■Ｃ−■Ｃ断面図である。つぎに、第７図（ｃ）に示す
第１の磁性膜１２の一部を、図示しないダイヤモンドバ
イト等により加工して、第８図に示すような所定のアジ
マス角度に相当する傾斜の斜面２１ａ、２１ｂに形成し
、この上に磁気ギャップを形成するための絶４１！膜２
２を形成する。絶ｍ膜２２は、例えば、厚さ０．３μｍ
のＳｉＯ２膜からなっている。ついて、第９図に示すよ
うに、斜面２１ａ、２１ｂ間に再度例えば、ＣＯ系のア
モルファス金属鉱性膜からなる第２の磁性膜１３をスパ
ッタリング等により形成し、該上面をラッピング等によ
り平坦化する。

以上のプロセスを経て磁気キャップ２３ａ、２３ｂが形
成される。

次に、第１０図（ａ）および第１０図（ａ）のｘｂ−ｘ
ｂ断面図である第１０図（ｂ）に示すように、巻線用の
下穴１５′に埋め込まれていたＰＩＱ等の埋込材１７お
よびパターン埋込材２０を、超音波加工等により除去し
て巻線用の穴１５を再生する。そして、上面に、第１１
図（ａ）、（ｂ）に示すように、スパッタリング等でフ
ォルステライト等の保護膜６を、例えば約５０μｍの厚
さに形成する。ここで、第１１図（ｂ）は第１１図（ａ
）のＸＩｂ−Ｘ［ｂ断面図である。以上により非磁性基
板１上に８個のビデオヘットを形成することが可能とな
る。なお、上記下地膜１１から保護膜６までの膜は、前
記第１図に示すように基板１の中心から１例えば、直径
２０ｍｍの円より外側の面のみに形成される。

つづいて、前記第１１図までのプロセスにより基板１上
に形成された８個のビデオヘッドのテープ摺動面の形成
プロセス例を、第１２図および第１３図により説明する
。第１２図は摺動面の加工前後の形状を説明する第１０
図（ａ）に対応する部分平面図、第１３図は基板と一体
に同時に形成完了したビデオヘッドの全体斜視図である
。

第１２図において、ます、前記第３図に示す基準用の六
８を中心として、図に２点鎖ｇＳで示す基板１の外周部
を直径Ｄ□（例えば、Ｄ工＝３１ｍｍ）にて研削加工等
により加工する。つぎに、基板１の下地膜１１を形成し
た面から基板１を例えば０゜Ｏ５ｎｍ＋の厚さだけ残し
、この厚さ以外の他の基板１の部分を研削加工等により
除去する。ついて、基板１の各ビデオヘットの第９図に
示す磁気ギャップ２３ａ、２３ｂ近傍部（例えば、＠”
＝　２　ｗｎ　）のみを残し、他の基板１の外周部分を
六８を中心として直径Ｄ２（例えば、Ｄ２＝　２９．５
　ｍｍ）にて研削加工等により除去する。以上のプロセ
スにより第１３図に示すような８個のビデオヘッドのテ
ープ摺動面が基板１上に形成される。そして、この後、
前記第１図に示す端子板７を、ビデオヘット２８等の内
周側の基板１上に接着し、第２図に示す隣接した各ビデ
オヘッド間を仕切る溝１６を、例えば、幅約０．ｌｒｍ
に加工して製作を完了する。

なお、溝１６は必ずしも設けなくてよい。

前述したように本発明に係わるビデオヘッドは、従来の
ようなヘッドベースを使用することなく、同一基板１上
に、リソグラフィー工程とダイヤモンドバイトによる磁
気ギャップ面加工とにより、基板１と一体に複数（本例
の場合は８個）のビデオヘッドが同時に形成されるから
、形成されたビデオヘッド２８等の基板１上に占める面
積割合は、前記第１４図に示す従来のヘッドチップ３０
程度の微小なものとなり、基板１上に多数のビデオヘッ
ド２８等を形成することが可能になるのは勿論、ビデオ
ヘッド２８等の数が増えた場合でも前記基板１の寸法を
小径化することが可能になる。

そして、ビデオヘッド２ａ等の基板１との同時一体形成
は、前述したビデオヘッド２８等間の角度割り出し量、
シリンダ外周面からの突出量等の各種相対位置関係が、
ミクロン単位で高精度に形成されることになり、さらに
、該高精度に一体形成された基板１をシリンダに対して
搭載することになるから、シリンダ上におけるビデオヘ
ッド２ａ等間の各相対位置決めは基板１全体の位置決め
をするだけで足り、従来、シリンダ搭載後に行なわれて
いた位置調整が不要になり、ビデオヘッド２ａ等間の各
相対位置の決定が、高精度に、しかも極めて容易に可能
になる。

また、基板１の中心部に設けた円形の貫通した穴８は、
基板１と同時一体に形成されたビデオヘッド２ａ等の各
テープ摺動面を同時に研削加工する場合の基準穴として
使用され、該各テープ摺動面の加工をミクロン単位の高
精度に可能にするほか、基板１をシリンダ上に搭載した
際、シリンダ上面の中心部に設けられている穴との間で
同心度調整を行なう場合にも使用され、この同心度調整
により上記シリンダ上における基板１全体の位置決めを
容易に行なうことを可能にする。

