JPH04225355A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は感光性樹脂組成物及びこ
れを用いた感光性エレメントに関する。更に詳しくは印
刷配線板製造、金属精密加工等に使用し得る優れた解像
度を有する保護膜形成用の感光性樹脂組成物及び該組成
物の層と該層を支持体フィルムとからなる感光性エレメ
ントに関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷配線板製造、金属精密加工の分野に
おいて、エッチング、めっき等によって基材を変性する
際にレジスト材料として感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントを用いることは良く知られており
、感光性エレメントとしては支持体上に実質的に感光性
樹脂組成物の層が設けられたものが広く使用されている
。

【０００３】このような感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントとしては、現像時に、未露光部が
１，１，１−トリクロルエタン等の有機溶剤によって除
去される所謂溶剤現像型のものと、アルカリ水溶液によ
って除去される所謂アルカリ現像型のものとが知られて
おり、このうち後者のアルカリ現像型のものは、現像液
の安全性及び経済性に優れるため、最近、注目を集めて
いる。

【０００４】従来、アルカリ現像可能な感光性エレメン
ト用感光性樹脂組成物としては、少なくとも１個の末端
エチレン基を含有する化合物、希アルカリ水溶液に可溶
なカルボキシル基含有高分子結合剤、光重合開始剤等を
含有する組成物（特開昭４７−１７８８６号公報、特開
昭５０−１４７３２３号公報、特開昭５８−１１４２号
公報等）が良く知られている。

【０００５】また特開昭６１−２４３８６９号公報には
、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸と
の反応物と多塩基酸無水物とを反応させて得られるカル
ボキシル基含有エポキシアクリレート、希釈剤、光重合
開始剤等を含有するレジストインキ組成物が提案されて
いる。

【０００６】しかし、これらの感光性樹脂組成物は密着
性、解像性等の特性が必ずしも充分ではなく、例えば、
エッチング、めっき等により、厚さ５０μｍ、ライン幅
６０μｍ、スペース幅６０μｍ等の微細な配線パターン
を形成することは困難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
欠点を除去し、安全性及び経済性に優れたアルカリ水溶
液により現像でき、かつ解像度、密着性、耐エッチング
性、耐めっき性等に優れたフォトレジストを形成するこ
とのできる感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エ
レメントを提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）１分子
中に少なくとも１個のエポキシ基を有するエポキシ化合
物と１分子中に１個のアミノ基と少なくとも１個の水酸
基を有する化合物との付加反応物に飽和又は不飽和の多
塩基酸無水物及び不飽和基を有するモノインソシアナー
トを反応させて得られるアルカリ水溶液に可溶性である
プレポリマー及び（ｂ）活性光線の照射により遊離ラジ
カルを生成する増感剤及び／又は増感系を含有してなる
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメントに
関する。本発明の提案する感光性樹脂組成物について以
下に詳細に説明する。

【０００９】本発明の提案する感光性樹脂組成物は、（
ａ）１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を有するエ
ポキシ化合物と１分子中に１個のアミノ基と少なくとも
１個の水酸基を有する化合物との付加反応物に飽和又は
不飽和の多塩基酸無水物及び不飽和基を有するモノイン
ソシアナートを反応させて得られるアルカリ水溶液に可
溶性であるプレポリマーを必須成分として含有する。

【００１０】本発明において用いられる１分子中に少な
くとも１個のエポキシ基を含有するエポキシ化合物とし
ては、例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン
とを反応させて得られるビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂（例えばシェル化学製エピコート８１２、エピコート
８２８、エピコート１００１等）臭素化ビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂（例えば東都化成（株）製エピトート
ＹＤＢ−３４０、ＹＤＢ−４００等）、ビスフェノール
Ｆ型エポキシ樹脂（例えば東都化成（株）製エポトート
ＹＤＦ−１７０、ＹＤＦ−１９０等）、ビスフェノール
Ａにアルキレンオキサイドを付加した後エピクロルヒド
リンを反応させて得られるエポキシ化合物（例えば共栄
社油脂（株）製エポライト３００２等）、水添ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂（例えば東都化成（株）製サン
トートＳＴ−１０００、ＳＴ−３０００等）、脂環式エ
ポキシ化合物（例えばチッソ（株）製チッソノックス２
２１、チッソノックス２０１等）、フタル酸等のジカル
ボン酸とエピクロルヒドリンとの反応により得られるグ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂（例えば昭和電工（株
）製ショウダイン５０８、ショウダイン５４０、ショウ
ダイン５５０）等が挙げられる。

