JPH0420753Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の技術分野〕 本考案はレジスト溶液供給装置に係り、特に、
レジスト溶液専用容器に収容されているレジスト
溶液をウエハー回転機構により回転されている集
積回路を形成するためのウエハーまで供給し、該
ウエハー上に滴下塗布するレジスト溶液供給装置
に関するものである。

〔従来の技術〕

IC、LSI等の集積回路の製造行程において、ウ
エハーには１回あるいは複数回の感光処理が施さ
れ、所望の回路が形成されていることは周知の通
りである。この製造工程における感光処理に際し
ては、レジスト溶液がウエハー上に塗布されて所
望厚のレジスト層が形成される。ウエハー上に塗
布するためウエハーまで供給するレジスト溶液は
一般に専用容器に収容されていて、変質を極力阻
止するように管理される。

専用容器として、従来はガラスビンにスクリユ
ーキヤツプを取り付けたもの、あるいはステンレ
スのキヤニスターが用いられている。これらの容
器からレジスト溶液を取り出してウエハーまで供
給し、該ウエハー上に塗布するレジスト溶液供給
装置としては、第７図、第８図に示すようなもの
が利用される。

第７図のレジスト溶液供給装置は、容器１内か
らベローズポンプ２によりレジスト溶液３を排出
させ、これをエアオペ４、サツクバツク５を介し
てウエハー回転機構Ｒによつて回転されているウ
エハー６上に滴下塗布するものである。この際容
器１内にはレジスト溶液３の減少による内圧降下
と、レジスト溶液３の変質を阻止するため例えば
N₂ガスの如き不活性ガス７が供給される。

第８図のレジスト溶液供給装置は、容器１内に
外部から加圧した不活性ガス７を注入し、この圧
力によりレジスト溶液３をエアオペ４、サツクバ
ツク５を介してウエハー６まで供給してその上に
滴下塗布するものである。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかし乍ら、上記の装置では、いずれも容器１
内に不活性ガスを注入することから、レジスト溶
液３中の溶媒が蒸発して、溶液３の粘度が変化す
る。この粘度変化はレジスト塗布後の仕上り膜厚
を不安定なものとし、集積回路の製造に支障をき
たすおそれがある。

本考案は、上記の点に鑑みて成されたもので、
ウエハーへ供給して塗布するレジスト溶液を変質
させることなく供給することのできるレジスト溶
液供給装置を提供することを目的としている。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため本考案により成された
レジスト溶液供給装置は、レジスト溶液専用容器
に収容されているレジスト溶液をウエハー回転機
構により回転されている集積回路を形成するため
のウエハーまで供給し、該ウエハー上に滴下塗布
するレジスト溶液供給装置において、前記レジス
ト溶液専用容器がポリプロピレン、ポリエチレ
ン、テフロン等の耐食性合成樹脂材料により予め
折り目が付けられて形成され、前記レジスト溶液
専用容器に連通したポンプによるその内圧の減少
により、あるいは前記レジスト溶液専用容器を収
容した加圧容器によるその外圧の上昇により前記
折り目が折れて前記レジスト溶液専用容器の内容
積が減少し、該内容積の減少により前記レジスト
溶液専用容器が内部のレジスト溶液を排出し、該
排出したレジスト溶液を前記ウエハーまで供給す
るようにしたことを特徴としている。

また、好ましい実施例では、前記レジスト溶液
専用容器が内部のレジスト溶液に光が入射するの
を阻止するアルミニウムフイルム等の遮光膜を有
することを特徴としている。

〔作用〕

上記構成により、集積回路を形成するためのウ
エハーまで供給してその上に滴下塗布するレジス
ト溶液を収容するレジスト溶液専用容器が、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、テフロン等の耐食性
合成樹脂材料により予め折り目が付けられて形成
されている。このレジスト溶液専用容器は、これ
に連通したポンプによるその内圧の減少により、
あるいはこれを収容した加圧容器によるその外圧
の上昇により、上記折り目で折れてその内容積が
減少する。そして、この内容積の減少によりレジ
スト溶液専用容器内部のレジスト溶液が排出され
てウエハーまで供給されるようになつているの
で、レジスト溶液専用容器内のレジスト溶液はウ
エハーまで供給されてその上に滴下塗布されるさ
れるまで任意のガスから遮断された状態に保持さ
れる。

〔実施例〕

第１図は本考案のレジスト溶液供給装置に使用
されるレジスト溶液専用容器の一実施例を示す概
観図で、容器１は上方を曲面とし、中間部及び下
部を直方体形状としたもので、両側面１ａには縦
方向の折り目１ｂと、この折り目１ｂと連らなる
斜め方向の折り目１ｃとを備えている。従つて、
容器１の外周部より圧力が加わると、折り目１
ｂ，１ｃはいずれも内方に折れ曲るから、容器１
の内容積は減少する。尚、容器１の上部には接続
口１ｄが一体に設けられている。

第２図はこの容器１をレジスト塗布ラインに接
続した状態を示しており、容器１内のレジスト溶
液３はベローズポンプ２により引き上げられ、エ
アオペ４、サツクバツク５を介して上はウエハー
回転機構Ｒを構成するチヤツク上で回転している
ウエハー６上に滴下される。レジスト液３の減少
により容器１内は減圧されるが、大気圧によつて
折り目１ｂ，１ｃが押圧されて内方に折り曲げら
れるため、容器１内の内容積が減少し、これによ
り容器１内は所定の圧力に保持される。

