JPH04305592A - 糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収剤 - Google Patents
糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収剤Info
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Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は糖桂皮酸誘導体及び紫外
線吸収剤、特に紫外線吸収性を有する水溶性の糖桂皮酸
誘導体及びそれを用いた紫外線吸収剤に関する。
線吸収剤、特に紫外線吸収性を有する水溶性の糖桂皮酸
誘導体及びそれを用いた紫外線吸収剤に関する。
【0002】
【従来の技術】太陽光線に含まれる紫外線は、400n
m〜320nmの長波長紫外線(UV−A)、320n
m〜280nmの中波長紫外線(UV−B)、280n
m以下の短波長紫外線(UV−C)に分類される。この
うち、290nm以下の波長の紫外線は、オゾン層によ
って吸収され、地表に到達しない。
m〜320nmの長波長紫外線(UV−A)、320n
m〜280nmの中波長紫外線(UV−B)、280n
m以下の短波長紫外線(UV−C)に分類される。この
うち、290nm以下の波長の紫外線は、オゾン層によ
って吸収され、地表に到達しない。
【0003】地表に届く紫外線は化学反応を強く誘発す
るところから、各種塗料、コーティング剤等に紫外線吸
収剤の配合が試行されている。一方、紫外線は人間の皮
膚に様々な影響を及ぼす。UV−Aによっても一次黒化
の惹起等が問題となるが、特にUV−Bの影響は甚大で
、一定量以上の光量が皮膚に照射されると、紅班や水泡
を形成したり、メラニン形成が亢進され色素沈着を生じ
る等の問題を引起こし、さらに長期的には皮膚老化を促
進し、皮膚癌等の原因となる。
るところから、各種塗料、コーティング剤等に紫外線吸
収剤の配合が試行されている。一方、紫外線は人間の皮
膚に様々な影響を及ぼす。UV−Aによっても一次黒化
の惹起等が問題となるが、特にUV−Bの影響は甚大で
、一定量以上の光量が皮膚に照射されると、紅班や水泡
を形成したり、メラニン形成が亢進され色素沈着を生じ
る等の問題を引起こし、さらに長期的には皮膚老化を促
進し、皮膚癌等の原因となる。
【0004】そこで従来より紫外線の影響を除去するた
め、各種紫外線吸収剤が開発されてきた。既存の紫外線
吸収剤としては、PABA誘導体、桂皮酸誘導体、サリ
チル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ウロカニン酸誘
導体、カンファー誘導体、複素環誘導体等が知られてい
る。
め、各種紫外線吸収剤が開発されてきた。既存の紫外線
吸収剤としては、PABA誘導体、桂皮酸誘導体、サリ
チル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ウロカニン酸誘
導体、カンファー誘導体、複素環誘導体等が知られてい
る。
【0005】そして、これらのUV−B吸収剤は、塗料
、コーティング剤あるいは化粧品、医薬品、医薬部外品
等の皮膚外用剤に配合されているが、例えば皮膚外用剤
の場合、その基剤には低分子量のジメチルシロキサン系
基剤が広く使用されている。すなわち、最も頻繁に日焼
け止を使用するのが夏であるため、耐汗性、耐水性等の
観点から紫外線吸収剤として使用されてきたものは、油
溶性のものが殆どであった。
、コーティング剤あるいは化粧品、医薬品、医薬部外品
等の皮膚外用剤に配合されているが、例えば皮膚外用剤
の場合、その基剤には低分子量のジメチルシロキサン系
基剤が広く使用されている。すなわち、最も頻繁に日焼
け止を使用するのが夏であるため、耐汗性、耐水性等の
観点から紫外線吸収剤として使用されてきたものは、油
溶性のものが殆どであった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、最近では日
常の生活で受ける紫外線の影響についても問題になって
おり、通常のスキンケアでも日焼け止が望まれている。 このため、■化粧水等の水系のスキンケア製品にも多量
に配合できること、■より高い紫外線吸収効果を有する
外用剤を処方する上でも系全体に多量の紫外線吸収剤を
配合できる方が良いので、油相だけではなく、水相にも
紫外線吸収剤を配合することが望まれること、等の観点
から水溶性紫外線吸収剤の開発が強く要望されていた。
常の生活で受ける紫外線の影響についても問題になって
おり、通常のスキンケアでも日焼け止が望まれている。 このため、■化粧水等の水系のスキンケア製品にも多量
に配合できること、■より高い紫外線吸収効果を有する
外用剤を処方する上でも系全体に多量の紫外線吸収剤を
配合できる方が良いので、油相だけではなく、水相にも
紫外線吸収剤を配合することが望まれること、等の観点
から水溶性紫外線吸収剤の開発が強く要望されていた。
【0007】しかし、従来のUV−B吸収剤は、前述し
たようにその殆どが油溶性で水溶性が低く、処方が制限
されていた。水溶性UV−B吸収剤としては、僅かに2
−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソニウム
ベンゾフェノンナトリウム塩が知られているのみであり
、しかもこれは塩であるので処方系のpHに影響をもた
らすという課題があった。
たようにその殆どが油溶性で水溶性が低く、処方が制限
されていた。水溶性UV−B吸収剤としては、僅かに2
−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソニウム
ベンゾフェノンナトリウム塩が知られているのみであり
、しかもこれは塩であるので処方系のpHに影響をもた
らすという課題があった。
【0008】本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされ
たものであり、その目的は、優れたUV−B吸収性を有
