JPH04319436A - 積層ポリフェニレンスルフィドフイルムおよびその製造方法 - Google Patents
積層ポリフェニレンスルフィドフイルムおよびその製造方法Info
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- JPH04319436A JPH04319436A JP3086875A JP8687591A JPH04319436A JP H04319436 A JPH04319436 A JP H04319436A JP 3086875 A JP3086875 A JP 3086875A JP 8687591 A JP8687591 A JP 8687591A JP H04319436 A JPH04319436 A JP H04319436A
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- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、積層ポリフェニレンス
ルフィドフイルムおよびその製造方法に関し、更に詳し
くは、接着性、特にヒートシール性に優れ、機械特性お
よび耐熱性の良好な積層ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムおよびその製造方法に関する。
ルフィドフイルムおよびその製造方法に関し、更に詳し
くは、接着性、特にヒートシール性に優れ、機械特性お
よび耐熱性の良好な積層ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリフェニレンスルフィドフイルムは、
機械的特性、耐熱性に優れるため種々の分野への応用が
有望視され、提案されている。例えば、特開昭５７−１
２１０５２号公報には、ポリフェニレンスルフィドの無
配向シートが開示され、特開昭５４−１４２２７５号公
報には２軸配向フイルムが開示されている。無配向シー
トは、引き裂き強さには富むが、高温にさらされると、
急激に機械的強度が低下したり、長期の耐熱性に乏しく
欠点を有する。一方、２軸配向フイルムは、引き裂き強
さ以外の機械的特性は無配向シートに比べ大幅に向上し
、耐薬品性、長期の耐熱性が極めて優れているという特
長を有する。しかしながら、耐薬品性、耐熱性が優れて
いることからも明らかなように表面が不活性なため接着
性が乏しく、そのため、包装用、電気絶縁用、一般工業
用等の用途に用いるためには、接着性、特にヒートシー
ル性を付与する必要があった。
機械的特性、耐熱性に優れるため種々の分野への応用が
有望視され、提案されている。例えば、特開昭５７−１
２１０５２号公報には、ポリフェニレンスルフィドの無
配向シートが開示され、特開昭５４−１４２２７５号公
報には２軸配向フイルムが開示されている。無配向シー
トは、引き裂き強さには富むが、高温にさらされると、
急激に機械的強度が低下したり、長期の耐熱性に乏しく
欠点を有する。一方、２軸配向フイルムは、引き裂き強
さ以外の機械的特性は無配向シートに比べ大幅に向上し
、耐薬品性、長期の耐熱性が極めて優れているという特
長を有する。しかしながら、耐薬品性、耐熱性が優れて
いることからも明らかなように表面が不活性なため接着
性が乏しく、そのため、包装用、電気絶縁用、一般工業
用等の用途に用いるためには、接着性、特にヒートシー
ル性を付与する必要があった。
【０００３】従来、接着性を向上する方法として、コロ
ナ処理を行なうこと（特開昭５７−１８７３２７号公報
）が開示されているが、未処理に比べて若干の向上は認
められるものの不十分であり、ヒートシール性に関して
は、ほとんど改良は認められなかった。さらに接着剤を
塗布することも提案されているが、接着剤自体が耐熱性
に劣るばかりか、接着剤の熱による劣化が、ポリフェニ
レンスルフィドフイルムの劣化を促進するため、耐熱性
が著しく低下してしまう欠点があった。
ナ処理を行なうこと（特開昭５７−１８７３２７号公報
）が開示されているが、未処理に比べて若干の向上は認
められるものの不十分であり、ヒートシール性に関して
は、ほとんど改良は認められなかった。さらに接着剤を
塗布することも提案されているが、接着剤自体が耐熱性
に劣るばかりか、接着剤の熱による劣化が、ポリフェニ
レンスルフィドフイルムの劣化を促進するため、耐熱性
が著しく低下してしまう欠点があった。
【０００４】また、２軸配向ポリフェニレンスルフィド
フイルムのもつ引き裂き強さが劣るという欠点に対して
、ｐ−フェニレンスルフィド単位以外の共重合単位を導
入したフイルムが開示されている（特開昭６１−９８５
２６号公報）。しかしながら、該フイルムは引き裂き強
さの改良は見られるものの、他の機械特性が低下する問
題があった。
フイルムのもつ引き裂き強さが劣るという欠点に対して
、ｐ−フェニレンスルフィド単位以外の共重合単位を導
入したフイルムが開示されている（特開昭６１−９８５
２６号公報）。しかしながら、該フイルムは引き裂き強
さの改良は見られるものの、他の機械特性が低下する問
題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
のポリフェニレンスルフィドフイルムの上記の欠点を解
消し、接着性に優れ、特にヒートシール性を有し、機械
特性、耐熱性もバランスされたフイルムおよびその製造
方法を提供するものである。
のポリフェニレンスルフィドフイルムの上記の欠点を解
消し、接着性に優れ、特にヒートシール性を有し、機械
特性、耐熱性もバランスされたフイルムおよびその製造
方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、以下の構成としたものである。すなわち
、 １．２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルム
からなる中心層（Ｂ層）の少なくとも片側に、ｐ−フェ
ニレンスルフィド単位以外の少なくとも１種以上の共重
合単位を共重合した共重合ポリフェニレンスルフィドフ
イルムからなる表面層（Ａ層）が積層されてなり、さら
に各層を構成する樹脂組成が下記（１）〜（４）式を満
足することを特徴とする積層ポリフェニレンスルフィド
フイルム。
達成するため、以下の構成としたものである。すなわち
、 １．２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルム
からなる中心層（Ｂ層）の少なくとも片側に、ｐ−フェ
ニレンスルフィド単位以外の少なくとも１種以上の共重
合単位を共重合した共重合ポリフェニレンスルフィドフ
イルムからなる表面層（Ａ層）が積層されてなり、さら
に各層を構成する樹脂組成が下記（１）〜（４）式を満
足することを特徴とする積層ポリフェニレンスルフィド
フイルム。
【０００７】
５０≦ＰＰＳＦ（Ａ）≦９５ （１
）ＰＰＳＦ（Ｂ）≧９０
（２）３≦ＣＯＰＦ（Ａ）＜５０
（３）ＰＰＳＦ（Ａ）＜ＰＰＳＦ（Ｂ）
（４）ＰＰＳＦ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニ
レンスルフィド単位の全繰り返し単位に対するモル％で
表わされた含有量 ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 ＣＯＰＦ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位に次いで多く含有されている共重合単位の全繰り
返し単位に対するモル％で表わされた含有量２．Ａ層の
共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムが実質的に無
配向である上記１項に記載の積層ポリフェニレンスルフ
ィドフイルム。
）ＰＰＳＦ（Ｂ）≧９０
（２）３≦ＣＯＰＦ（Ａ）＜５０
（３）ＰＰＳＦ（Ａ）＜ＰＰＳＦ（Ｂ）
（４）ＰＰＳＦ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニ
レンスルフィド単位の全繰り返し単位に対するモル％で
表わされた含有量 ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 ＣＯＰＦ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位に次いで多く含有されている共重合単位の全繰り
返し単位に対するモル％で表わされた含有量２．Ａ層の
共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムが実質的に無
配向である上記１項に記載の積層ポリフェニレンスルフ
ィドフイルム。
【０００８】３．Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位に次いで多く含有されている共重合単位がｍ−フ
ェニレンスルフィド単位である上記１項に記載の積層ポ
リフェニレンスルフィドフイルム。
ド単位に次いで多く含有されている共重合単位がｍ−フ
ェニレンスルフィド単位である上記１項に記載の積層ポ
リフェニレンスルフィドフイルム。
【０００９】４．Ａ層の厚みが０．０１〜５μｍである
上記１項に記載の積層ポリフェニレンスルフィドフイル
ム。
上記１項に記載の積層ポリフェニレンスルフィドフイル
ム。
【００１０】５．ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成
物（Ｂ）の少なくとも片側に、下記（５）〜（８）式を
満足するようにｐ−フェニレンスルフィド単位以外の少
なくとも１種以上の共重合単位を共重合した共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物（Ａ）を共押出して、積層
シートを得、該積層シートを２軸延伸し、更に熱処理す
ることを特徴とする上記１項に記載の積層ポリフェニレ
ンスルフィドフイルムの製造方法。
物（Ｂ）の少なくとも片側に、下記（５）〜（８）式を
満足するようにｐ−フェニレンスルフィド単位以外の少
なくとも１種以上の共重合単位を共重合した共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物（Ａ）を共押出して、積層
シートを得、該積層シートを２軸延伸し、更に熱処理す
ることを特徴とする上記１項に記載の積層ポリフェニレ
ンスルフィドフイルムの製造方法。
【００１１】
５０≦ＰＰＳＰ（Ａ）≦９５ （５
）ＰＰＳＰ（Ｂ）≧９０
（６）３≦ＣＯＰＰ（Ａ）＜５０
（７）ＰＰＳＰ（Ａ）＜ＰＰＳＰ（Ｂ）
（８）ＰＰＳＰ（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド
単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有
量ＰＰＳＰ（Ｂ）：Ｂのポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全繰
り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰＰ
（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレンスルフィド組成物に
おけるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多く含有
されている共重合単位の全繰り返し単位に対するモル％
で表わされた含有量 以下、本発明を詳細に説明する。
）ＰＰＳＰ（Ｂ）≧９０
（６）３≦ＣＯＰＰ（Ａ）＜５０
（７）ＰＰＳＰ（Ａ）＜ＰＰＳＰ（Ｂ）
（８）ＰＰＳＰ（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド
単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有
量ＰＰＳＰ（Ｂ）：Ｂのポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全繰
り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰＰ
（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレンスルフィド組成物に
おけるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多く含有
されている共重合単位の全繰り返し単位に対するモル％
で表わされた含有量 以下、本発明を詳細に説明する。
【００１２】まず、本発明の積層ポリフェニレンスルフ
ィドフイルムについて述べる。
ィドフイルムについて述べる。
【００１３】本発明において表面層（Ａ層）とは、２軸
配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムからなる
中心層（Ｂ層）の少なくとも一方の表面にあって本発明
の積層ポリフェニレンスルフィドフイルムの少なくとも
１表面をなすものである。
配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムからなる
中心層（Ｂ層）の少なくとも一方の表面にあって本発明
の積層ポリフェニレンスルフィドフイルムの少なくとも
１表面をなすものである。
【００１４】該表面層を構成するフイルムは、共重合ポ
リフェニレンスルフィドフイルムである。本発明におい
て、共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムとは、共
重合ポリフェニレンスルフィドを主成分とする共重合ポ
リフェニレンスルフィド組成物からなるフイルムであり
、共重合ポリフェニレンスルフィドがフイルムの８０ｗ
ｔ％以上、好ましくは９０ｗｔ％以上、さらに好ましく
は９５ｗｔ％以上を占めるものを言う。残りの２０ｗｔ
％未満、好ましくは１０ｗｔ％未満、さらに好ましくは
５ｗｔ％未満であれば共重合ポリフェニレンスルフィド
以外の有機、無機の添加剤、不活性粒子等を含むことは
差し支えない。
リフェニレンスルフィドフイルムである。本発明におい
て、共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムとは、共
重合ポリフェニレンスルフィドを主成分とする共重合ポ
リフェニレンスルフィド組成物からなるフイルムであり
、共重合ポリフェニレンスルフィドがフイルムの８０ｗ
ｔ％以上、好ましくは９０ｗｔ％以上、さらに好ましく
は９５ｗｔ％以上を占めるものを言う。残りの２０ｗｔ
％未満、好ましくは１０ｗｔ％未満、さらに好ましくは
５ｗｔ％未満であれば共重合ポリフェニレンスルフィド
以外の有機、無機の添加剤、不活性粒子等を含むことは
差し支えない。
【００１５】さらに共重合ポリフェニレンスルフィドと
はｐ−フェニレンスルフィド単位を主たる繰り返し単位
として、下記（１）、（３）式を満足するように１種以
上の共重合単位を共重合して構成されたものを言う。
はｐ−フェニレンスルフィド単位を主たる繰り返し単位
として、下記（１）、（３）式を満足するように１種以
上の共重合単位を共重合して構成されたものを言う。
【００１６】
５０≦ＰＰＳＦ（Ａ）≦９５ （１）３≦Ｃ
ＯＰＦ（Ａ）＜５０ （３）ＰＰＳＦ（
Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全
繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰ
Ｆ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィド単位
に次いで多く含有されている共重合単位の全繰り返し単
位に対するモル％で表わされた含有量共重合ポリフェニ
レンスルフィドにおけるｐ−フェニレンスルフィド単位
の含有量は、全繰り返し単位に対して５０モル％以上９
５モル％以下、好ましくは、７０モル％以上９２モル％
以下、さらに好ましくは７５モル％以上９０モル％以下
である。ｐ−フェニレンスルフィド単位が５０モル％よ
り少ないと、積層フイルムとしてもヒートシール性はも
はや飽和に達するばかりか、機械的特性、耐熱性が低下
するため好ましくない。また、９５モル％より多いとヒ
ートシール性が発現せず好ましくない。共重合単位とし
ては、ｍ−フェニレンスルフィド単位、
ＯＰＦ（Ａ）＜５０ （３）ＰＰＳＦ（
Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全
繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰ
Ｆ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィド単位
に次いで多く含有されている共重合単位の全繰り返し単
位に対するモル％で表わされた含有量共重合ポリフェニ
レンスルフィドにおけるｐ−フェニレンスルフィド単位
の含有量は、全繰り返し単位に対して５０モル％以上９
５モル％以下、好ましくは、７０モル％以上９２モル％
以下、さらに好ましくは７５モル％以上９０モル％以下
である。ｐ−フェニレンスルフィド単位が５０モル％よ
り少ないと、積層フイルムとしてもヒートシール性はも
はや飽和に達するばかりか、機械的特性、耐熱性が低下
するため好ましくない。また、９５モル％より多いとヒ
ートシール性が発現せず好ましくない。共重合単位とし
ては、ｍ−フェニレンスルフィド単位、
【００１７】
【化１】
【００１８】
【化２】
【００１９】（ここでＸは、アルキレン、ＣＯ、ＳＯ２
単位を示す）
単位を示す）
【００２０】
【化３】
【００２１】
【化４】
【００２２】（ここでＲはアルキル、ニトロ、フェニル
、アルコキシ基を示す）が挙げられ、これらの複数の単
位が存在してもかまわない。好ましい共重合単位はｍ−
フェニレンスルフィド単位である。これら単位の共重合
量は、共重合ポリフェニレンスルフィドの主たる繰り返
し単位であるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多
い共重合単位が、全繰り返し単位に対して３モル％以上
５０モル％未満、好ましくは５モル％以上３０モル％未
満、さらに好ましくは８モル％以上２５モル％未満であ
る。該共重合量が３モル％未満では、ヒートシール性が
表われないため、好ましくなく、５０モル％を越えても
、機械的特性、耐熱性が損なわれるため好ましくない。
、アルコキシ基を示す）が挙げられ、これらの複数の単
位が存在してもかまわない。好ましい共重合単位はｍ−
フェニレンスルフィド単位である。これら単位の共重合
量は、共重合ポリフェニレンスルフィドの主たる繰り返
し単位であるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多
い共重合単位が、全繰り返し単位に対して３モル％以上
５０モル％未満、好ましくは５モル％以上３０モル％未
満、さらに好ましくは８モル％以上２５モル％未満であ
る。該共重合量が３モル％未満では、ヒートシール性が
表われないため、好ましくなく、５０モル％を越えても
、機械的特性、耐熱性が損なわれるため好ましくない。
【００２３】共重合ポリフェニレンスルフィドの繰り返
し単位の残りの部分については、他の共重合可能な単位
