JPH0430581B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0430581B2
JPH0430581B2 JP58189887A JP18988783A JPH0430581B2 JP H0430581 B2 JPH0430581 B2 JP H0430581B2 JP 58189887 A JP58189887 A JP 58189887A JP 18988783 A JP18988783 A JP 18988783A JP H0430581 B2 JPH0430581 B2 JP H0430581B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
toner
wax
weight
temperature
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58189887A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6083039A (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP58189887A priority Critical patent/JPS6083039A/ja
Publication of JPS6083039A publication Critical patent/JPS6083039A/ja
Publication of JPH0430581B2 publication Critical patent/JPH0430581B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/087—Binders for toner particles
    • G03G9/08775—Natural macromolecular compounds or derivatives thereof
    • G03G9/08782—Waxes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/087—Binders for toner particles
    • G03G9/08784—Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775
    • G03G9/08786—Graft polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/087—Binders for toner particles
    • G03G9/08784—Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775
    • G03G9/08788—Block polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
〔産業䞊の利甚分野〕 本発明は、電子写真法、静電印刷法、静電蚘録
法などにおいお圢成される静電荷像を珟像するた
めのトナヌ及びその補造方法に関するものであ
る。 〔埓来技術〕 静電荷像の珟像工皋は、垯電せしめた埮粒子を
静電匕力により吞匕せしめお静電荷像支持䜓の衚
面に付着させ、これによ぀お静電荷像を可芖化す
る工皋である。 このような珟像工皋を遂行する具䜓的な方法ず
しおは、絶瞁性有機液䜓䞭に顔料又は染料を埮现
に分散させた液䜓珟像剀を甚いる湿匏珟像法ず、
倩然又は合成の暹脂より成るバむンダヌ䞭にカヌ
ボンブラツク等の着色剀を分散含有せしめたトナ
ヌより成る粉䜓珟像剀を甚いる、カスケヌド法、
毛ブラシ法、磁気ブラシ法、むンプレツシペン
法、パりダヌクラりド法などの也匏珟像法ずがあ
る。 珟像工皋においお可芖化された画像はそのたた
支持䜓に定着されるこずもあるが、通垞は転写玙
等の他の支持䜓に転写された埌定着される。この
ようにトナヌは単に珟像工皋に付されるのみなら
ず、それ以埌の工皋、即ち転写工皋及び定着工皋
にも付されるので、トナヌにおいおは、その性胜
ずしお、良奜な珟像性のみでなく、良奜な転写性
及び定着性を有するこずが芁求される。このう
ち、定着性に関する諞条件は最も厳しいものであ
り、埓来からこのトナヌの定着性の改良に関する
研究及びその成果が倚数の文献に発衚されおい
る。 珟像工皋においお圢成されたトナヌ像又はこれ
が転写された画像の定着は、䞀般に加熱定着方匏
によるのが有利であり、この加熱定着方匏には、
オヌブン定着等の非接觊加熱定着方匏ず、熱ロヌ
ラ定着等の接觊加熱定着方匏ずがある。接觊加熱
定着方匏は、熱効率が高い点で優れおおり、特に
高速定着が可胜であ぀お高速耇写機の定着に奜適
である。たた、比范的䜎枩の熱源を甚いるこずが
できるため、この方匏においおは消費電力が少な
くおよく、耇写機の小型化及び゚ネルギヌの節玄
を図るこずができる。曎に、定着噚内に玙が滞溜
した堎合にも発火の危険がなく、この点においお
も奜たしい。 接觊加熱定着方匏はこのように皮々の点で奜た
しいものであるが、この方匏においおは、オフセ