し、しかも水溶性である糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収
剤を提供することにある。
たものであり、その目的は、優れたUV−B吸収性を有
し、しかも水溶性である糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収
剤を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者らが鋭意検討した結果、桂皮酸に糖を結合さ
せた糖桂皮酸誘導体に優れたUV−B吸収性及び水溶性
があることを見出し、本発明を完成するに至った。
に本発明者らが鋭意検討した結果、桂皮酸に糖を結合さ
せた糖桂皮酸誘導体に優れたUV−B吸収性及び水溶性
があることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0010】すなわち本出願の請求項1記載の糖桂皮酸
誘導体は、下記一般式化2で表わされることを特徴とす
る。
誘導体は、下記一般式化2で表わされることを特徴とす
る。
【化2】
(式中Aは糖又は糖アルコールからn個の水酸基を除い
た残基、Xはアルコキシ基、aは1〜3の整数、nは整
数)
た残基、Xはアルコキシ基、aは1〜3の整数、nは整
数)
【0011】また、本出願の請求項2記載の紫外線吸収
剤は、上記一般式化2で表わされることを特徴とする。
剤は、上記一般式化2で表わされることを特徴とする。
【0012】以下、本発明の構成をさらに詳細に説明す
る。一般式化2において、Aの糖の具体例としては、グ
ルコース、ガラクトース、キシロース、フルクトース、
アルトロース、タロース、マンノース、アラビノース、
イドース、リキソース、リボース、アロース等の単糖類
及びその混合物、又は、マルトース、イソマルソース、
ラクトース、キシロビオース、ケンチビオース、コージ
オビオース、セロビオース、ソホロース、ニゲロース、
スクロース、メリビオース、ラミナリビオース、ルチノ
ース等の二糖類及びその混合物、更にマルチトール、ソ
ルビトール、マンニトール、ガラクチトール、グルシト
ール、イノシトールなどの糖アルコール及びその混合物
が挙げられ、更にそれ以上の多糖を用いることもできる
。また、単糖類、二糖類、糖アルコール、及びそれ以上
の多糖の混合物でも構わない。
る。一般式化2において、Aの糖の具体例としては、グ
ルコース、ガラクトース、キシロース、フルクトース、
アルトロース、タロース、マンノース、アラビノース、
イドース、リキソース、リボース、アロース等の単糖類
及びその混合物、又は、マルトース、イソマルソース、
ラクトース、キシロビオース、ケンチビオース、コージ
オビオース、セロビオース、ソホロース、ニゲロース、
スクロース、メリビオース、ラミナリビオース、ルチノ
ース等の二糖類及びその混合物、更にマルチトール、ソ
ルビトール、マンニトール、ガラクチトール、グルシト
ール、イノシトールなどの糖アルコール及びその混合物
が挙げられ、更にそれ以上の多糖を用いることもできる
。また、単糖類、二糖類、糖アルコール、及びそれ以上
の多糖の混合物でも構わない。
【0013】Xとしては、例えばメトキシ基、エトキシ
基、イソプロピル基等が挙げられる。いずれも、水溶性
及びUV−B吸収波長に顕著な差はないが、工業性等か
ら、特にメトキシ基が好ましい。
基、イソプロピル基等が挙げられる。いずれも、水溶性
及びUV−B吸収波長に顕著な差はないが、工業性等か
ら、特にメトキシ基が好ましい。
【0014】本発明の糖桂皮酸誘導体は、エステル交換
反応(ホットメルト法、シュネル法、ネブラスカ−シュ
ネル法、ジマー法、ネブラスカ−DKS法、米国特許2
,999,858号(1961)、米国特許2,948
,717号(1960)、米国特許3,021,324
号(1962)、 ドイツ特許1,098,501号(
1961)、日本国特許404,285(1962)等
)、桂皮酸無水物との反応、桂皮酸クロリドとの反応等
、一般にエステル化に用いられる反応で合成することが
出来る。例えば、ネブラスカーシュネル法で合成するこ
とができる。
反応(ホットメルト法、シュネル法、ネブラスカ−シュ
ネル法、ジマー法、ネブラスカ−DKS法、米国特許2
,999,858号(1961)、米国特許2,948
,717号(1960)、米国特許3,021,324
号(1962)、 ドイツ特許1,098,501号(
1961)、日本国特許404,285(1962)等
)、桂皮酸無水物との反応、桂皮酸クロリドとの反応等
、一般にエステル化に用いられる反応で合成することが
出来る。例えば、ネブラスカーシュネル法で合成するこ
とができる。
【0015】即ち、糖をジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ジオキサン、ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、N−アセチルモルホリン、N−
メチルコハク酸イミド等の非水系溶媒に溶かし、これに
一般式化3:
ルスルホキシド、ジオキサン、ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、N−アセチルモルホリン、N−
メチルコハク酸イミド等の非水系溶媒に溶かし、これに
一般式化3:
【化3】
(ただし、式中Rは、メチル基、エチル基等の低級アル
キル基であり、Xおよびaは、前記式化2に同じ)で示
される化合物を添加して、触媒の存在下、50〜130
℃で攪拌、エステル交換反応させることにより得られる
。この際、反応は減圧下で行ない、一般式化2で示され
る化合物は単独でも2種以上を併用してもよい。
キル基であり、Xおよびaは、前記式化2に同じ)で示
される化合物を添加して、触媒の存在下、50〜130
℃で攪拌、エステル交換反応させることにより得られる
。この際、反応は減圧下で行ない、一般式化2で示され
る化合物は単独でも2種以上を併用してもよい。
【0016】また、上記の触媒としては、硫酸等の鉱酸
、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラート等のナトリウム
アルコラート、N−メチルベンジルアミン等のアミン等