で構成されていてもよいが、
し単位の残りの部分については、他の共重合可能な単位
で構成されていてもよいが、
【００２４】
【化５】
【００２５】に代表される３官能フェニルスルフィド単
位は、共重合体全体の１モル％以下であることが好まし
い。
位は、共重合体全体の１モル％以下であることが好まし
い。
【００２６】本発明の共重合ポリフェニレンスルフィド
において、共重合の態様は、ランダム、ブロックを問わ
ないが、ランダムであることが好ましい。なお、共重合
組成は、その組成に応じたあらゆる手段によって決定で
きる。
において、共重合の態様は、ランダム、ブロックを問わ
ないが、ランダムであることが好ましい。なお、共重合
組成は、その組成に応じたあらゆる手段によって決定で
きる。
【００２７】本発明の共重合ポリフェニレンスルフィド
フイルムの融点は、２００℃以上、２８５℃以下である
ことが好ましい。溶融粘度は、３００℃、２００ｓｅｃ
−１の剪断速度で、５０〜２００００ポイズであること
が好ましく、１００〜１００００ポイズがより好ましい
。 さらに、本発明の共重合ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムは実質的に無配向であることが、積層フイルムのヒ
ートシール性がよりきわだって発現するため好ましい。 共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムの面配向度は
、好ましくは、０．０２０以下、さらに好ましくは０．
０１０以下である。
フイルムの融点は、２００℃以上、２８５℃以下である
ことが好ましい。溶融粘度は、３００℃、２００ｓｅｃ
−１の剪断速度で、５０〜２００００ポイズであること
が好ましく、１００〜１００００ポイズがより好ましい
。 さらに、本発明の共重合ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムは実質的に無配向であることが、積層フイルムのヒ
ートシール性がよりきわだって発現するため好ましい。 共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムの面配向度は
、好ましくは、０．０２０以下、さらに好ましくは０．
０１０以下である。
【００２８】本発明において中心層（Ｂ層）とは、本発
明のフイルムの厚さ方向のおおむね中心にあって、２軸
配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムからなる
層を言う。
明のフイルムの厚さ方向のおおむね中心にあって、２軸
配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムからなる
層を言う。
【００２９】本発明において２軸配向ポリ−ｐ−フェニ
レンスルフィドフイルムとは、２軸配向したポリ−ｐ−
フェニレンスルフィドを主成分とするポリ−ｐ−フェニ
レンスルフィド組成物からなるフイルムであり、ポリ−
ｐ−フェニレンスルフィドがフイルムの８０ｗｔ％以上
、好ましくは９０ｗｔ％以上、さらに好ましくは９５ｗ
ｔ％以上を占めるものを言う。残りの２０ｗｔ％未満、
好ましくは１０ｗｔ％未満、さらに好ましくは５ｗｔ％
未満であればポリ−ｐ−フェニレンスルフィド以外の有
機、無機の添加剤、不活性粒子等を含むことは差し支え
ない。
レンスルフィドフイルムとは、２軸配向したポリ−ｐ−
フェニレンスルフィドを主成分とするポリ−ｐ−フェニ
レンスルフィド組成物からなるフイルムであり、ポリ−
ｐ−フェニレンスルフィドがフイルムの８０ｗｔ％以上
、好ましくは９０ｗｔ％以上、さらに好ましくは９５ｗ
ｔ％以上を占めるものを言う。残りの２０ｗｔ％未満、
好ましくは１０ｗｔ％未満、さらに好ましくは５ｗｔ％
未満であればポリ−ｐ−フェニレンスルフィド以外の有
機、無機の添加剤、不活性粒子等を含むことは差し支え
ない。
【００３０】さらにここでポリ−ｐ−フェニレンスルフ
ィドとは、下記（２）式のように、全繰り返し単位の９
０モル％以上、好ましくは、９５％以上、さらに好まし
くは９７％以上が、ｐ−フェニレンスルフィド単位から
なるものである。
ィドとは、下記（２）式のように、全繰り返し単位の９
０モル％以上、好ましくは、９５％以上、さらに好まし
くは９７％以上が、ｐ−フェニレンスルフィド単位から
なるものである。
【００３１】
ＰＰＳＦ（Ｂ）≧９０ （２）
ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 ｐ−フェニレンスルフィド単位が９０モル％未満では、
ポリマの結晶性、熱転移温度等が低くなり積層フイルム
として２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイル
ムの特長である耐熱性、機械特性等を損なうため好まし
くない。全繰り返し単位の１０モル％未満であれば、ｐ
−フェニレンスルフィド単位と共重合可能な繰り返し単
位、たとえば共重合ポリフェニレンスルフィドの中で記
載した２官能単位や３官能単位を含んでもよい。ただし
、下記（４）式で示されるように、ｐ−フェニレンスル
フィド単位の共重合割合が、Ｂ層の２軸配向ポリ−ｐ−
フェニレンスルフィドフイルム中のほうがＡ層の共重合
ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルム中より高いこ
とが肝要である。
ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 ｐ−フェニレンスルフィド単位が９０モル％未満では、
ポリマの結晶性、熱転移温度等が低くなり積層フイルム
として２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイル
ムの特長である耐熱性、機械特性等を損なうため好まし
くない。全繰り返し単位の１０モル％未満であれば、ｐ
−フェニレンスルフィド単位と共重合可能な繰り返し単
位、たとえば共重合ポリフェニレンスルフィドの中で記
載した２官能単位や３官能単位を含んでもよい。ただし
、下記（４）式で示されるように、ｐ−フェニレンスル
フィド単位の共重合割合が、Ｂ層の２軸配向ポリ−ｐ−
フェニレンスルフィドフイルム中のほうがＡ層の共重合
ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルム中より高いこ
とが肝要である。
【００３２】