【００１１】１分子中に１個のアミノ基と少なくとも１
個の水酸基を有する化合物としては、例えばジエタノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン等のアルカノール
アミンが挙げられる。

【００１２】１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を
有するエポキシ化合物と１分子中に１個のアミノ基と少
なくとも１個の水酸基を有する化合物との付加反応は次
の式（Ｉ）に示すようであり、アミン当量／エポキシ当
量比が０．５〜２の範囲で常法により行われる。アミン
当量／エポキシ当量比が０．５未満では、多塩基酸無水
物で変性する際にゲルを生じやすく、またアミン当量／
エポキシ当量比が２を超える場合には、フィルム形成性
、密着性等の特性が低下する傾向がある。

【化１】

【００１３】１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を
有するエポキシ化合物と１分子中に１個のアミノ基と少
なくとも１個の水酸基を有する化合物との付加反応物は
、例えば、反応溶媒としてＮメチルピロリドンを用い、
室温〜１２０℃で前記エポキシ化合物と前記アミノ基を
有する化合物とを撹拌反応させることにより得ることが
できる。

【００１４】前記付加反応物に反応させる飽和又は不飽
和の多塩基酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、
無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸
、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水メチル２置換
ブテニルテトラヒドロフタル酸、無水イタコン酸、無水
コハク酸、無水シトラコン酸、無水アルケニル酸、無水
ドデセニルコハク酸、無水トリカルバリル酸、無水マレ
イン酸、無水マレイン酸のリノレイン酸付加物、無水ク
ロレンディック酸、メチルシクロペンタジエンの無水マ
レイン酸付加物、無水アルキル化エンドアルキレンテト
ラヒドロフタル酸を挙げることができる。

【００１５】本発明において、これらの多塩基酸無水物
と前記付加反応物との反応は、アルカリ水溶液による現
像性および光硬化膜の膨潤性の点から酸当量／付加反応
物の水酸基当量比を０．６〜１．６の範囲として常法に
より行うことが好ましい。なお、ここでの酸当量につい
ては、例えば、多塩基酸無水物である無水フタル酸は、
２価の酸として扱い、１モルが２当量と考える（反応で
は、一つのカルボキシル基が反応してエステル化し、も
う一つのカルボキシル基は反応せずに残存した、いわゆ
るハーフエステルができる）。

【００１６】前記付加反応物に反応させる不飽和基を有
するモノイソシアナートとしては、例えば、イソシアナ
ートエチルメタクリレート、イソシアナートエチルアク
リレート等を挙げることができる。またトリレンジイソ
シアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナート等のジイソシアナート１モルと２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート等の１分子中に１個の
水酸基を有する（メタ）アクリレート１〜１．２モルを
反応させて得られる化合物等も使用することができる。

【００１７】本発明において、これらのモノイソシアナ
ートと前記付加反応物との反応は、イソシアナート当量
／付加反応物の水酸基当量比０．１〜１の範囲で常法に
より行うことが好ましい。イソシアナート当量／水酸基
当量比が０．１未満の場合には光硬化性が低下する傾向
がある。またイソシアナート当量／水酸基当量比が１を
越えると、光硬化膜の可撓性等の特性が低下する。

【００１８】付加反応物に飽和又は不飽和の多塩基酸無
水物（前者）及び不飽和基を有するモノイソシアナート
（後者）を反応させる際、■前者と後者を同時に反応さ
せてもよいし、また■まず、前者を反応させて、ついで
、後者を反応させてもよいし、また■まず、後者を反応
させて、ついで、前者を反応させてもよい。■、■の方
法が好ましい。

【００１９】本発明の感光性樹脂組成物は、活性光線の
照射により遊離ラジカルを生成する増感剤及び／又は増
感剤系を必須成分（ｂ）として含有する。増感剤として
は、例えば、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチ
ルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，
２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアント
ラキノン等の置換又は非置換の多核キノン類、α，α−
ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、α，α−ジ
エトキシアセトフェノン等のケタール類、１−フェニル
−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシ
ム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ
−エトキシカルボニル）オキシム等のオキシムエステル
類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエ
ーテル等のベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン、４
，４´−ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等の芳香
族ケトン類、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−
イソプロピルチオキサントン、２−エチルチオキサント
ン等のチオキサントン類、２−メチル−１−〔４−（メ
チルチオ）フェニル〕−２−モノホリノープロパノン−
１が用いられ、これらは単独でも組み合わせて用いても
よい。