が挙げられる。
、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラート等のナトリウム
アルコラート、N−メチルベンジルアミン等のアミン等
が挙げられる。
【0017】この反応に使用される糖と一般式化3で示
される化合物のモル比は、例えばモノエステルを主生成
物として得ようとする場合1〜3:1で更に好ましくは
2〜3:1である。糖が多過ぎると、糖が多量に残って
後の精製に支障をきたす。
される化合物のモル比は、例えばモノエステルを主生成
物として得ようとする場合1〜3:1で更に好ましくは
2〜3:1である。糖が多過ぎると、糖が多量に残って
後の精製に支障をきたす。
【0018】一般式化3で示される化合物がすべて消費
された場合、反応系の触媒を中和する目的で酢酸、塩酸
、硫酸、リン酸等の酸、水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリを加え、反応溶媒を
減圧留去する。
された場合、反応系の触媒を中和する目的で酢酸、塩酸
、硫酸、リン酸等の酸、水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリを加え、反応溶媒を
減圧留去する。
【0019】このようにして得られた反応生成物には、
一般式化2で示される糖桂皮酸誘導体のほか、中和時の
塩、糖等が共存している。そのため、例えば糖と塩を除
去する場合、メチルアルコール、エチルアルコール、ブ
チルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖を溶解
しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメチルエ
チルケトン、n−ブタノールで分配し、有機溶媒層を分
取することにより精製できる。
一般式化2で示される糖桂皮酸誘導体のほか、中和時の
塩、糖等が共存している。そのため、例えば糖と塩を除
去する場合、メチルアルコール、エチルアルコール、ブ
チルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖を溶解
しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメチルエ
チルケトン、n−ブタノールで分配し、有機溶媒層を分
取することにより精製できる。
【0020】また、糖と塩を除去し、結合したエステル
基の数によって化合物を分離する場合、反応生成物を水
または水とアルコールの混液に懸濁させ、ハイパーポー
ラスポリマー(例えば三菱化成工業株式会社製のハイポ
ーラス樹脂)、オクタデシルシリカなどの逆相分配カラ
ムで、始めに水で通液し、次にメタノール、エタノール
などのアルコールやアセトニトリルなどの極性有機溶媒
と水の混液で通液し、この液を分取することにより分離
・精製できる。その他、Snellらの方法、特公昭4
1−6852、特公昭40−26250等や、アセトン
で抽出し精製することもできる。
基の数によって化合物を分離する場合、反応生成物を水
または水とアルコールの混液に懸濁させ、ハイパーポー
ラスポリマー(例えば三菱化成工業株式会社製のハイポ
ーラス樹脂)、オクタデシルシリカなどの逆相分配カラ
ムで、始めに水で通液し、次にメタノール、エタノール
などのアルコールやアセトニトリルなどの極性有機溶媒
と水の混液で通液し、この液を分取することにより分離
・精製できる。その他、Snellらの方法、特公昭4
1−6852、特公昭40−26250等や、アセトン
で抽出し精製することもできる。
【0021】前記のように合成した糖桂皮酸誘導体は、
抽出溶媒を留去したり、カラムにより精製した後用いて
もよく、そのまま用いてもよい。
抽出溶媒を留去したり、カラムにより精製した後用いて
もよく、そのまま用いてもよい。
【0022】このようにして得られる糖桂皮酸は固体で
、化学安定性、酸化安定性、安全性に優れ、水溶性で、
しかもUV−B領域に吸収を有する上、保湿性に優れる
という機能を持つ。
、化学安定性、酸化安定性、安全性に優れ、水溶性で、
しかもUV−B領域に吸収を有する上、保湿性に優れる
という機能を持つ。
【0023】上記の糖桂皮酸誘導体は、塗料やインク、
プラスチック、コーティング剤、化学繊維等の化学製品
などに配合できる他、医薬品、医薬部外品、化粧品及び
洗浄料の成分として配合され得る。また、本発明にかか
る糖桂皮酸誘導体に加えて通常用いられる他の塗料、コ
ーティング、化粧品や医薬品成分を適宜配合することが
できる。
プラスチック、コーティング剤、化学繊維等の化学製品
などに配合できる他、医薬品、医薬部外品、化粧品及び
洗浄料の成分として配合され得る。また、本発明にかか
る糖桂皮酸誘導体に加えて通常用いられる他の塗料、コ
ーティング、化粧品や医薬品成分を適宜配合することが
できる。
【0024】例えば、流動パラフィン、スクワラン、ワ
セリン、セチルアルコール、イソステアリルアルコール
、2−エチルヘキサン酸セチル、2−オクチルドデシル
アルコール、トリイソステアリン酸グリセリン、マカデ
ミアンナッツ油、ラノリン等の各種炭化水素、油脂類、
ロウ類等の油性成分、シリコーン類、界面活性剤、増粘
剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止剤、粉体成分、
色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効剤、金属封鎖剤、
pH調整剤等が挙げられる。
セリン、セチルアルコール、イソステアリルアルコール
、2−エチルヘキサン酸セチル、2−オクチルドデシル
アルコール、トリイソステアリン酸グリセリン、マカデ
ミアンナッツ油、ラノリン等の各種炭化水素、油脂類、
ロウ類等の油性成分、シリコーン類、界面活性剤、増粘
剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止剤、粉体成分、
色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効剤、金属封鎖剤、