ＰＰＳＦ（Ａ）＜ＰＰＳＦ（Ｂ） （４）ＰＰＳ
Ｆ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィド単位
の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有量 ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 本発明の２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイ
ルムの溶融粘度は、３００℃、剪断速度２００ｓｅｃ−
１のもとで１００〜５００００ポイズの範囲であること
が好ましく、さらに好ましくは５００〜２００００ポイ
ズの範囲である。
Ｆ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィド単位
の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有量 ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 本発明の２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイ
ルムの溶融粘度は、３００℃、剪断速度２００ｓｅｃ−
１のもとで１００〜５００００ポイズの範囲であること
が好ましく、さらに好ましくは５００〜２００００ポイ
ズの範囲である。
【００３３】本発明の積層ポリフェニレンスルフィドフ
イルムにおいて、ヒートシール性、機械的特性、耐熱性
のバランスから、各層の厚みは、Ａ層の共重合ポリ−ｐ
−フェニレンスルフィドフイルムについては好ましくは
０．０１〜５μｍ、さらに好ましくは０．０５〜３μｍ
であり、Ｂ層の２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ドフイルムについては０．５〜１０００μｍである。ま
た、積層ポリフェニレンスルフィドフイルムは、２３０
℃で１０分間熱処理したときの長手方向の熱収縮率が、
好ましくは１０％以下、より好ましくは６％以下である
。さらに、本発明の積層ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムの一つの表面層の表面は、フイルムの取り扱い作業
性、加工性の点から、表面粗さは０．００５μｍ以上０
．１０μｍの範囲が好ましく、０．０１μｍ以上０．０
７μｍ以下がより好ましい。
イルムにおいて、ヒートシール性、機械的特性、耐熱性
のバランスから、各層の厚みは、Ａ層の共重合ポリ−ｐ
−フェニレンスルフィドフイルムについては好ましくは
０．０１〜５μｍ、さらに好ましくは０．０５〜３μｍ
であり、Ｂ層の２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ドフイルムについては０．５〜１０００μｍである。ま
た、積層ポリフェニレンスルフィドフイルムは、２３０
℃で１０分間熱処理したときの長手方向の熱収縮率が、
好ましくは１０％以下、より好ましくは６％以下である
。さらに、本発明の積層ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムの一つの表面層の表面は、フイルムの取り扱い作業
性、加工性の点から、表面粗さは０．００５μｍ以上０
．１０μｍの範囲が好ましく、０．０１μｍ以上０．０
７μｍ以下がより好ましい。
【００３４】次に、本発明の積層ポリ−ｐ−フェニレン
スルフィドフイルムの製造方法について述べる。
スルフィドフイルムの製造方法について述べる。
【００３５】本発明の積層ポリフェニレンスルフィドフ
イルムは、中心層をなす２軸配向ポリ−ｐ−フェニレン
スルフィドフイルムの少なくとも片側に、表面層をなす
共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムが積層された
ものである。
イルムは、中心層をなす２軸配向ポリ−ｐ−フェニレン
スルフィドフイルムの少なくとも片側に、表面層をなす
共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムが積層された
ものである。
【００３６】本発明において、表面層を形成する共重合
ポリフェニレンスルフィド組成物（Ａ）と中心層を形成
するポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物（Ｂ）は、
下記（５）〜（８）式を満足するものである。
ポリフェニレンスルフィド組成物（Ａ）と中心層を形成
するポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物（Ｂ）は、
下記（５）〜（８）式を満足するものである。
【００３７】
５０≦ＰＰＳＰ（Ａ）≦９５ （５
）ＰＰＳＰ（Ｂ）≧９０
（６）３≦ＣＯＰＰ（Ａ）＜５０
（７）ＰＰＳＰ（Ａ）＜ＰＰＳＰ（Ｂ）
（８）ＰＰＳＰ（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド
単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有
量ＰＰＳＰ（Ｂ）：Ｂのポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全繰
り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰＰ
（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレンスルフィド組成物に
おけるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多く含有
されている共重合単位の全繰り返し単位に対するモル％
で表わされた含有量 本発明の共重合ポリフェニレンスルフィドの重合方法と
しては、種々の方法があるが、硫化アルカリとｐ−ジハ
ロベンゼン（主成分モノマ）および副成分モノマを上記
（５）および（７）式を満足するように配合し極性溶媒
中で重合助剤の存在下に高温、高圧で重合する方法が、
得られるポリマの重合度が上昇しやすく好ましい。特に
、硫化アルカリとして硫化ナトリウム、主成分モノマと
してｐ−ジクロルベンゼン、溶媒としてＮ−メチルピロ
リドンを用いるのが最も好ましい。ｐ−ジハロベンゼン
（主成分モノマ）とともに副成分モノマを共存させる副