他方、前記基板１と同時一体に形成されたビデオヘット
２８等のテープ摺動面を、シリンダ外径より所定量だけ
僅かに突出させたことにより、該摺動面と磁気テープと
の接触が円滑になり接触効率を向上させることができる
。また、ビデオヘッド２８等の磁気ギャップ２３ａ、２
３ｂ近傍をシリンダ外径より＋０．１　ｍｍ〜＋　２．
０　ｍｍの範囲内で大きく、かつ磁気ギャップ２３ａ、
２３ｂ近傍以外の部分をシリンダ外径より小径に形成し
たことにより、上記と同様に、ビデオヘッド２８等のテ
ープ摺動面と磁気テープとの接触を円滑にし接触効率を
向上させることができる。

なお、上記実施例においては、ダブルアジマスヘッドを
４組、すなわち合計８個のビデオヘッドの形成プロセス
について説明したが、従来のシングルアジマスヘッドに
ついても同様にして形成可能なことは勿論であり、また
、巻線型のビデオヘットの例について説明したか、巻線
もリソクラフィー工程を使用した、いわゆる薄膜ヘッド
の場合についても同様に製作することができるのは勿論
である。ただし、この場合には巻線用の穴１５は当然不
要になる。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明は、シリンダ上に多数のビデ
オヘットを、簡易に、かつミクロン単位の高精度に位置
決めすることができ、シリンダに対するビデオヘットの
取付は調整時間を従来に比べて大幅に短縮するとともに
、該ビデオヘッドを搭載するシリンダを小型軽量化する
ことができる顕著な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第１３図は本発明の一実施例の説明図で、
第１図は基板と一体に同時形成されたビデオヘッドの平
面図、第２図は第１図の″ア″部拡大斜視図、第３図は
基板１を示す斜視図、第４図は基板に下地膜の形成と埋
込材の埋め込みとを行なった状態を示す図で、第４図（
ｂ）は第４図（ａ）のｒＶｂ−ＩＶｂ断面図、第５図は
磁性膜を形成するためのパターン形成の説明図で、第５
図（ｂ）は第５図（ａ）のパイ″部拡犬回、第５図（ｃ
）は第５図（ｂ）のＶｃ−Ｖｃ断面図、第６図は第５図
の次のプロセスを示す図で、第６図（ｂ）は第６図（ａ
）のＶＴ　ｂ　−ＶＴ　ｂ断面図、第７図は第１の磁性
膜の形成プロセスを示す図で、第７図（ｂ）は第７図（
ａ）の■ｂ−■ｂ断面図、第７図（Ｃ）は第７図（ａ）
の■Ｃ−■Ｃ断面図、第８図はアジマス角度に相当する
傾斜の斜面形成を示す図、第９図は第２の磁性膜と磁気
ギャップとの形成を示す図、第１０図は巻線用の穴の再
生を示す図で、第１０図（ｂ）は第１０図（ａ）のｘｂ
−ｘｂ断面図、第１１図は保護膜６の形成を示す図で、
第１１図（ｂ）は第１１図（ａ）の尺ｂ−ｘｔｂ断面図
、第１２図は摺動面の加工前後の形状説明用の部分平面
図、第１３図は基板と一体に同時に形成完了したビデオ
ヘッドの全体斜視図である。 第１４図は従来のＶＴＲのビデオヘッドの一例を示す斜
視図、第１５図は第１４図に示すビデオヘットをシリン
ダ上の対称位置に２個搭載した状態を示す平面図、第１
６図は第１５図のＸＶＩ−Ｘ■断面図、第１７図および
第１８図は第１５図の′つ″部拡大図である。 １・・基板、２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂ、４ａ、４ｂ、５
ａ、５ｂ・・・ビデオヘッド、６・・・保す膜、８・・
・基準用の穴、１１・・・下地膜、１２ａ、１２ｂ・・
・第１の磁性膜、１３ａ、１３ｂ・・・第２の磁性膜、
１５・・・巻線用の穴、１５電・・巻線用の穴の下穴、
１７・・・埋込材、１８・・パターン材、１９・・・パ
ターン、２０・・・パターン埋込材、２２・・・絶縁膜
、２３ａ、２３ｂ・・・磁気ギャップ、３０・・・ビデ
オへラドチップ、３１・・・ビデオへラドベース、３２
・・・プリント配線基板、３３・・・ビデオヘッド、３
４・・・シリンダ。 特許出願人　株式会社日立製作所 代理人弁理士　秋　　本　　正　　実 第１図 ８−一一欠 第３図 第４図 第５図 （Ｑ） （ｂ） （ｃ） （Ｃ） 第８図 第１０図 （ａ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（ｂ）第１１図 第１２図 第１４図 第１５図 第１６図 ３４ａ　３４ｂ 第１７図 手続補正書（自発） 平成３年３月　５日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、シリンダに搭載されるＶＴＲのビデオヘッドにおい
   て、複数のビデオヘッドが、前記シリンダに搭載可能に
   、かつ基板の外周部に該基板と一体に形成されたことを
   特徴とするＶＴＲのビデオヘッド。 ２、前記基板の中心部に、位置決め用の基準となる円形
   の貫通した穴を設けてなる請求項１記載のＶＴＲのビデ
   オヘッド。 ３、前記複数のビデオヘッドが、そのテープ摺動面を搭
   載すべきシリンダの外径に対して、所定量だけプラスし
   た直径の範囲内の同一円周上に形成され、テープ摺動面
   を該プラスした直径分だけ前記シリンダの外径より突出
   させた請求項１または２記載のＶＴＲのビデオヘッド。 ４、前記複数のビデオヘッドが、その磁気ギャップ近傍
   を搭載すべきシリンダの外径より＋０．１ｍｍ〜＋２．
   ０ｍｍの範囲内で同径に形成され、磁気ギャップ近傍以
   外の部分を前記シリンダ径より小径に形成されてなる請
   求項１、２または３記載のＶＴＲのビデオヘッド。