pH調整剤等が挙げられる。
【0025】
【発明の効果】本発明にかかる糖桂皮酸誘導体及び紫外
線吸収剤は、化学的安定性及び水溶性に優れ、しかもU
V−B領域の紫外線を効率的に吸収することができる。
線吸収剤は、化学的安定性及び水溶性に優れ、しかもU
V−B領域の紫外線を効率的に吸収することができる。
【0026】
【実施例】次に、試験例及び実施例によって本発明をさ
らに詳細に説明する。なお、本発明は、これによって限
定されるものではない。まず、本発明にかかる糖桂皮酸
の製造方法について説明する。
らに詳細に説明する。なお、本発明は、これによって限
定されるものではない。まず、本発明にかかる糖桂皮酸
の製造方法について説明する。
【0027】実施例1(マルチトールトリメトキシン桂
皮酸エステル)トリメトキシ桂皮酸15gを、HCl−
MeOH溶液150mlに溶解し、加熱還流を1時間し
た後、減圧濃縮した。酢酸エチル300mlで抽出し、
精製水200mlで5回洗浄した後、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、結晶を濾去した後、減圧濃縮し
た。得られた生成物をメタノールで再結晶し、再結晶収
率97%にてトリメトキシ桂皮酸メチルエステル15.
5gを得た。
皮酸エステル)トリメトキシ桂皮酸15gを、HCl−
MeOH溶液150mlに溶解し、加熱還流を1時間し
た後、減圧濃縮した。酢酸エチル300mlで抽出し、
精製水200mlで5回洗浄した後、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、結晶を濾去した後、減圧濃縮し
た。得られた生成物をメタノールで再結晶し、再結晶収
率97%にてトリメトキシ桂皮酸メチルエステル15.
5gを得た。
【0028】マルチトール1.28gを、予め乾燥して
おいたジメチルスルホキシド5mlに溶解し、合成した
トリメトシキ桂皮酸メチルエステル3gを加え、続いて
攪拌下、炭酸カリウム1.6g加えた後、減圧下100
℃にて2時間加熱攪拌した。反応系を室温まで空冷した
後、塩酸で中和した。
おいたジメチルスルホキシド5mlに溶解し、合成した
トリメトシキ桂皮酸メチルエステル3gを加え、続いて
攪拌下、炭酸カリウム1.6g加えた後、減圧下100
℃にて2時間加熱攪拌した。反応系を室温まで空冷した
後、塩酸で中和した。
【0029】反応溶媒を減圧蒸留にて留去し、残留物を
ハイパーポーラスポリマー(三菱化成工業株式会社製の
ハイポーラス樹脂)のカラムクロマトグラフ法で展開溶
媒として初め精製水、次にエチルアルコール:精製水=
7:3を用いて分画すると、精製水の溶出部に塩化カリ
ウム、マルチトール及びジメチルスルホキシドが認めら
れ、エチルアルコール:精製水7:3溶出部を濃縮した
。
ハイパーポーラスポリマー(三菱化成工業株式会社製の
ハイポーラス樹脂)のカラムクロマトグラフ法で展開溶
媒として初め精製水、次にエチルアルコール:精製水=
7:3を用いて分画すると、精製水の溶出部に塩化カリ
ウム、マルチトール及びジメチルスルホキシドが認めら
れ、エチルアルコール:精製水7:3溶出部を濃縮した
。
【0030】マルチトールモノトリメトキシ桂皮酸エス
テルの収量は2.01g(収率30.0%)であった。 また、得られたマルチトールトリメトキシ桂皮酸エ
ステルは、下記の(1)〜(4)の方法により分析した
。 このようにして得たマルチトールモノトリメトキシ桂皮
酸エステルを試料1とした。
テルの収量は2.01g(収率30.0%)であった。 また、得られたマルチトールトリメトキシ桂皮酸エ
ステルは、下記の(1)〜(4)の方法により分析した
。 このようにして得たマルチトールモノトリメトキシ桂皮
酸エステルを試料1とした。
【0031】(1)赤外吸収スペクトル測定法日本分光
工業株式会社製、IRA−1赤外吸収スペクトル測定装
置を用い、neat法で測定したところ、3400cm
−1に水酸基の伸縮振動、2900cm−1付近にメト
キシ基の伸縮運動、 1690cm−1にカルボニル基
の伸縮運動による吸収が観測された。結果を図1に示す
。
工業株式会社製、IRA−1赤外吸収スペクトル測定装
置を用い、neat法で測定したところ、3400cm
−1に水酸基の伸縮振動、2900cm−1付近にメト
キシ基の伸縮運動、 1690cm−1にカルボニル基
の伸縮運動による吸収が観測された。結果を図1に示す
。
【0032】(2)13C−NMR測定法日本電子株式
会社製のJOEL GX−400により、CD3OD
を溶媒として、室温にて測定したところ、169〜10
2ppmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナル
が、また62〜100ppmにマルチトール部分の炭素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。 結果を図2に示す。
会社製のJOEL GX−400により、CD3OD
を溶媒として、室温にて測定したところ、169〜10
2ppmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナル
が、また62〜100ppmにマルチトール部分の炭素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。 結果を図2に示す。
【0033】(3)1H−NMR測定法日本電子株式会
社製のJOEL GX−400により、CD3ODを
溶媒として、室温にて測定したところ、7.7〜6.4
ppmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナルが
、また3.0〜5.0ppmにマルチトール部分の水素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。結果を図3
に示す。
社製のJOEL GX−400により、CD3ODを
溶媒として、室温にて測定したところ、7.7〜6.4
ppmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナルが
、また3.0〜5.0ppmにマルチトール部分の水素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。結果を図3
に示す。
【0034】(4)紫外線吸収スペクトル測定法日本分
光工業株式会社製、UVIDEC 61OC紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定したと
ころ、230nm付近及び310nmに、極大吸収を示
した。結果を図4に示す。
光工業株式会社製、UVIDEC 61OC紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定したと
ころ、230nm付近及び310nmに、極大吸収を示
した。結果を図4に示す。
【0035】実施例2(ソルヒ゛トールトリメトキシ桂
皮酸エステル)ソルビトール6.49gを予め乾燥して
おいたジメチルスルフォキシド26mlに溶解し、合成
したトリメトキシ桂皮酸メチルエルテル3.0gを加え
、続いて攪拌下に炭酸カリウム1.64gを加え、減圧
下2時間加熱攪拌した。反応後、室温まで空冷し塩酸で
中和した。
皮酸エステル)ソルビトール6.49gを予め乾燥して
おいたジメチルスルフォキシド26mlに溶解し、合成
したトリメトキシ桂皮酸メチルエルテル3.0gを加え
、続いて攪拌下に炭酸カリウム1.64gを加え、減圧
下2時間加熱攪拌した。反応後、室温まで空冷し塩酸で
中和した。
【0036】その後、溶媒を減圧留去し、得られた残留
物をハイパーポーラスポリマー(三菱化成工業株式会社
製のハイポーラス樹脂)のカラムクトマトグラフ法で展
開溶媒として初めに精製水、次にエチルアルコール:精
製水=1:1を用いて分画すると、精製水の溶出部に塩
化カリウム、ソルビトール及びジメチルスルホキシドが
認められ、エチルアルコール:精製水=1:1溶出部を
濃縮した。
物をハイパーポーラスポリマー(三菱化成工業株式会社
製のハイポーラス樹脂)のカラムクトマトグラフ法で展
開溶媒として初めに精製水、次にエチルアルコール:精
製水=1:1を用いて分画すると、精製水の溶出部に塩
化カリウム、ソルビトール及びジメチルスルホキシドが
認められ、エチルアルコール:精製水=1:1溶出部を
濃縮した。
【0037】ソルビトールモノトリメトキシ桂皮酸エス
テルの収量は8.6g(収率30.47%)であった。 このようにして得たソルビトールモノトリメトキシ桂皮
酸エステルは、(1)〜(4)の方法にて分析した。
テルの収量は8.6g(収率30.47%)であった。 このようにして得たソルビトールモノトリメトキシ桂皮
酸エステルは、(1)〜(4)の方法にて分析した。
【0038】(1)赤外吸収スペクトル測定法日本分光
工業株式会社製、IRA−1赤外吸収スペクトル測定装
置を用い、neat法で測定したところ、3400cm
−1に水酸基の伸縮振動、2900cm−1付近にメト
キシ基の伸縮運動、1690cm−1にカルボニル基の
伸縮運動による吸収が観測された。結果を図5に示す。
工業株式会社製、IRA−1赤外吸収スペクトル測定装
置を用い、neat法で測定したところ、3400cm
−1に水酸基の伸縮振動、2900cm−1付近にメト
キシ基の伸縮運動、1690cm−1にカルボニル基の
伸縮運動による吸収が観測された。結果を図5に示す。
【0039】(2)13C−NMR測定法日本電子株式
会社製のJOEL GX−400により、CD3OD
を溶媒として、室温にて測定したところ、169〜10
6ppmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナル
が、また62〜100ppmにマルチトール部分の炭素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。 結果を、図6に示す。
会社製のJOEL GX−400により、CD3OD
を溶媒として、室温にて測定したところ、169〜10
6ppmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナル
が、また62〜100ppmにマルチトール部分の炭素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。 結果を、図6に示す。
【0040】(3)1H−NMR測定法日本電子株式会
社製のJOEL GX−400により、CD3ODを
溶媒として室温にて測定したところ、7.7〜6.4p
pmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナルが、
また3.0〜5.0ppmにマルチトール部分の水素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。 結果を図7に示す。
社製のJOEL GX−400により、CD3ODを
溶媒として室温にて測定したところ、7.7〜6.4p
pmにトリメトキシ桂皮酸部分に由来するシグナルが、
また3.0〜5.0ppmにマルチトール部分の水素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。 結果を図7に示す。
【0041】(4)紫外線吸収スペクトル測定法日本分
光工業株式会社製、UVIDEC 61OC紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定したと
ころ、230nm付近及び310nm付近に、極大吸収
を示した。結果を図8に示す。
光工業株式会社製、UVIDEC 61OC紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定したと
ころ、230nm付近及び310nm付近に、極大吸収
を示した。結果を図8に示す。
【0042】なお、前記実施例1ないし実施例2にかか
る糖桂皮酸はいずれも水に対する溶解度は20重量%以
上であった。
る糖桂皮酸はいずれも水に対する溶解度は20重量%以
上であった。
【0043】また、実施例1及び2で得られた化合物は
、白色固体であった。吸湿度が高く、融点の測定はでき
なかった。
、白色固体であった。吸湿度が高く、融点の測定はでき