成分モノマとしては、
）ＰＰＳＰ（Ｂ）≧９０
（６）３≦ＣＯＰＰ（Ａ）＜５０
（７）ＰＰＳＰ（Ａ）＜ＰＰＳＰ（Ｂ）
（８）ＰＰＳＰ（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド
単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有
量ＰＰＳＰ（Ｂ）：Ｂのポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全繰
り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰＰ
（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレンスルフィド組成物に
おけるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多く含有
されている共重合単位の全繰り返し単位に対するモル％
で表わされた含有量 本発明の共重合ポリフェニレンスルフィドの重合方法と
しては、種々の方法があるが、硫化アルカリとｐ−ジハ
ロベンゼン（主成分モノマ）および副成分モノマを上記
（５）および（７）式を満足するように配合し極性溶媒
中で重合助剤の存在下に高温、高圧で重合する方法が、
得られるポリマの重合度が上昇しやすく好ましい。特に
、硫化アルカリとして硫化ナトリウム、主成分モノマと
してｐ−ジクロルベンゼン、溶媒としてＮ−メチルピロ
リドンを用いるのが最も好ましい。ｐ−ジハロベンゼン
（主成分モノマ）とともに副成分モノマを共存させる副
成分モノマとしては、
【００３８】
【化６】
【００３９】
【化７】
【００４０】
【化８】
【００４１】（ここでＸは、アルキレン、ＣＯ、ＳＯ２
単位を示す）
単位を示す）
【００４２】
【化９】
【００４３】
【化１０】
【００４４】（ここでＲはアルキル、ニトロ、フェニル
、アルコキシ基を示す）が挙げられ、これらの複数の副
成分モノマが存在してもかまわない。好ましい副成分モ
ノマは
、アルコキシ基を示す）が挙げられ、これらの複数の副
成分モノマが存在してもかまわない。好ましい副成分モ
ノマは
【００４５】
【化１１】
【００４６】である。
【００４７】一方、本発明のポリ−ｐ−フェニレンスル
フィドは、共重合ポリフェニレンスルフィドと同様な方
法で重合するが、上記（６）および（８）式を満足させ
るように副成分モノマを配合しないかまたはその配合量
を減ずる。
フィドは、共重合ポリフェニレンスルフィドと同様な方
法で重合するが、上記（６）および（８）式を満足させ
るように副成分モノマを配合しないかまたはその配合量
を減ずる。
【００４８】もちろん共重合ポリフェニレンスルフィド
およびポリ−ｐ−フェニレンスルフィドの溶融粘度を調
節する目的等で、重合の際に３官能モノマ
およびポリ−ｐ−フェニレンスルフィドの溶融粘度を調
節する目的等で、重合の際に３官能モノマ
【００４９】
【化１２】
【００５０】を配合してもよい。
【００５１】こうして得られた共重合ポリフェニレンス
ルフィドおよびポリ−ｐ−フェニレンスルフィドに、必
要に応じて、無機または有機の添加剤を加え、共重合ポ
リフェニレンスルフィド組成物およびポリ−ｐ−フェニ
レンスルフィド組成物とする。
ルフィドおよびポリ−ｐ−フェニレンスルフィドに、必
要に応じて、無機または有機の添加剤を加え、共重合ポ
リフェニレンスルフィド組成物およびポリ−ｐ−フェニ
レンスルフィド組成物とする。
【００５２】積層する方法としては、コーティング、ラ
ミネート、共押出による方法等が用いられるが、ヒート
シール性に主として寄与する表面層をできるだけ薄くす
るためには、コーティング、共押出による方法が好まし
い。さらに本発明においては共押出による積層が積層フ
イルムの各層の厚さのコントロールの上で好ましい。共
押出による積層において、表面層を形成する共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物（以下、組成物Ａと称する
ことがある）と中心層を形成するポリ−ｐ−フェニレン
スルフィド組成物（以下組成物Ｂと称することがある）
は溶融押出装置と口金の間のポリマ流路内で合流積層さ
れるが、口金より上流（たとえばマニホールド）合流積
層されるのが好ましい。すなわち、別々の溶融押出装置
に供給され、個々の組成物の融点以上に加熱、溶融され
た組成物Ａと組成物Ｂは、押出装置と口金出口の間に設
けられた合流装置で溶融状態で２層または３層に積層さ
れ、スリット状の口金出口より押し出される。かかる溶
融積層物を回転冷却ドラム上で組成物Ｂのガラス転移点
以下に冷却し、実質的に非晶状態の積層シートを得る。 溶融押出装置は周知の装置が適用可能であるが、エクス
トルーダが簡便であり、好ましい。合流装置は、積層フ
イルムの構成により２層（組成物Ａ／組成物Ｂ）または
３層（組成物Ａ／組成物Ｂ／組成物Ａ’、ここで組成物
Ａおよび組成物Ａ’は、それぞれ表面層を形成する共重
合ポリフェニレンスルフィド組成物であり、２つが同一
のものであることが好ましい）に溶融状態で積層する機
能を有するものである。
ミネート、共押出による方法等が用いられるが、ヒート
シール性に主として寄与する表面層をできるだけ薄くす
るためには、コーティング、共押出による方法が好まし
い。さらに本発明においては共押出による積層が積層フ
イルムの各層の厚さのコントロールの上で好ましい。共
押出による積層において、表面層を形成する共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物（以下、組成物Ａと称する
ことがある）と中心層を形成するポリ−ｐ−フェニレン
スルフィド組成物（以下組成物Ｂと称することがある）
は溶融押出装置と口金の間のポリマ流路内で合流積層さ
れるが、口金より上流（たとえばマニホールド）合流積
層されるのが好ましい。すなわち、別々の溶融押出装置
に供給され、個々の組成物の融点以上に加熱、溶融され
た組成物Ａと組成物Ｂは、押出装置と口金出口の間に設
けられた合流装置で溶融状態で２層または３層に積層さ
れ、スリット状の口金出口より押し出される。かかる溶
融積層物を回転冷却ドラム上で組成物Ｂのガラス転移点
以下に冷却し、実質的に非晶状態の積層シートを得る。 溶融押出装置は周知の装置が適用可能であるが、エクス
トルーダが簡便であり、好ましい。合流装置は、積層フ