【００２０】増感剤としては、例えば、２，４，５−ト
リアリルイミダゾール二量体と２−メルカプトベンゾキ
サゾール、ロイコクリスタルバイオレット、トリス（４
−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン等との
組み合わせが用いられる。また、それ自体で光開始性は
ないが、前記物質と組み合わせて用いることにより、全
体として光開始性能のより良好な増感剤系となるような
添加剤、例えば、ベンゾフェノンに対するトリエタノー
ルアミン等の三級アミン、チオキサントン類に対するジ
メチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ−メチルジエタノ
ールアミン、ビスエチルアミノベンゾフェノンなどを用
いることもできる。

【００２１】本発明の感光性樹脂組成物は（ａ）プレポ
リマー１００重量部に対して（ｂ）増感剤及び／又は増
感剤系を０．１〜３０重量部の範囲で用いることが、解
像性、密着性に優れたフォトレジスト像を形成する上で
も好ましい。

【００２２】本発明の感光性樹脂組成物は上記（ａ）プ
レポリマーに加えて他の不飽和化合物を含有しても良い
。他の不飽和化合物としては、例えば、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート（エチレン基の数が５〜
２０のもの）、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート（プロピレンの数２〜２０のもの）、２−２´ビ
ス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパ
ン（エチレン基の数が２〜２０のもの）、２，２´ビス
（４アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン（エ
チレン基の数が２〜２０のもの）、β−メタクリロイル
オキシエチル−γ−クロル−β−ヒドロキシプロピル−
ｏ−フタレート等を用いることができる。

【００２３】さらに、本発明の感光性樹脂組成物は、他
の副次的成分を含有しても良い。副次的成分としては、
例えば、熱重合禁止剤、染料、イーメージング剤、塗工
性向上剤、密着性向上剤、可塑剤、高分子結合剤等が挙
げられる。

【００２４】次に本発明の提案する感光性エレメントに
ついて以下に詳細に説明する。本発明の提案する感光性
エレメントは支持体フィルム上に上記で詳細に説明した
感光性樹脂組成物の層を形成することにより得られる。 支持体フィルム上への感光性樹脂組成物の層の形成は常
法により行うことができる。たとえば感光性樹脂組成物
をメチルエチルケトン、塩化メチレン、メチルセロソル
ブアセテート、カルビトールアセテート、シクロヘキサ
ノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の有
機溶剤に均一に溶解させ、この溶液を該支持体フィルム
上にナイフコート法、ロールコート法等で塗布し、乾燥
して行われる。感光層中の残存溶剤量は特性保持のため
に２重量％以下におさえることが好ましく、１重量％以
下におさえることが特に好ましい。

【００２５】本発明により得られる支持体フィルムは感
光性エレメントの製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有
していることが好ましい。使用できる支持体フィルムの
例としては、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィル
ム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリスチレンフィルム等公知のフィルムを挙げるこ
とができる。長尺の感光性エレメントを製造する場合は
、製造の最終段階で該エレメントをロール状に巻き取る
。この場合感光性樹脂組成物の層の支持体フィルム背面
への転着を防ぎ、更に塵の付着を防ぐ目的で、該エレメ
ントの感光性樹脂組成物の層上に剥離可能なカバーフィ
ルムを積層することが好ましい。剥離可能なカバーフィ
ルムの例としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、テフロンフィルム、表面処理をした紙等
があり、カバーフィルムを剥離するときに感光性樹脂組
成物の層と支持体フィルムとの接着力よりも、感光性樹
脂組成物の層とカバーフィルムとの接着力がより小さい
ものであればよい。

【００２６】本発明の感光性エレメントを構成する感光
性樹脂組成物の層の厚さは、通常の厚さとされ、特に制
限はなく、１０〜１００μｍが適当であり、好ましくは
２０〜６０μｍである。