なかった。
【0044】次に、以上のようにして得られた糖桂皮酸
誘導体を配合した皮膚外用剤について説明する。まず、
本発明にかかる皮膚外用剤の日焼け止効果について試験
を行った。
誘導体を配合した皮膚外用剤について説明する。まず、
本発明にかかる皮膚外用剤の日焼け止効果について試験
を行った。
【0045】試験例
下記の表1に示す処方において、糖桂皮酸誘導体を配合
した美容液と、対照例として2−ヒドキシ−4−メトキ
シ−5−スルフォキソニウムベンゾフェノンを配合した
美容液の製造を行った。
した美容液と、対照例として2−ヒドキシ−4−メトキ
シ−5−スルフォキソニウムベンゾフェノンを配合した
美容液の製造を行った。
【0046】
【表1】
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−− 成 分
配合例
1 対照例1−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−A.(アルコール相) エタノール
5.0% 5.0
%POEオレイルアルコールエーテル 2.
0 2.0香料
0.05 0.05B.(水相
) 1,3−ブチレングリコール
5.0 5.0マルチトールト
リメトキシ桂皮酸エステル
7.0 −2−ヒト
゛ロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソニウムヘ゛
ンソ゛フェノン −
7.0トリエタノールアミン
0.1 0.1
カルボキシビニルポリマー
0.15 0.15精製水
残 余 残 余−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−− 成 分
配合例
1 対照例1−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−A.(アルコール相) エタノール
5.0% 5.0
%POEオレイルアルコールエーテル 2.
0 2.0香料
0.05 0.05B.(水相
) 1,3−ブチレングリコール
5.0 5.0マルチトールト
リメトキシ桂皮酸エステル
7.0 −2−ヒト
゛ロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソニウムヘ゛
ンソ゛フェノン −
7.0トリエタノールアミン
0.1 0.1
カルボキシビニルポリマー
0.15 0.15精製水
残 余 残 余−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−
【0047】<製法>Aのアルコ
ール相をBの水相に添加し、香料を可溶化して美容液を
得た。 ■外観状態 配合例1は、無色透明で粘性のある良好な美容液が得ら
れたのに対し、対照例では、黄味が強く粘性のない状態
であった。 ■日焼け止め効果 海浜での実使用テストにおいて、2つのサンプルをパネ
ル10名の体半分ずつ塗布仕分け、日焼け具合のアンケ
ート調査及び皮膚トラブルの調査を行なった。その結果
を表2に示す。
ール相をBの水相に添加し、香料を可溶化して美容液を
得た。 ■外観状態 配合例1は、無色透明で粘性のある良好な美容液が得ら
れたのに対し、対照例では、黄味が強く粘性のない状態
であった。 ■日焼け止め効果 海浜での実使用テストにおいて、2つのサンプルをパネ
ル10名の体半分ずつ塗布仕分け、日焼け具合のアンケ
ート調査及び皮膚トラブルの調査を行なった。その結果
を表2に示す。
【0048】
【表2】
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−
配合例1の 対照
例1の
サンプル塗布部 サンプル塗布部−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−− パネルA
○ △
B ○
△
C △
×
D ○
× E
△
△ F
△
× G
○
× H
○
△ I
○
△ J
○
△−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−皮膚トラブル件数
なし
ひりつき2件
かゆみ 5件
発疹 3件−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−日焼けの程
度の評価基準 強い紅班が認められた … ×僅かに紅班が認
められた … △ 紅班は認められなかった … ○
−−−−−−−−−−−
配合例1の 対照
例1の
サンプル塗布部 サンプル塗布部−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−− パネルA
○ △
B ○
△
C △
×
D ○
× E
△
△ F
△
× G
○
× H
○
△ I
○
△ J
○
△−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−皮膚トラブル件数
なし
ひりつき2件
かゆみ 5件
発疹 3件−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−日焼けの程
度の評価基準 強い紅班が認められた … ×僅かに紅班が認
められた … △ 紅班は認められなかった … ○
【0049】これらの結果より糖桂皮酸誘導体を配合し
た皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した
皮膚外用剤より紫外線防御効果が高く、皮膚トラブルの
ない安全性が高いものであった。
た皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した
皮膚外用剤より紫外線防御効果が高く、皮膚トラブルの
ない安全性が高いものであった。
【0050】以下に本発明にかかる糖桂皮酸誘導体を含
む組成物の配合例を説明する。なお、各皮膚外用剤とも
優れた紫外線防御効果を示した。
む組成物の配合例を説明する。なお、各皮膚外用剤とも
優れた紫外線防御効果を示した。
【0051】
配合例2 クリーム
A.油相
ステアリン酸
10.0% ス
テアリルアルコール
4.0 ステアリン酸モノ
グリセリンエステル 8.