イルムの構成により２層（組成物Ａ／組成物Ｂ）または
３層（組成物Ａ／組成物Ｂ／組成物Ａ’、ここで組成物
Ａおよび組成物Ａ’は、それぞれ表面層を形成する共重
合ポリフェニレンスルフィド組成物であり、２つが同一
のものであることが好ましい）に溶融状態で積層する機
能を有するものである。
【００５３】次いで、この非晶状態の積層シートを組成
物Ｂのガラス転移温度以上で２軸延伸し、少なくとも中
心層を２軸に配向せしめ、さらに熱処理して本発明の積
層状態のポリフェニレンスルフィドフイルムが得られる
。かかる積層ポリフェニレンスルフィドフイルムの製法
は、積層成分の構成および溶融押出工程を除き実質的に
単層のポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムと同法
でよく、特公昭５９−５０９９号公報等に示される方法
が適用できる。すなわち、８０〜１２０℃の範囲で２．
０〜５．０倍に長手方向に延伸し、次いで８０〜１２０
℃の範囲で２．０〜５．０倍に長手の直角方向に延伸し
て２軸延伸された積層フイルムを得る。次いで、該２軸
延伸された積層フイルムを定長下で２２０〜２９０℃に
て熱処理する。ヒートシール性をより優れたものとし、
２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムの機
械的特性を生かすためには、該熱処理温度は共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物の融点以上、ポリ−ｐ−フ
ェニレンスルフィド組成物の融点以下であることが好ま
しい。また、これにより、共重合ポリフェニレンスルフ
ィドフイルム層が無配向化される。さらに、必要に応じ
て、ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物の融点以下
の温度で縦横に各々０〜２０％の範囲で制限収縮（リラ
ックス）させることは差し支えない。
物Ｂのガラス転移温度以上で２軸延伸し、少なくとも中
心層を２軸に配向せしめ、さらに熱処理して本発明の積
層状態のポリフェニレンスルフィドフイルムが得られる
。かかる積層ポリフェニレンスルフィドフイルムの製法
は、積層成分の構成および溶融押出工程を除き実質的に
単層のポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムと同法
でよく、特公昭５９−５０９９号公報等に示される方法
が適用できる。すなわち、８０〜１２０℃の範囲で２．
０〜５．０倍に長手方向に延伸し、次いで８０〜１２０
℃の範囲で２．０〜５．０倍に長手の直角方向に延伸し
て２軸延伸された積層フイルムを得る。次いで、該２軸
延伸された積層フイルムを定長下で２２０〜２９０℃に
て熱処理する。ヒートシール性をより優れたものとし、
２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイルムの機
械的特性を生かすためには、該熱処理温度は共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物の融点以上、ポリ−ｐ−フ
ェニレンスルフィド組成物の融点以下であることが好ま
しい。また、これにより、共重合ポリフェニレンスルフ
ィドフイルム層が無配向化される。さらに、必要に応じ
て、ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物の融点以下
の温度で縦横に各々０〜２０％の範囲で制限収縮（リラ
ックス）させることは差し支えない。
【００５４】本発明において、フイルムの取り扱い性、
加工性を向上させるため積層ポリフェニレンスルフィド
フイルムの表面層の表面粗さを適度にコントロールする
方法としては、■；表面層を形成する組成物Ａの重合体
中に不活性粒子を存在させる方法、■；組成物Ｂを前記
■の方法で、組成物Ａとの界面の表面粗さをコントロー
ルして、間接的に組成物Ａの表面を形成する方法、■；
■と■を組み合わせる方法等が好ましく用いられる。電
気絶縁用途などでは、絶縁破壊をおこしにくくするため
、組成物Ｂは、実質的に不活性粒子を含まず、組成物Ａ
に不活性粒子を添加して積層フイルムの表面を形成する
方法が好ましい。ここで言う不活性粒子とは表面粗さを
コントロールする目的で添加されたシリカ、アルミナ、
炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ケイ酸カルシウム、酸
化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛などの無機フィ
ラーおよび３００℃で溶融しない有機の高分子（例えば
架橋ポリスチレン等）の粒子のことであり、重合する際
などに析出する粒子が含まれることは差し支えない。添
加する粒子としては、シリカ、架橋高分子などの真球状
粒子が好ましく、特に真球度が１．５以下、好ましくは
１．３以下さらに好ましくは１．１以下であるものが好
ましい。また、その粒径分布は均一であることが好まし
く、粒子の粒径分布の相対標準偏差が０．６以下、好ま
しくは０．５以下のものが好ましい。これらの不活性粒
子の添加方法としては、組成物Ａまたは／及び組成物Ｂ
の重合時に添加する方法、重合後に溶融または溶解混練
する方法のどちらでもよい。
加工性を向上させるため積層ポリフェニレンスルフィド
フイルムの表面層の表面粗さを適度にコントロールする
方法としては、■；表面層を形成する組成物Ａの重合体
中に不活性粒子を存在させる方法、■；組成物Ｂを前記
■の方法で、組成物Ａとの界面の表面粗さをコントロー
ルして、間接的に組成物Ａの表面を形成する方法、■；
■と■を組み合わせる方法等が好ましく用いられる。電
気絶縁用途などでは、絶縁破壊をおこしにくくするため
、組成物Ｂは、実質的に不活性粒子を含まず、組成物Ａ
に不活性粒子を添加して積層フイルムの表面を形成する
方法が好ましい。ここで言う不活性粒子とは表面粗さを
コントロールする目的で添加されたシリカ、アルミナ、
炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ケイ酸カルシウム、酸
化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛などの無機フィ
ラーおよび３００℃で溶融しない有機の高分子（例えば
架橋ポリスチレン等）の粒子のことであり、重合する際
などに析出する粒子が含まれることは差し支えない。添