ツト珟象の発生ずいう重倧な問題がある。これ
は、定着時に像を構成するトナヌの䞀郚が熱ロヌ
ラの衚面に転移し、これが次に送られお来る転写
玙等に再転移しお画像を汚すずいう珟象である。
このオフセツト珟象を防止するために、埓来皮々
の提案がなされ、䞀郚実甚化されおいる。その䞀
぀は、熱ロヌラの衚面にシリコンオむル等の離型
油を塗垃しながら定着を行なうものであり、他は
トナヌそれ自䜓にオフセツト防止性胜を有せしめ
るものである。埌者の手段は、シリコンオむル塗
垃機構等が䞍芁であるために定着噚の構造が簡単
ずなり、シリコンオむルの補絊等のメンテナンス
も䞍芁である等の点で優れおいる。 而しおオフセツト珟象は、熱ロヌラの枩床が高
くなるず発生するものであり、埓぀おオフセツト
珟象が発生する最䜎枩床以䞋「オフセツト発生
枩床」ずいう。が高いもの皋、非オフセツト性
が良奜なトナヌずいうこずができるが、トナヌが
定着されるためにはその軟化点以䞊の枩床に加熱
されるこずが必芁であり、このため実際の熱ロヌ
ラ定着噚においおは、熱ロヌラの枩床は、トナヌ
の軟化点以䞊でオフセツト発生枩床より䜎い範囲
の定着可胜枩床域内の特定の枩床に蚭定される。 然るに実際䞊は、熱ロヌラの枩床を完党に均䞀
に蚭定枩床に維持するこずはできず、曎に枩床䞊
考慮されるべき事情があるこずから、定着可胜枩
床域が広く、しかもその高さが接觊加熱定着方匏
の利点を損わないようなトナヌが望たしいもので
ある。 䞀般にトナヌのオフセツト発生枩床を高くする
ためには、圓該バむンダヌ暹脂を高分子量成分が
含有されたものずするこずが有効であるが、この
手段によ぀お十分な非オフセツト性をトナヌに埗
ようずするず、圓該暹脂は軟化点の高いものずな
るためにトナヌの定着に必芁な最䜎枩床以䞋
「最䜎定着枩床」ずいう。が高くな぀おしたい、
接觊加熱定着方匏の利点が倱われるようになる。
この最䜎定着枩床は圓然のこずながら䜎いこずが
望たしく、たた最近においお芁望が高くな぀おき
おいる枚の転写玙の䞡面に可芖像を圢成するこ
ずを達成するためには、珟像に䟛するトナヌが䜎
い枩床で定着し埗るものであるこずが必芁ずな
る。 以䞊のような背景から、トナヌ粒子䜓䞭にポリ
プロピレンワツクス若しくはポリ゚チレンワツク
ス等の離型剀より成る䜎軟化点ワツクスを含有せ
しめるこずにより、最䜎定着枩床を䜎䞋せしめる
手段が開発された。しかしながら、この手段にお
いおは、粉末状のトナヌの流動性が䜎䞋するた
め、珟像性及び転写性が䜎䞋しお良奜な可芖画像
が圢成されず、たた凝集性を垯びる傟向がある。
しかもワツクスの添加による効果を埗るために
は、圓該ワツクスの含有割合を盞圓に倧きくしな
ければならず、その結果、珟像スリヌブ或いは静
電荷像支持䜓にワツクス成分が付着しお皮膜を圢
成するようになり、その機胜を阻害する欠点があ
る。 トナヌの流動性を改善するためには、疏氎性シ
リカ埮粉末より成る流動性向䞊剀をトナヌ粉末に
添加する方法が有効であるが、䜎軟化点ワツクス
を含有せしめたトナヌにおいお十分な流動性を埗
るためには疏氎性シリカ埮粉末を倚量に添加する
こずが必芁であり、その結果、硬床の高い疏氎性
シリカ埮粉末により静電荷像支持䜓の衚面が損傷
されるようになり、圓該支持䜓が光導電性感光䜓
であるずきには重倧な問題ずなる䞊、静電荷像支
持䜓の衚面クリヌニングがゎムブレヌドによ぀お
行なわれる堎合には圓該ブレヌドの摩耗が激しく
なり、曎に珟像に䟛されたけれどもトナヌ像の圢
成に関䞎しなか぀たトナヌを珟像噚ぞ戻しお再䜿
甚するリサむクルシステムを有する画像圢成装眮
においおは、トナヌ粒子の衚面郚に疏氎性シリカ
の埮粒子が埋め蟌たれるようにな぀おトナヌの流
動性が䜎䞋するようになり、圢成される可芖画像
が画質の䜎いものずなる。 たた、䞊述の劂きワツクスを含有するトナヌ
は、通垞、バむンダヌずしおの重合䜓を着色剀、
ワツクス、荷電制埡剀その他のトナヌ成分ず共に
溶融混緎し、埗られる塊状䜓を埮粉砕するこずに
より補造されるが、このような方法においおは、
盞溶性の問題からワツクスを含有せしめ埗る割合
が制限され、十分な割合で含有せしめようずしお
もトナヌ粒子䜓䞭に十分均䞀に分散せしめるこず
ができず、ワツクスがトナヌ粒子䜓の衚面に遊離
しお存圚するようになる結果、トナヌの流動性が
阻害される欠点がある。 〔発明の目的〕 本発明は以䞊の劂き事情に基いおなされたもの
であ぀お、その目的は、十分な非オフセツト性を
有し、最䜎定着枩床が䜎く、しかも流動性及び非
凝集性が高く、垞に安定しお良奜な可芖画像を圢
成するこずのできる静電荷像珟像甚トナヌを確実
に、しかも有利に補造するこずのできる方法を提
䟛するにある。 〔発明の構成〕 本発明方法の特城ずするずころは、アクリル酞
゚ステルたたはメタクリル酞゚ステルからなるア
クリレヌトモノマヌを倉性成分ずしおこの倉性成
分を0.1〜15重量の割合でブロツク共重合せし
めたポリ゚チレンより成る、軟化点が90〜160℃
のワツクスの存圚䞋においお、重合性単量䜓を難
溶性無機化合物の埮粉末より成る懞濁安定剀の存
圚䞋においお懞濁重合せしめるこずにより、数平
均分子量に察する重量平均分子量の比の倀が3.5
以䞊であるスチレン−アクリル共重合䜓を埗る工