0 ビタミンEアセテート
0.5 香料
0.4 エチル
パラベン
0.1 ブチルパラベン
0.1 プロピルパラベン
0.1B.水相 プロピレングリコール
8.0 グリセリン
2.0 マルチトールト
リメトキシ桂皮酸エステル 5.0
水酸化カリウム
0.4 エデ
ト酸三ナトリウム
0.05 精製水
残 余<製法>Aの油相部
とBの水相部をそれぞれ70℃に加熱し完全溶解する。 A相をB相に加えて、乳化機で乳化する。乳化物を熱交
換機を用いて冷却してクリームを得た。
10.0% ス
テアリルアルコール
4.0 ステアリン酸モノ
グリセリンエステル 8.
0 ビタミンEアセテート
0.5 香料
0.4 エチル
パラベン
0.1 ブチルパラベン
0.1 プロピルパラベン
0.1B.水相 プロピレングリコール
8.0 グリセリン
2.0 マルチトールト
リメトキシ桂皮酸エステル 5.0
水酸化カリウム
0.4 エデ
ト酸三ナトリウム
0.05 精製水
残 余<製法>Aの油相部
とBの水相部をそれぞれ70℃に加熱し完全溶解する。 A相をB相に加えて、乳化機で乳化する。乳化物を熱交
換機を用いて冷却してクリームを得た。
【0052】
配合例3 クリーム
A.油相
セタノール
4.0
ワセリン
7.0 イ
ソプロピルミリステート
8.0 スクワラン
12.0 ジメチルポリシロキサン
3
.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル
2.2 POE(20)ソルビ
タンモノステアレート
2.8 グリチルレチン酸ステアレートBHT
0.02 エチルパラベン
0.1 ブチルパラベン
0.1B.水相 1.3ブチレングリコール
7.0 エデト酸二ナト
リウム
0.07 フェノキシエタノール
0.2 L−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシ
ウム塩 3.0 ポリアクリル酸アルキルエステル
1.0 ソル
ビトールトリメトキシ桂皮酸エステル
7.0 精製水
残 余<製法>配合例2に準じてクリームを得た
。
4.0
ワセリン
7.0 イ
ソプロピルミリステート
8.0 スクワラン
12.0 ジメチルポリシロキサン
3
.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル
2.2 POE(20)ソルビ
タンモノステアレート
2.8 グリチルレチン酸ステアレートBHT
0.02 エチルパラベン
0.1 ブチルパラベン
0.1B.水相 1.3ブチレングリコール
7.0 エデト酸二ナト
リウム
0.07 フェノキシエタノール
0.2 L−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシ
ウム塩 3.0 ポリアクリル酸アルキルエステル
1.0 ソル
ビトールトリメトキシ桂皮酸エステル
7.0 精製水
残 余<製法>配合例2に準じてクリームを得た
。
【0053】
配合例4 乳液
A.油相
スクワラン
5.0
オレイルオレート
3.0 ワセリン
2.0 ソルビタンセ
スキオレイン酸エステル
0.8 ポリオキシエチレンオレイルエーテル(20
E.O.) 1.2 2−エチルヘキシル−p−メ
トキシシンナメート 3.0 メチルパラベン
0.15 香料
0.12B.水相 ジプロピレングリコール
5.0 エタノール
3.0 カルボキシビニル
ポリマー
0.17 ヒアルロン酸ナトリウム
0.1
マルチトールトリメトキシ桂皮酸エステル
4.0 水酸化カリウム
0.08 ヘキサメタリン酸ナトリウム
0.05 精製
水
残 余<製法
>配合例2に準じて乳液を得た。
5.0
オレイルオレート
3.0 ワセリン
2.0 ソルビタンセ
スキオレイン酸エステル
0.8 ポリオキシエチレンオレイルエーテル(20
E.O.) 1.2 2−エチルヘキシル−p−メ
トキシシンナメート 3.0 メチルパラベン
0.15 香料
0.12B.水相 ジプロピレングリコール
5.0 エタノール
3.0 カルボキシビニル
ポリマー
0.17 ヒアルロン酸ナトリウム
0.1
マルチトールトリメトキシ桂皮酸エステル
4.0 水酸化カリウム
0.08 ヘキサメタリン酸ナトリウム
0.05 精製
水
残 余<製法
>配合例2に準じて乳液を得た。
【0054】
配合例5 クリーム
A.油相
ベヘニルアルコール
0.5% 12−
ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル 2.
0 スクワラン
7.0
ホホバオイル
5.0 自己
乳化型モノステアリン酸グリセリン
2.5 ポリオキシエチレンソルビタン モノステアリン酸エステル(20EO)
1.5 2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン 3.0
エチルパラベン
0.2 ブチルパ
ラベン
0.1 香料
0.1B.水相 プロピレングリコール
5.0 グリセリン
5.0 ビーガム(モン
モリロナイト)
3.0 水酸化カリウム
0.