【００２７】次に、本発明の提案する感光性エレメント
の使用方法の例について説明する。本発明の提案する感
光性エレメントの基板上への積層は容易である。すなわ
ち、カバーフィルムのない場合はそのまま、カバーフィ
ルムのある場合はカバーフィルムを剥離して又は剥離し
ながら、加熱・加圧積層する。加熱・加圧積層は印刷配
線板製造業者では周知の常圧ラミネータ、真空ミネータ
等を用いて行うことができる。

【００２８】積層後の露光および現像処理は常法により
行い得る。すなわち、支持体フィルムが活性光に不透明
である場合は支持体フィルムを剥離した後、高圧水銀灯
、超高圧水銀灯等の光源を用い、ネガマスクを通して像
的に露光する。透明フィルムが残っている場合には、こ
れを剥離した後、現像する。

【００２９】現像処理に用いられる現像液としては、ア
ルカリ水溶液が用いられ、その塩基としては、リン酸ナ
トリウム、リン酸カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、
炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩等が例示でき、
特に炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。

【００３０】上記の方法で得られた像的な保護被膜は、
通常のエッチング、めっき等のためのレジストとなる。 このレジストはエッチング又はめっき処理後、現像液よ
りも強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。強
アルカリ性の水溶液としては、例えば２〜１０重量の水
酸化ナトリウム水溶液等が用いられる。

【００３１】また、本発明の提案する感光性樹脂組成物
の溶液をデップコート法、フローコート法、ロールコー
ト法、静電スプレー法、スクリーン印刷法等で基板に直
接塗布し、溶剤乾燥後、直接あるいはポリエステルフィ
ルム等の活性光に透明なフィルムを積層後、前記の感光
性エレメントの場合と同様にして、ネガマスクを通して
像的に露光し、現像し、さらに加熱処理および活性光の
露光をすることによっても前記と同様に特性の優れた保
護被膜が得られる。

【００３２】

【実施例】次に実施例によって本発明を説明する。以下
例中「部」とあるのは「重量部」を意味する。 実施例１ （ａ）プレポリマーの合成 Ａ　　エピコート８２８（シェル社製ビスフェノールＡ
系エポキシ樹脂、エポキシ　　　　当量１９０）　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２２８部　　
　　Ｎメチルピロリドン　　　　　　　　　　　　　　
　　　　６０部　　　　カルビトールアセテート　　　
　　　　　　　　　１４０部Ｂ　　モノエタノールアミ
ン　　　　　　　　　　　　　　　　４８．８部Ｃ　　
テトラヒドロ無水フタル酸　　　　　　　　　　１２１
．６部Ｄ　　イソシアナートエチルメタクリレート　　
３１部温度計、撹拌装置、冷却管及び滴下器の付いた加
熱及び冷却可能な１ｌの反応器に前記Ａを加え、均一に
溶解させた後、反応温度を４５℃に保ちながら、３時間
かけてＢを滴下した。Ｂの滴下後、６時間かけて１２０
℃に昇温し、１２０℃で２時間撹拌を続けた。次いで温
度を６５℃に低下させ、Ｃを添加した。Ｃ添加後、６５
℃で１０時間撹拌を続けた。次に反応温度を６５℃に保
ちながら約３時間かけて均一にＤを滴下した。Ｄ滴下後
６５℃で５時間撹拌を続けた。こうして不揮発分７８％
のビスフェノールＡ系エポキシ樹脂／モノエタノールア
ミン／テトラヒドロ無水フタル酸／イソシアナートエチ
ルメタクリレート系プレポリマの溶液を得た。このプレ
ポリマのアミン当量／エポキシ当量比は１．３３、酸当
量／付加反応物の水酸基当量比は０．８、イソシアナー
ト当量／付加反応物の水酸基当量比は０．１７であった
。

【００３３】（ｂ）感光性エレメントの製造上記で得ら
れたプレポリマの溶液（Ｉ）９６部（不揮発分７５部）
にＢＰＥ−１０（新中村化学（株）製、２，２ビス（４
−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン）２
５部、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノ
ン９部、ビクトリアピアブル−０．０９部、カルボキシ
ベンゾトリアゾール０．１部、及びメチルエチルケトン
８０部を配合し、感光性樹脂組成物の溶液を調製し、厚
さ約２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に塗布し、室温で１０分、１００℃で２０分間乾燥し、
感光性樹脂組成物の層の厚さ５０μｍの感光性エレメン
トを得た。