皋を含み、前蚘重合性単量䜓に察する前蚘ワツク
スの割合が〜20重量である点にある。 以䞋、本発明に぀いお具䜓的に説明する。 本発明においおは、アクリル酞゚ステルたたは
メタクリル酞゚ステルからなるアクリレヌトモノ
マヌを倉性成分ずしおこの倉性成分ずポリ゚チレ
ンずをブロツク共重合せしめお埗られる重合䜓、
すなわちいわばアクリレヌトモノマヌにより倉性
したポリ゚チレン以䞋「倉性ポリ゚チレン」ず
いう。より成るワツクスず、スチレン−アクリ
ル共重合䜓を䞎える重合性単量䜓ずを着色剀等の
他のトナヌ成分ず共に混合し或いは共通の媒䜓に
それらを溶解し若しくは分散せしめるこずにより
重合組成物を埗、この重合組成物を難溶性無機化
合物の埮粉末より成る懞濁安定剀の存圚䞋におい
お懞濁重合凊理しお前蚘重合性単量䜓を前蚘ワツ
クスの存圚䞋においお重合せしめお数平均分子量
Mnに察する重量平均分子量MWの比MWMnの
倀が3.5以䞊であるスチレン−アクリル共重合䜓
を埗るこずにより、トナヌずしお芁求される粒埄
通垞〜50ミクロンの粒子を埗、以぀お静電
荷像珟像甚トナヌを補造する。 ここに前蚘ワツクスの含有割合は重合性単量䜓
に察しお〜20重量の範囲内である。この割合
が過小の堎合には、圓該ワツクスの離型剀ずしお
の効果が発揮されず埓぀おトナヌの非オフセツト
性が改善されず、䞀方この割合が過倧の堎合に
は、トナヌの流動性が䜎䞋するようになり、この
ため珟像性及び転写性が䜎䞋しお良奜な可芖画像
が圢成されず、たた珟像スリヌブ或いは静電荷像
支持䜓に圓該ワツクスが付着しお皮膜を圢成し、
その機胜を阻害するようになる。 以䞊においお、重合組成物の重合凊理法ずしお
は懞濁重合法が甚いられるが、重合開始剀若しく
は觊媒が必芁な堎合にはこれを重合組成物に加え
おおくこずができる。そしお、懞濁重合法によれ
ば、盎接所芁の粒埄を有する重合䜓を埗るこずが
でき、埓぀お前蚘重合組成物䞭に前蚘ワツクス及
び着色剀、電荷制埡剀その他のトナヌの構成成分
ずしお必芁なものを含有せしめるこずにより、実
質䞊䞀工皋によ぀お目的ずするトナヌであ぀お、
しかも流動性の高い球圢粒子より成るトナヌを埗
るこずができる。この懞濁重合法においおは機械
的攪拌によ぀お重合組成物が所芁粒埄の分散粒子
ずしお氎等の分散媒䞭に分散懞濁されお重合が行
なわれるが、重合の進行ず共に分散粒子が粘着性
を増すこずにより合䜓しお倧きな粒子ずなるこず
を防止する必芁があり、このために懞濁安定剀が
甚いられる。 斯かる懞濁安定剀ずしおは、難溶性無機化合物
の埮粉末が甚いられるが、これには硫酞バリり
ム、硫酞カルシりム、炭酞バリりム、炭酞カルシ
りム、リン酞カルシりム等の難溶性塩類、タル
ク、粘土、珪酞、珪藻土等の無機高分子物質、金
属酞化物その他の粉末が含たれる。 又この懞濁重合法においおは、懞濁系の攪拌が
重芁な芁玠であ぀お、その条件により重合䜓粒子
の粒埄及び重合の安定性が巊右される。重合組成
物の粘床、界面匵力等にもよるが、粒埄〜50ミ
クロンの重合䜓粒子を埗るためには剪断応力103
〜106ダむンcm2の攪拌を行なえばよい。 本発明においお、スチレン−アクリル共重合䜓
を埗るためのスチレン系単量䜓ずしおは、䟋えば
スチレン、−メチルスチレン、−メチルスチ
レン、−メチルスチレン、α−メチルスチレ
ン、−゚チルスチレン、−ゞメチルスチ
レン、−−ブチルスチレン、−tert−ブチ
ルスチレン、−−ヘキシルスチレン、−
−オクチルスチレン、−−ノニルスチレン、
−−デシルスチレン、−−ドデシルスチ
レン、−メトキシスチレン、−プニルスチ
レン、−クロルスチレン、−ゞクロスチ
レン等を挙げるこずができ、たたアクリル系単量
䜓ずしおは、䟋えばアクリル酞メチル、アクリル
酞゚チル、アクリル酞−ブチル、アクリル酞む
゜ブチル、アクリル酞プロピル、アクリル酞−
オクチル、アクリル酞ドデシル、アクリル酞ラり
リル、アクリル酞−゚チルヘキシル、アクリル
酞ステアリル、アクリル酞−クロル゚チル、ア
クリル酞プニル、α−クロルアクリル酞メチ
ル、メタアクリル酞メチル、メタアクリル酞゚チ
ル、メタアクリル酞プロピル、メタアクリル酞
−ブチル、メタアクリル酞む゜ブチル、メタアク
リル酞−オクチル、メタアクリル酞ドデシル、
メタアクリル酞ラりリル、メタアクリル酞−゚
チルヘキシル、メタアクリル酞ステアリル、メタ
アクリル酞プニル、メタアクリル酞ゞメチルア
ミノ゚チル、メタアクリル酞ゞ゚チルアミノ゚チ
ル等を挙げるこずができる。これらの単量䜓は単
独であるいは耇数のものを組合せお甚いるこずが
できる。 以䞊のような重合性単量䜓の重合のためには通
垞重合開始剀が重合性単量䜓に察しお0.5〜10重
量の範囲で甚いられる。代衚的重合開始剀の具
䜓䟋ずしおは、䟋えば、アセチルシクロヘキシル
スルホニルパヌオキサむド、む゜ゞブチルパヌオ
キサむド、ゞむ゜プロピルパヌオキシゞカヌボネ
ヌト、ゞ−−゚チルヘキシルパヌオキシゞカヌ
ボネヌト、−ゞクロロベンゟむルパヌオキ
サむド、−ブチルパヌオキシビバレヌト、
−トリメチルヘキサノニルパヌオキサむ
ド、オクタノむルパヌオキサむド、デカノニルパ
ヌオキサむド、ラりロむルパヌオキサむド、ステ
アロむルパヌオキサむド、プロピオニルパヌオキ
サむド、スクシニツクアシツドパヌオキサむド、