第３図は上記容器１を他の加圧容器８内に配
し、加圧容器８内には加圧用の不活性ガス７を注
入し、不活性ガス７の圧力により容器１内のレジ
スト溶液３をウエハー６上に供給するようにした
ものである。

第４図、第５図、第６図は、容器１に接続口１
ｄを後行程にて取り付けるようにした例を示して
おり、容器本体１には、内面にプロテクタ９が貼
着されており、その上部には第６図に示す形上の
口金１０が取り付けられている。この口金１０は
一対の円弧状部品からなり、テーパ状のガイド部
１０ａと、ガイド部１０ａの終端部に設けられた
段状のロツク部１０ｂとを一対有している。

この口金１０に係止される連結具１１は第６図
に示すようであり、中央に導入孔１１ａを備えた
針１１ｂと、両側にボス１１ｃを形成した留金部
１１ｄと、外周に凹凸を設けたクランプ部１１ｅ
とを有し、第５図に示すようにクランプ部１１ｅ
の外周にはテフロン管１２が装着され、クランプ
部材１３によつてテフロン管１２と隙間なく接続
される。尚１４は容器１上面と圧接するＯリング
である。

従つて、容器１はレジスト溶液を収容した状態
で製造工程ラインから別途に保管することがで
き、使用時には予めクランプ部材１３によりテフ
ロン管１２を連結具１１に装着しておき、連結具
１１の針１１ｂを容器１に刺し、口金１０のロツ
ク部１０ｂにガイド部１０ａを経て連結具１１の
ボス１１ｃを装着することにより、容易に製造工
程ラインに設置することができる。

なお、プロテクタ９は針１１ｂを刺し込む際に
容器１を保護するものであるが、これは省略する
ことも可能である。この場合、口金１０を容器１
と一体に形成することもできる。

また、上記実施例では、容器１は着色合成樹脂
材のみで形成したが、アルミニウムフイルム等の
遮光性の薄膜を外表面にコーテイングするか、又
はサンドイツチした材料を使用すれば、容器１内
のレジスト溶液は遮光され、レジスト溶液の劣化
をより防止できる。

更に、容器１の形状は、折れ目が形成されてい
れば断面長方形、楕円形等種々変形したものを用
いることができるのは当然である。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案によれば、ポリプロ
ピレン、ポリエチレン、テフロン等の耐食性合成
樹脂材料により予め折り目が付けられて形成され
たレジスト溶液専用容器を使用し、これに連通し
たポンプによるその内圧の減少により、あるいは
これを収容した加圧容器によるその外圧の上昇に
より、容器を上記折り目で折つてその内容積を減
少することにより、その内部のレジスト溶液を排
出してウエハーまで供給するようになつていて、
レジスト溶液はウエハーまで供給されてその上に
滴下塗布されるまで任意のガスから遮断された状
態に保持されるので、ウエハーに塗布されるレジ
スト溶液の変質を抑制することができ、ウエハー
へのレジスト溶液の塗布を常に精度良く行うこと
ができるようになる。

また、好ましい実施例では、レジスト溶液専用
容器が内容のレジスト溶液に光が入射するのを阻
止するアルミニウムフイルム等の遮光膜を有する
ので、光によるレジスト溶液の劣化も簡単に防止
できるようになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案のレジスト溶液供給装置に使用
するレジスト溶液専用容器の一実施例を示す外観
図、第２図は第１図の容器を使用した本考案によ
るレジスト溶液供給装置の一実施例を示す説明
図、第３図は他の実施例を示す説明図、第４図は
第１図の容器の一部分変形例を示す外観図、第５
図は第４図の実施例に用いられる口金部分の断面
図、第６図は第４，５図における連結具及び口金
の斜視図、第７図、第８図はそれぞれ従来のレジ
スト溶液供給装置の例を示す説明図である。 １……容器、１ｂ，１ｃ……折り目、２……ポ
ンプ（ベローズポンプ）、６……ウエハー、８…
…加圧容器、Ｒ……ウエハー回転機構。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) レジスト溶液専用容器に収容されているレジ
   スト溶液をウエハー回転機構により回転されて
   いる集積回路を形成するためのウエハーまで供
   給し、該ウエハー上に滴下塗布するレジスト溶
   液供給装置において、 前記レジスト溶液専用容器がポリプロピレ
   ン、ポリエチレン、テフロン等の耐食性合成樹
   脂材料により予め折り目が付けられて形成さ
   れ、 前記レジスト溶液専用容器に連通したポンプ
   によるその内圧の減少により、あるいは前記レ
   ジスト溶液専用容器を収容した加圧容器による
   その外圧の上昇により前記折り目が折れて前記
   レジスト溶液専用容器の内容積が減少し、 該内容積の減少により前記レジスト溶液専用
   容器が内部のレジスト溶液を排出し、該排出し
   たレジスト溶液を前記ウエハーまで供給するよ
   うにした ことを特徴とするレジスト溶液供給装置。 (2) 前記レジスト溶液専用容器が内部のレジスト
   溶液に光が入射するのを阻止するアルミニウム
   フイルム等の遮光膜を有する ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１
   項記載のレジスト溶液供給装置。