3 マルチトールトリメトキシ桂皮酸エステル
6.0 エデト酸三ナトリウム
0.08<製法>配合例2に準じクリームを得た。
0.5% 12−
ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル 2.
0 スクワラン
7.0
ホホバオイル
5.0 自己
乳化型モノステアリン酸グリセリン
2.5 ポリオキシエチレンソルビタン モノステアリン酸エステル(20EO)
1.5 2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン 3.0
エチルパラベン
0.2 ブチルパ
ラベン
0.1 香料
0.1B.水相 プロピレングリコール
5.0 グリセリン
5.0 ビーガム(モン
モリロナイト)
3.0 水酸化カリウム
0.
3 マルチトールトリメトキシ桂皮酸エステル
6.0 エデト酸三ナトリウム
0.08<製法>配合例2に準じクリームを得た。
【0055】
配合例6 粉末入り化粧水
A.油相
エタノール
8.0
POE(60)グリセリルモノイソステアレート
2.0 L−メントール
0.1
カンファー
0.1
メチルパラベン
0.1 香料
0.03B.水相 グリセリン
3.5
ソルビトールトリメトキシ桂皮酸エステル
4.0 亜鉛
1.5 カオリン
0.5 ベントナイト
0.3 ヘキサメタリン酸ナトリウム
0.03 精製水
残 余<製法>
配合例1に準じた製法で粉末入り化粧水を得た。
8.0
POE(60)グリセリルモノイソステアレート
2.0 L−メントール
0.1
カンファー
0.1
メチルパラベン
0.1 香料
0.03B.水相 グリセリン
3.5
ソルビトールトリメトキシ桂皮酸エステル
4.0 亜鉛
1.5 カオリン
0.5 ベントナイト
0.3 ヘキサメタリン酸ナトリウム
0.03 精製水
残 余<製法>
配合例1に準じた製法で粉末入り化粧水を得た。
【図1】本発明にかかるマルチトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの赤外吸収スペクトル図である。
酸エステルの赤外吸収スペクトル図である。
【図2】本発明にかかるマルチトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの13C−NMR図である。
酸エステルの13C−NMR図である。
【図3】本発明にかかるマルチトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの1H−NMR図である。
酸エステルの1H−NMR図である。
【図4】本発明にかかるマルチトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの紫外線吸収スペクトル図である。
酸エステルの紫外線吸収スペクトル図である。
【図5】本発明にかかるソルビトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの赤外吸収スペクトル図である。
酸エステルの赤外吸収スペクトル図である。
【図6】本発明にかかるルビトールトリメトキシ桂皮酸
エステルの13C−NMR図である。
エステルの13C−NMR図である。
【図7】本発明にかかるソルビトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの1H−NMR図、
酸エステルの1H−NMR図、
【図8】本発明にかかるソルビトールトリメトキシ桂皮
酸エステルの紫外線吸収スペクトル図である。
酸エステルの紫外線吸収スペクトル図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式化1で表わされる糖桂皮酸
誘導体。 【化1】 (式中Aは糖又は糖アルコールからn個の水酸基を除い
た残基、Xはアルコキシ基、aは1〜3の整数、nは整
数) - 【請求項2】 請求項1記載の糖桂皮酸誘導体よりな
る紫外線吸収剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2416550A JP3007171B2 (ja) | 1990-12-30 | 1990-12-30 | 糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2416550A JP3007171B2 (ja) | 1990-12-30 | 1990-12-30 | 糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04305592A true JPH04305592A (ja) | 1992-10-28 |
| JP3007171B2 JP3007171B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=18524770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2416550A Expired - Fee Related JP3007171B2 (ja) | 1990-12-30 | 1990-12-30 | 糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3007171B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002363195A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-18 | Yoshitomi Fine Chemicals Ltd | 桂皮酸アミド誘導体、その製造法及び水溶性紫外線吸収剤 |
| JP2006131855A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Shiseido Co Ltd | 水溶性紫外線吸収剤及びこれを含有する紫外線吸収性組成物、皮膚外用剤。 |
| WO2006047466A3 (en) * | 2004-10-21 | 2006-09-21 | Univ Duke | Ophthamological drugs |
| JP2010037513A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-18 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置 |
| CN102659956A (zh) * | 2012-04-26 | 2012-09-12 | 江南大学 | 一类基于阿拉伯木聚糖改性的紫外吸收剂及其制备方法 |
-
1990
- 1990-12-30 JP JP2416550A patent/JP3007171B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002363195A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-18 | Yoshitomi Fine Chemicals Ltd | 桂皮酸アミド誘導体、その製造法及び水溶性紫外線吸収剤 |
| WO2006047466A3 (en) * | 2004-10-21 | 2006-09-21 | Univ Duke | Ophthamological drugs |
| JP2006131855A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Shiseido Co Ltd | 水溶性紫外線吸収剤及びこれを含有する紫外線吸収性組成物、皮膚外用剤。 |
| JP2010037513A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-18 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置 |
| CN102659956A (zh) * | 2012-04-26 | 2012-09-12 | 江南大学 | 一类基于阿拉伯木聚糖改性的紫外吸收剂及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3007171B2 (ja) | 2000-02-07 |
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