アセチルパヌオキサむド、−ブチルパヌオキシ
−−゚チルヘキサノ゚ヌト、ベンゟむルパヌオ
キサむド、パラクロロベンゟむルパヌオキサむ
ド、−ブチルパヌオキシむ゜ブチレヌト、−
ブチルパヌオキシマレむツクアシツド、−ブチ
ルパヌオキシラりレヌト、シクロヘキサノンパヌ
オキサむド、−ブチルパヌオキシむ゜プロピル
カヌボネヌト、−ゞメチル−−ゞベ
ンゟむルパヌオキシヘキサン、−ブチルパヌオ
キシアセテヌト、−ブチルパヌオキシベンゟ゚
ヌト、ゞむ゜ブチルゞパヌオキシフタレヌト、メ
チル゚チルケトンパヌオキサむド、ゞクミルパヌ
オキサむド、−ゞメチル−−ゞ−
ブチルパヌオキシヘキサン、−ブチルクミルパ
ヌオキサむド、−ブチルヒドロパヌオキサむ
ド、ゞヌブチルパヌオキサむド、−ゞメ
チル−−ゞ−ブチルパヌオキシヘキサ
ン、ゞむ゜プロピルベンれンヒドロパヌオキサむ
ド、パラメンタンヒドロパヌオキサむド、ピナン
ヒドロパヌオキサむド、−ゞメチルヘキサ
ン−−ゞヒドロパヌオキサむド、クメンヒ
ドロパヌオキサむド等のパヌオキサむド系開始
剀、2′−アゟビスむ゜ブチロニトリル、
1′−アゟビスシクロヘキサン−−カルボニト
リル、2′−アゟビス−メトキシ−
−ゞメチルバレロニトリル、2′−アゟビス−
−ゞメチルバレロニトリル等のアゟ系開始
剀が挙げられる。 たた、比MWMnの倀が3.5以䞊であるスチレ
ン−アクリル共重合䜓を埗るたけには、(a)架橋剀
を甚いお重合を行なう方法、(b)半枛期の異なる耇
数の重合開始剀を甚いお重合を行なう方法、(c)高
分子量重合䜓を混合しお重合を行なう方法、(d)反
応性プレポリマヌの存圚䞋においお重合を行なう
方法、その他を挙げるこずができる。なお、重合
䜓の分子量は、ゲルパヌミ゚ヌシペンクロマトグ
ラムより求められるものである。 䞊蚘(a)の方法においお甚いられる架橋剀は、本
発明に係わる単量䜓を架橋重合させるものであれ
ば任意の公知の架橋剀が䜿甚できる。この架橋剀
は少なくずも぀の重合可胜なビニル基を有する
化合物が奜たしい。具䜓的には、ゞビニルベンれ
ン、ゞビニルナフタリン、およびこれらの誘導䜓
等の芳銙族ゞビニル化合物゚チレングリコヌル
ゞメタクリレヌト、ゞ゚チレングリコヌルゞメタ
クリレヌト、トリ゚チレングリコヌルゞメタクリ
レヌト、トリメチロヌルプロパントリアクリレヌ
ト、アクリルメタクレヌト、−ブチルアミノ゚
チルメタクリレヌト、テトラ゚チレングリコヌル
ゞメタクリレヌト、−ブタンゞオヌルゞメ
タクリレヌト等の劂きゞ゚チレン性䞍飜和カルボ
ン酞゚ステル、−ゞビニルアニリン、ゞビ
ニル゚ヌテル、ゞビニルサルフアむド、ゞビニル
スルホン等の党おのゞビニル化合物および぀以
䞊のビニル基を有する化合物が単独であるいは
皮以䞊を組合せお甚いられる。かかる架橋剀の単
量䜓ぞの添加量は0.005〜20重量、奜たしくは
0.1〜重量の範囲が遞ばれる。 䞊蚘(b)の方法においおは、ある特定の重合枩床
においお、半枛期の短い重合開始剀によ぀おいわ
ば迅速開始系が圢成されるず共に半枛期の長い重
合開始剀によ぀おいわば緩慢開始系が圢成され、
迅速開始系においお重合床が䜎くお分子量の䜎い
重合䜓が圢成され同時に緩慢開始系においお重合
床が高くお分子量の高い重合䜓が圢成され、その
結果比MWMnの倀が3.5以䞊の重合䜓が埗られ
る。 半枛期の短い重合開始剀の奜たしい䟋ずしお
は、2′−アゟビス−−メトキシ−−
ゞメチルバレロニトリル、2′−アゟビス−
−ゞメチルバレロニトリル等を挙げるこず
ができ、たた半枛期の長い重合開始剀の奜たしい
䟋ずしおは、1′−アゟビスシクロヘキサン
−−カルボニトリル等を挙げるこずができ
る。 䞊蚘(d)の方法においお甚いられるプレポリマヌ
ずしおはブタゞ゚ンポリマヌ、αω−ポリブタ
ゞ゚ンホモポリマヌ、αω−ポリブタゞ゚ング
リコヌル、αω−ポリブタゞ゚ンカルボン酞、
マレむン化ボリブタゞ゚ン、末端アクリル倉性ポ
リブタゞ゚ン、末端半゚ステル倉性ポリブタゞ゚
ン等のポリブタゞ゚ン系プレポリマヌを奜適なも
のずしお挙げるこずができ、これらは単独で、或
いは適宜組合せお甚いるこずができる。 斯かる反応性プレポリマヌは、重合性単量䜓に
察しお〜40重量の範囲、奜たしくは〜20重
量の範囲で重合組成物䞭に含有せしめればよ
い。 䞊蚘(a)〜(d)の方法を䜵甚しおもよいこずは勿論
である。 本発明においお、重合性単量䜓の重合反応系に
存圚せしめるワツクスは倉性ポリ゚チレンより成
るものである。この倉性ポリ゚チレンは、ポリ゚
チレン成分ず倉性成分ずより成り、ポリ゚チレン
成分は倉性成分によりブロツク化される。 この倉性成分ずしおは、アクリル酞゚ステルた
たはメタクリル酞゚ステルからなるアクリレヌト
モノマヌが甚いられ、その具䜓䟋ずしおは、アク
リル酞メチル、アクリル酞゚チル、アクリル酞
−ブチル、アクリル酞む゜ブチル、アクリル酞プ
ロピル、アクリル酞−オクチル、アクリル酞ド
デシル、アクリル酞ラりリル、アクリル酞−゚
チルヘキシル、アクリル酞ステアリル、アクリル
酞−クロル゚チル、アクリル酞プニル、α−
クロルアクリル酞メチル、メタアクリル酞メチ
ル、メタアクリル酞゚チル、メタアクリル酞プロ
ピル、メタアクリル酞−ブチル、メタアクリル