【００３４】（ｃ）レジストの形成 ナイロンブラシを用いて研磨清浄化した銅張積層板の銅
面に上記（ｂ）の感光性エレメントを日立化成工業（株
）製ＨＬＭ１５００型ホットロールラミネータ（ラミネ
ート温度１００℃、ラミネートスピード１ｍ／分）を用
い加熱加圧積層した。

【００３５】この積層体にネガマスクを通して（株）オ
ーク製作所製超高圧水銀灯ＨＭＷ２０１Ｂにより、７０
ｍＪ／ｃｍ２で露光した。露光後３０分放置したのち、
ポリエチレンテレフタレートをはく離し、次に現像液と
して１％炭酸ナトリウム水溶液を用い、３０℃で１分間
スプレー現像した。コダック社ステップタブレットＮｏ
２（２１ステップ）階調ネガを用いた場合の硬化段数は
６段であり、得られたフォトレジスト像は解像度に優れ
、ライン／スペースが１／１のネガマスクで４０μｍま
で解像可能であった。またこのフォトレジスト像は塩化
第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液等の通常のエッチング
液に対して十分な耐性を有していた。さらにこのフォト
レジスト像は通常の硫酸銅めっき及びはんだめっきにも
耐えることが分かった。

【００３６】実施例２ （ａ）プレポリマーの合成 Ａ　　エポトートＹＤＦ−１７０（東都化成（株）製ビ
スフェノールＦ型エポキシ　　　　樹脂、エポキシ当量
１７０）　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０４
部　　　　Ｎメチルピロリドン　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　７０部　　　　シ
クロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１４０部Ｂ　　モノエタノールア
ミン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４
０．７部Ｃ　　無水フタル酸　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　９８．６部Ｄ　
　イソシアナートエチルメタクリレート　　　　　　　
　　　　　３４部上記Ａ〜Ｄを用いた以外は実施例１（
ａ）と同様にして不揮発分６４％のビスフェノールＦ型
エポキシ樹脂／モノエタノールアミン／無水フタル酸／
イソシアナートエチルメタクリレート系プレポリマを得
た。このプレポリマのアミン当量／エポキシ当量比は１
．１１、酸当量／付加反応物の水酸基当量比は０．７１
、イソシアナート当量／付加反応物の水酸基当量比は０
．１８であった。

【００３７】（ｂ）感光性エレメントの製造上記で得ら
れたプレポリマの溶液（ＩＩ）１１７部（不揮発分７５
部） ＢＰＥ−１０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　２５部α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセ
トフェノン　　　　　　　　　　　　　　　　９部２，
２´−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチル　
　　　　　０．３部フェノール） ビクトリアピアーブルー　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０９部
及び メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　８０部

【００３８】上記配合の感光性樹脂組成物の溶
液を用い、実施例１（ｂ）と同様にして感光性樹脂組成
物の層の厚さ５０μｍの感光性エレメントを得た。以下
実施例１（ｃ）と同様にして、解像度、耐エッチング性
及び耐めっき性に優れたフォトレジスト像を得た。

【００３９】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エ
レメントを用いることにより、安全性及び経済性に優れ
たアルカリ水溶液により現像でき、かつ相溶性、解像度
、密着性、耐エッチング性及び耐めっき性に優れたフォ
トレジスト像を形成することができる。更に、本発明の
感光性樹脂組成物を用いて得られる保護被膜は、優れた
化学的及び物理的特性を有し、このためソルダマスク等
の永久マスク感光性接着剤、塗料、プラスチックレリー
フ、印刷版材料、金属精密加工材料等にも使用すること
ができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　（ａ）１分子中に少なくとも１個のエ
   ポキシ基を有するエポキシ化合物と１分子中に１個のア
   ミノ基と少なくとも１個の水酸基を有する化合物との付
   加反応物に飽和又は不飽和の多塩基酸無水物及び不飽和
   基を有するモノインソシアナートを反応させて得られる
   アルカリ水溶液に可溶性であるプレポリマー及び（ｂ）
   活性光線の照射により遊離ラジカルを生成する増感剤及
   び／又は増感系を含有してなる感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】　　請求項１記載の感光性樹脂組成物の層
   と該層を支持する支持体フィルムを含んでなる感光性エ
   レメント。