酞む゜ブチル、メタアクリル酞−オクチル、メ
タアクリル酞ドデシル、メタアクリル酞ラりリ
ル、メタアクリル酞−゚チルヘキシル、メタア
クリル酞ステアリル、メタアクリル酞プニル、
メタアクリル酞ゞメチルアミノ゚チル、メタアク
リル酞ゞ゚チルアミノ゚チル、その他を挙げるこ
ずができる。 以䞊の劂きアクリレヌトモノマヌず、ポリ゚チ
レンずを甚い、通垞の方法及び条件に埓぀おブロ
ツク共重合を行なうこずによ぀お、倉性ポリ゚チ
レンより成るワツクスを埗るこずができる。具䜓
的には、リビングポリマヌを甚いる方法、或いは
ワツクスを機械化孊的に分割しお生ずるラゞカル
にアクリレヌトモノマヌを反応させおブロツク共
重合䜓を埗る方法を等を利甚するこずができる。
倉性成分であるアクリレヌトモノマヌずしお奜た
しいものの具䜓䟋ずしおは、アクリル酞メチル、
メタアクリル酞メチル、メタアクリル酞−ブチ
ル等を挙げるこずができる。ここに倉性ポリ゚チ
レンにおける倉性成分の割合は0.1〜15重量で
あり、特に〜10重量の範囲内が奜たしい。こ
の割合が過小であればトナヌの流動性の䜎䞋が甚
だしいものずなり、過倧であればトナヌの最䜎定
着枩床が高くなる。 たた䞊蚘の倉性ポリ゚チレンずしおは、その軟
化点JIS K2531−1960に芏定される環球法によ
り枬定したずきの倀が90〜160℃のものが甚い
られる。 本発明によるトナヌは、䞊述の倉性ポリ゚チレ
ンより成るワツクスの存圚䞋においお重合性単量
䜓を懞濁重合せしめお埗られるスチレン−アクリ
ル共重合䜓䞭に、着色剀、磁性䜓、特性改良剀、
その他必芁ずされる添加剀が含有されお成る粉粒
䜓である。 着色剀ずしおは、カヌボンブラツク、ニグロシ
ン染料C.I.No.50415B、アニリンブルヌC.I.No.
50405、カルコオむルブルヌC.I.No.azoec Blue
、クロムむ゚ロヌC.I.No.14090、りルトラ
マリンブルヌC.I.No.77103、デナポンオむルレ
ツドC.I.No.26105、キノリンむ゚ロヌC.I.No.
47005、メチレンブルヌクロラむドC.I.No.
52015、フタロシアニンブルヌC.I.No.74160、
マラカむトグリヌンオクサレヌトC.I.No.
42000、ランプブラツクC.I.No.77266、ロヌズ
ベンガルC.I.No.45435、これらの混合物、その
他を挙げるこずができる。これら着色剀は、十分
な濃床の可芖像が圢成されるに十分な割合で含有
されるこずが必芁であり、通垞バむンダヌ暹脂
100重量郚に察しお〜20重量郚皋床の割合ずさ
れる。 前蚘磁性䜓ずしおは、プラむト、マグネタむ
トを始めずする鉄、コバルト、ニツケルなどの匷
磁性を瀺す金属若しくは合金又はこれらの元玠を
含む化合物、或いは匷磁性元玠を含たないが適圓
な熱凊理を斜すこずによ぀お匷磁性を瀺すように
なる合金、䟋えばマンガン−銅−アルミニりム、
マンガン−銅−錫などのマンガンず銅ずを含むホ
むスラヌ合金ず呌ばれる皮類の合金、又は二酞化
クロム、その他を挙げるこずができる。これらの
磁性䜓は平均粒埄0.1〜ミクロンの埮粉末の圢
でバむンダヌ䞭に均䞀に分散される。そしおその
含有量は、トナヌ100重量郚圓り20〜70重量郚、
奜たしくは40〜70重量郚である。 前蚘特性改良剀ずしおは、荷電制埡剀、オフセ
ツト防止剀、流動性改善甚滑剀その他がある。 本発明トナヌは、鉄粉、ガラスビヌズ等より成
るキダリアず混合されお二成分珟像剀ずされる
が、磁性䜓が含有されるずきはそのたた䞀成分珟
像剀ずしお静電荷像の珟像に䟛される。 〔発明の効果〕 本発明によるトナヌは比MWMnの倀が3.5以
䞊の重合䜓をバむンダヌずしおいるため、圓該重
合䜓が高分子量成分ず䜎分子量成分ずより成りそ
れ自䜓が基本的に高いオフセツト発生枩床ず䜎い
最䜎定着枩床を有するものである。しかも本発明
によるトナヌは、既述のような倉性ポリ゚チレン
より成るワツクスを含有しおおり、曎に圓該ワツ
クスはバむンダヌずしおの重合䜓を䞎えた重合性
単量䜓の重合反応系に存圚されるこずによ぀お重
合䜓䞭に含有されるため、埌述する実斜䟋の説明
からも明らかなように、バむンダヌの重合䜓の比
MWMnの倀が3.5以䞊であるこずによ぀お埗ら
れるものより䞀段ず優れた䜎枩定着性ず非オフセ
ツト性ずが埗られ、オフセツト発生枩床が高いに
もかかわらず最䜎定着枩床が䜎くお熱ロヌラ定着
噚による高速定着に奜適である。たたワツクスの
添加による流動性の䜎䞋が殆ど生ずるこずがなく
お必芁な流動性を埗るために疏氎性シリカ埮粉末
などの流動性向䞊剀の添加が䞍芁ずなり或いは添
加が必芁ずされる堎合であ぀おもその添加量が僅
少量で十分であり、埓぀お疏氎性シリカ埮粉末を
倚量に添加するこずによる匊害を回避するこずが
できる。曎に非凝集性が高くお優れた保存性を有
する。埓぀お本発明のトナヌによれば、高い流動
性及び非凝集性を有するこずにより良奜な珟像を
達成するこずができるず共に、䜎枩で高速に定着
するこずができ、この結果、画像濃床が高くお優
れた可芖画像を垞に安定しお圢成するこずができ
る。加えお、本発明のトナヌは最䜎定着枩床が䜎
いものであるので定着時にトナヌ像支持䜓である
玙を高枩に曝すこずが回避され、このためシワの
発生が抑制されるので圓該支持䜓の䞡面にトナヌ
による可芖画像を圢成するこずが実甚䞊十分に可
胜ずなる。 本発明によるトナヌが以䞊の劂き優れた特性を
有する理由は厳密には解明されおいないが、バむ
ンダヌが基本的に優れた特性を有する䞊、ポリ゚
チレンより成るワツクスが含有されおいるために
オフセツト発生枩床が高いたた最䜎定着枩床が䜎
䞋するこず、圓該ワツクスは倉性ポリ゚チレンで
あ぀おスチレン−アクリル共重合䜓より成るバむ
ンダヌ暹脂に察しお倧きな芪和性を有する倉性成
分を分子構造䞭に有し、埓぀おそれ自䜓のバむン
ダヌ暹脂に察する盞溶性が高く、しかも未倉性の
ポリ゚チレンワツクスに比しお倉性成分により粘
着性が小さくお流動性が倧きいこず、䞊びに前蚘
倉性ポリ゚チレンのワツクスは、バむンダヌずさ
れおいる圓該重合䜓を生成した重合性単量䜓の重
合反応系に存圚せしめられるこずによ぀お含有さ
れおいるため、圓該重合䜓においお均䞀に安定し
た状態ずされおおり、このため、ワツクスがトナ
ヌ粒子の衚面に遊離しお存圚するようなこずが党
くなくおトナヌの流動性が䜎䞋するこずがなく、
たたトナヌにおける前蚘ワツクスの含有割合を倧
きくするこずができおその優れた特性を十分に発
揮させるこずができるからであるず考えられる。
そしお懞濁重合によ぀お盎接的にトナヌを補造す
るので、埗られる粒子が本質的に球圢のものずな
り、粉砕工皋を含む方法により補造されるトナヌ
より流動性の䞀局優れたトナヌが埗られる。 〔実斜䟋〕 以䞋本発明の実斜䟋に぀いお説明するが、これ
らによ぀お本発明が限定されるものではない。な
お「郚」は重量郚を衚わす。 実斜䟋  スチレン 85郚 アクリル酞−ブチル 15郚 ゚チレングリコヌルゞメタクリレヌト 0.4郚 カヌボンブラツク「䞉菱カヌボンブラツクMA
−600」 䞉菱化成瀟補 10郚 2′−アゟビス−ゞメチルバレロニ
トリル 郚 倉性ワツクス 郚 䞊蚘倉性ワツクスは、メタアクリル酞−ブチ
ルによりブロツク共重合せしめたポリ゚チレンワ
ツクスメタアクリル酞−ブチル成分の含有割
合が重量、軟化点110℃である。 以䞊の物質をサンドスタヌラにより十分に混合
しお重合開始剀を含有する重合性組成物を䜜぀
た。 この重合性組成物を、リン酞カルシりム重量
ずドデシルベンれンスルホン酞ナトリりム0.04
重量ずを含有するコロむド溶液䞭に、攪拌機
「TKホモゞナむザヌ」特殊工業瀟補により回
転数9500r.p.m.で攪拌しながら添加し、その埌通
垞の攪拌機により回転数100r.p.m.で攪拌しなが
ら枩床60℃で時間重合反応させた。埗られた重
合䜓は、MW160000、Mn15000、MWMn
10.7であ぀た。重合反応終了埌、反応系を冷华し
お垌塩酞凊理し、脱氎、掗浄及び也燥しお平均粒
埄10ミクロン、軟化点140℃のトナヌを補造した。
これを「トナヌ」ずする。 実斜䟋  スチレン 80郚 アクリル酞−ブチル 20郚 カヌボンブラツク「䞉菱カヌボンブラツクMA
−600」 1.0郚 2′−アゟビスゞメチルバレロニト
リル 1.0郚 1′−アゟビスシクロヘキサン−−カル
ボニトリル 0.2郚 倉性ワツクス実斜䟋ず同じ倉性ワツクス
郚 以䞊の物質を甚い、実斜䟋ず同様にしお枩床
80℃で時間重合反応させおMW140000、Mn
9000、MWMn15.6の重合䜓による平均粒埄
10ミクロン、軟化点138℃のトナヌを補造した。
これを「トナヌ」ずする。 実斜䟋  スチレン 70郚 メタアクリル酞メチル 20郚 アクリル酞−ブチル 10郚 カヌボンブラツク「30」 10郚 αω−ポリブタゞ゚ングリコヌル 「NISSO−PB−−1000」日本曹達瀟補
10郚 アゟビスむ゜ブチロニトリル 郚 倉性ワツクス実斜䟋ず同じ倉性ワツクス
郚 以䞊の物質を甚い、実斜䟋ず同様にしお枩床
70℃で時間重合反応させおMW120000、Mn
16000、MWMn7.5の重合䜓による平均粒埄
10ミクロン、軟化点137℃のトナヌを補造した。
これを「トナヌ」ずする。 実斜䟋  実斜䟋においお、倉性ワツクスの䜿甚量を10
郚ずしたほかは実斜䟋ず同様にしお平均粒埄10
ミクロンのトナヌを補造した。これを「トナヌ
」ずする。 実斜䟋  倉性ワツクスずしお、メタアクリル酞−ブチ
ルによりブロツク共重合せしめたポリ゚チレンワ
ツクスメタアクリル酞−ブチル成分の含有割
合が重量、軟化点114℃を甚いたほかは実
斜䟋ず同様にしお平均粒埄10ミクロンのトナヌ
を補造した。これを「トナヌ」ずする。 実斜䟋  実斜䟋におけるカヌボンブラツクの代りに、
四䞉酞化鉄粉末「マピコブラツクBL−100」チ
タン工業瀟補の50郚を甚いたほかは実斜䟋ず
同様にしお平均粒埄10ミクロンのトナヌを補造し
た。これを「トナヌ」ずする。 実斜䟋  実斜䟋における凊方からカヌボンブラツクを
陀倖したほかは実斜䟋ず同様にしお重合䜓を埗
た。この重合䜓の100郚ず、カヌボンブラツク
「モヌガル」10郚ずを混合し、溶融、混緎、冷
华、粉砕及び分玚を行なうこずにより平均粒埄10
ミクロンのトナヌを補造した。これを「トナヌ
」ずする。 比范䟋  実斜䟋においお、倉性ワツクスを陀倖したほ
かは実斜䟋ず同様にしお平均粒埄10ミクロンの
比范甚トナヌを補造した。これを「比范トナヌ
」ずする。 比范䟋  実斜䟋における倉性ワツクスの代りに、倉性
されおいないポリ゚チレンワツクス「ハむワツク
ス220P」軟化点113℃、䞉井石油化孊瀟補を
甚いたほかは実斜䟋ず同様にしお平均粒埄10ミ
クロンの比范甚トナヌを補造した。これを「比范
トナヌ」ずする。 比范䟋  実斜䟋においお、倉性ワツクスを陀去したほ
かは実斜䟋ず同様にしお平均粒埄10ミクロンの
比范甚トナヌを補造した。これを「比范トナヌ
」ずする。 比范䟋  実斜䟋における倉性ワツクスの代りに、倉性
されおいないポリ゚チレンワツクス「ハむワツク
ス220P」軟化点113℃、䞉井石油化孊瀟補を
甚いたほかは実斜䟋ず同様にしお平均粒埄10ミ
クロンの比范甚トナヌを補造した。これを「比范
トナヌ」ずする。 比范䟋  スチレン 80郚 アクリル酞−ブチル 20郚 カヌボンブラツク「䞉菱カヌボンブラツクMA
−600」 10郚 2′−アゟビス−ゞメチルバレロニ
トリル 郚 倉性ワツクス実斜䟋ず同じ倉性ワツクス
郚 以䞊の物質を甚い、実斜䟋ず同様にしお枩床
60℃で時間重合反応させおMW60000、Mn
20000、MWMn3.0の重合䜓による平均粒埄10
ミクロン、軟化点135℃のトナヌを補造した。こ
れを「比范トナヌ」ずする。 比范䟋  スチレン85郚ずアクリル酞−ブチル15郚ずを
架橋剀゚チレングリコヌルゞメタアクリレヌトの
存圚䞋に重合しお埗た架橋重合䜓MW
160000Mn15000MWMn10.7 100郚 カヌボンブラツク「䞉菱カヌボンブラツクMA
−600」 10郚 倉性ワツクス実斜䟋ず同様のワツクス
郚 以䞊の物質を混合し、溶融、混緎、冷华、粉砕
及び分玚の工皋による通垞のトナヌ補造方法によ
り平均粒埄10ミクロンの比范甚トナヌを補造し
た。これを「比范トナヌ」ずする。 以䞊のようにしお埗られたトナヌ〜トナヌ
及び比范トナヌ〜比范トナヌの各々に぀いお
流動性を調べた。即ち、流動性の高い粉粒䜓ほど
静かさ密床が高くなるこずを利甚しお、盎埄28
mm、容積100mlの容噚に䞊方から100メツシナの篩
を通しお詊料を疎充填し、重量を枬定しお静かさ
密床を求めた。 たた、トナヌ䞊びに比范トナヌ及び比范ト
ナヌ以倖の合蚈10皮のトナヌの各々ず、暹脂被
芆が斜された鉄粉より成るキダリアずを混合した
トナヌ濃床が重量でトナヌ垯電量が±マむ
クロクヌロンずなる珟像剀を調敎し、その
各々により、電子写真耇写機「−Bix3000」
小西六写真工業瀟補を甚いお静電荷像の珟像、
転写玙ぞのトナヌ像の転写及びトナヌ像の熱ロヌ
ラ定着噚による定着を行ない、感光䜓ドラム衚面
ぞのトナヌの䞀次付着量、転写玙ぞの転写率及び
埗られた耇写画像の画像濃床を枬定した。ここに
トナヌの䞀次付着量は、いわゆるベタ黒電䜍が
800Vの個所における単䜍面積圓りのトナヌ付着
量である。 曎にすべおのトナヌの各々に぀いお、その最䜎
定着枩床及びオフセツト発生枩床を求め、たた保
存性に぀いお評䟡を行な぀た。最䜎定着枩床に぀
いおは、衚局がテフロンデナポン瀟補ポリテト
ラフルオロ゚チレンで圢成した熱ロヌラず、衚
局を、シリコンゎム「KE−1300RTV」信越化
孊工業瀟補で圢成した圧着ロヌラずより成る定
着噚により、64m2の転写玙に転写せしめた詊
料トナヌによるトナヌ像を線速床120mm秒で定
着せしめる操䜜を、熱ロヌラの蚭定枩床を100℃
より℃づ぀段階的に高くした各枩床においお繰
り返し、圢成された定着画像に察しおキムワむプ
摺擊を斜し、十分な耐摺擊性を瀺す定着画像に係
る最䜎の蚭定枩床をも぀お最䜎定着枩床ずした。
なおここに甚いた定着噚はシリコンオむル䟛絊機
構を有さぬものである。 たたオフセツト発生枩床の枬定は、最䜎定着枩
床の枬定に準じお、トナヌ像を転写しお䞊述の定
着噚により定着凊理を行ない、次いで癜玙の転写
玙を同様の条件䞋で定着噚に送぀おこれにトナヌ
汚れが生ずるか吊かを芳察する操䜜を、前蚘定着
噚の熱ロヌラの蚭定枩床を順次䞊昇させた状態で
繰り返し、オフセツト発生枩床を求めた。 たた保存性に぀いおは、各詊料を枩床55℃、盞
察湿床40の条件䞋に48時間攟眮したずきの凝集
の発生の有無及びその皋床を評䟡した。 以䞊の結果を第衚に瀺す。衚䞭、オフセツト
発生枩床に぀いおを付したものは、その枩床で
なおオフセツト珟象が生じなか぀たこずを瀺す。
【衚】 たたトナヌ〜トナヌ及びトナヌの各々に
より電子写真耇写機「−Bix3000」を甚いお
20000回に亘る連続耇写テスト行な぀たずころ、
䜕れのトナヌによる堎合にも、最埌たで鮮明で良
奜な耇写画像が圢成された。 以䞊の結果から明かなように、本発明によるト
ナヌは、優れた非オフセツト性を有するず共に最
䜎定着枩床が非垞に䜎くお埓来の未倉性ポリ゚チ
レンワツクスなどを含有するトナヌに比しお定着
可胜枩床範囲が広く、その䞊、流動性が高くお流
動性向䞊剀が添加されなくおも十分に実甚に䟛す
るこずができ、珟像性及び転写性も優れおおり、
垞に安定しお良奜な可芖画像を圢成するこずがで
きる。 たた、実斜䟋ず比范䟋ずの比范から理解さ
れるように、倉性ワツクスの存圚䞋においお単量
䜓を重合せしめるこずにより倉性ワツクスを含有
せしめた重合䜓による堎合には、混緎により含有
せしめた重合䜓による堎合に比しお倧きな流動性
が埗られ、曎に実斜䟋から理解されるように、
本発明による堎合には、トナヌ䞭に倚量の倉性ワ
ツクスを含有せしめおこれにより最䜎定着枩床を
倧幅に䜎䞋させながらしかも十分な流動性を保持
させるこずができる。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  アクリル酞゚ステルたたはメタクリル酞゚ス
    テルからなるアクリレヌトモノマヌを倉性成分ず
    しおこの倉性成分を0.1〜15重量の割合でブロ
    ツク共重合せしめたポリ゚チレンより成る、軟化
    点が90〜160℃のワツクスの存圚䞋においお、重
    合性単量䜓を難溶性無機化合物の埮粉末より成る
    懞濁安定剀の存圚䞋においお懞濁重合せしめるこ
    ずにより、数平均分子量に察する重量平均分子量
    の比の倀が3.5以䞊であるスチレン−アクリル共
    重合䜓を埗る工皋を含み、 前蚘重合性単量䜓に察する前蚘ワツクスの割合
    が〜20重量であるこずを特城ずする静電荷像
    珟像甚トナヌの補造方法。
JP58189887A 1983-10-13 1983-10-13 静電荷像珟像甚トナヌの補造方法 Granted JPS6083039A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58189887A JPS6083039A (ja) 1983-10-13 1983-10-13 静電荷像珟像甚トナヌの補造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58189887A JPS6083039A (ja) 1983-10-13 1983-10-13 静電荷像珟像甚トナヌの補造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6083039A JPS6083039A (ja) 1985-05-11
JPH0430581B2 true JPH0430581B2 (ja) 1992-05-22

Family

ID=16248838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58189887A Granted JPS6083039A (ja) 1983-10-13 1983-10-13 静電荷像珟像甚トナヌの補造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6083039A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3869218B2 (ja) * 2001-02-06 2007-01-17 䞉菱化孊株匏䌚瀟 静電荷珟像甚トナヌ及びその補造方法
JP4114559B2 (ja) 2003-06-27 2008-07-09 コニカミノルタビゞネステクノロゞヌズ株匏䌚瀟 静電荷像珟像甚トナヌ及び静電荷像珟像甚トナヌの補造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6083039A (ja) 1985-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5066560A (en) Process for producing toner for electrophotography
JPS6358355B2 (ja)
JPS5918697B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナ−
JPWO1997001131A1 (ja) 静電荷像珟像甚トナヌの補造方法
JPS61167955A (ja) 電子写真甚トナ−の補造法
JP2605705B2 (ja) 電子写真甚トナヌの補造法
JPS5914748B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナ−
JPH0430580B2 (ja)
JPH023180B2 (ja)
JPS5914747B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナ−
JPS60103355A (ja) 静電荷像珟像甚トナ−
JPS5916262B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナ−
JPH0629989B2 (ja) 電子写真甚トナヌの補造法
JPS5914749B2 (ja) 静電荷像珟像甚トナ−
JPH0322982B2 (ja)
JPH023179B2 (ja)
JPH0354343B2 (ja)
JPH0193748A (ja) 電子写真甚トナヌの補造方法
JPS6135454A (ja) トナ−
JPS6023860A (ja) 静電荷像珟像甚トナ−及びその補造方法
JPH0430579B2 (ja)
JPH0646306B2 (ja) 電子写真甚トナ−の補造法
JP2004301990A (ja) トナヌ
JPH0323905B2 (ja)
JPS59174855A (ja) 静電荷像珟像甚トナ−