加する粒子としては、シリカ、架橋高分子などの真球状
粒子が好ましく、特に真球度が１．５以下、好ましくは
１．３以下さらに好ましくは１．１以下であるものが好
ましい。また、その粒径分布は均一であることが好まし
く、粒子の粒径分布の相対標準偏差が０．６以下、好ま
しくは０．５以下のものが好ましい。これらの不活性粒
子の添加方法としては、組成物Ａまたは／及び組成物Ｂ
の重合時に添加する方法、重合後に溶融または溶解混練
する方法のどちらでもよい。
【００５５】好ましい表面形態を達成する方法としては
、組成物Ａ中に添加された不活性粒子の添加量、平均粒
径、該表面層の厚さの関係を下記のように調節する方法
が挙げられる。すなわち、不活性粒子の平均粒径をＤ（
μｍ）、表面層の厚さをｔ（μｍ）、組成物Ａに添加さ
れた前記不活性粒子の含有量をｃ（ｗｔ％）とした時、
これらの値が下記（９）式の関係を満たすものであるこ
とが好ましい。
、組成物Ａ中に添加された不活性粒子の添加量、平均粒
径、該表面層の厚さの関係を下記のように調節する方法
が挙げられる。すなわち、不活性粒子の平均粒径をＤ（
μｍ）、表面層の厚さをｔ（μｍ）、組成物Ａに添加さ
れた前記不活性粒子の含有量をｃ（ｗｔ％）とした時、
これらの値が下記（９）式の関係を満たすものであるこ
とが好ましい。
【００５６】
０．１≦ｃ・ｔ／Ｄ≦５ （９）さらに好ま
しくは、 ０．１≦ｃ・ｔ／Ｄ≦２ （１０）である。
しくは、 ０．１≦ｃ・ｔ／Ｄ≦２ （１０）である。
【００５７】
【実施例】以下本発明を実施例により、さらに詳細に説
明する。なお、物性は次のようにして測定した。
明する。なお、物性は次のようにして測定した。
【００５８】（１）全体および各層のフイルム厚み積層
フイルム断面の走査型電子顕微鏡により求めた。
フイルム断面の走査型電子顕微鏡により求めた。
【００５９】（２）強度、伸度
テンシロン型引っ張り試験機により、幅１０ｍｍ、試長
５０ｍｍのサンプルの破断伸度、破断強度を求めｎ＝５
の平均値として算出した。
５０ｍｍのサンプルの破断伸度、破断強度を求めｎ＝５
の平均値として算出した。
【００６０】（３）溶融粘度
高化式フローテスタ法によって測定した。
【００６１】（４）熱収縮率
試長２００ｍｍ、幅１０ｍｍのフイルムを２３０℃の熱
風式オーブンに無荷重下で１０分間加熱し、加熱前後の
長さから収縮率を算出した。
風式オーブンに無荷重下で１０分間加熱し、加熱前後の
長さから収縮率を算出した。
【００６２】（５）引き裂き強さ
ＪＩＳ−Ｐ８１１６−１９６０に準じて測定し、ｇ／ｍ
ｍで表わした。
ｍで表わした。
【００６３】（６）融点
示差走査熱量計（ＤＳＣ−２型）を用いて測定した。
【００６４】（７）耐熱性
試料フイルムの初期及び熱風オーブン中で１８０℃で２
０００時間エージング後の引っ張り強度をＡＳＴＭ−Ｄ
−６３８−７２法に従って測定し、エージングの強度が
初期値の７０％以上あるものを耐熱性◎、５０〜７０％
未満を○、３０〜５０％未満を△、３０％未満を×とし
た。
０００時間エージング後の引っ張り強度をＡＳＴＭ−Ｄ
−６３８−７２法に従って測定し、エージングの強度が
初期値の７０％以上あるものを耐熱性◎、５０〜７０％
未満を○、３０〜５０％未満を△、３０％未満を×とし
た。
【００６５】（８）表面粗さ
表面層をＪＩＳ Ｒ−０６０１に準じて測定した。
【００６６】（９）接着性
幅Ｗ（ｃｍ）のフイルムにセロテープ（ニチバン（株）
社製）を貼付け、剥離角１８０度で連続的に２００ｍｍ
／ｍｉｎの速度で剥離するときの張力を測定する。この
ときの張力をＴ（ｇ）としたとき、 剥離力（ｇ／ｃｍ）＝Ｔ／Ｗ の式で求め、１０ｇ／ｃｍ以上を◎、６ｇ／ｃｍ以上１
０ｇ／ｃｍ未満を○、４ｇ／ｃｍ以上６ｇ／ｃｍ未満を
△、４ｇ／ｃｍ未満を×とした。
社製）を貼付け、剥離角１８０度で連続的に２００ｍｍ
／ｍｉｎの速度で剥離するときの張力を測定する。この
ときの張力をＴ（ｇ）としたとき、 剥離力（ｇ／ｃｍ）＝Ｔ／Ｗ の式で求め、１０ｇ／ｃｍ以上を◎、６ｇ／ｃｍ以上１
０ｇ／ｃｍ未満を○、４ｇ／ｃｍ以上６ｇ／ｃｍ未満を
△、４ｇ／ｃｍ未満を×とした。
【００６７】（１０）ヒートシール性
１０ｃｍ角に切り出した正方形のフイルムのヒートシー
ルを行なう面の上に、同様に１０ｃｍ角に切り出した“
トレリナ”（東レ（株）社製 ２５μｍ）を重ねて、
２００℃で１０秒間加熱プレスし、得られたプレスフイ
ルムを端から手で“トレリナ”を剥そうとしたとき、全
く剥がれないものを○、抵抗はあるものの徐々にはがす
ことができるものを△、簡単に剥がれるものを×とした
。
ルを行なう面の上に、同様に１０ｃｍ角に切り出した“
トレリナ”（東レ（株）社製 ２５μｍ）を重ねて、
２００℃で１０秒間加熱プレスし、得られたプレスフイ
ルムを端から手で“トレリナ”を剥そうとしたとき、全
く剥がれないものを○、抵抗はあるものの徐々にはがす
ことができるものを△、簡単に剥がれるものを×とした
。
【００６８】実施例１
（１）共重合ポリフェニレンスルフィド組成物の製造オ
ートクレーブに１００モルの硫化ナトリウム９水塩、４
５モルの酢酸ナトリウム及び２５リットルのＮ−メチル
−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰと略称する）を仕込み
、撹拌しながら徐々に２２０℃まで昇温して含有されて
いる水分を蒸留により除去した。
ートクレーブに１００モルの硫化ナトリウム９水塩、４
５モルの酢酸ナトリウム及び２５リットルのＮ−メチル
−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰと略称する）を仕込み
、撹拌しながら徐々に２２０℃まで昇温して含有されて
いる水分を蒸留により除去した。
【００６９】脱水の終了した系内へ主成分モノマとして
９１モルのｐ−ジクロルベンゼン、副成分モノマとして
１０モルのｍ−ジクロルベンゼン、及び０．２モルの１
，２，４−トリクロルベンゼンを５リットルのＮＭＰと
ともに添加し、１７０℃で窒素を３ｋｇ／ｃｍ２ に加
圧封入後、昇温し、２６０℃にて４時間重合した。重合
終了後冷却し、蒸留水中にポリマを沈澱させ、１５０メ
ッシュ目開きを有する金網によって、小塊状ポリマを採
取した。
９１モルのｐ−ジクロルベンゼン、副成分モノマとして
１０モルのｍ−ジクロルベンゼン、及び０．２モルの１
，２，４−トリクロルベンゼンを５リットルのＮＭＰと
ともに添加し、１７０℃で窒素を３ｋｇ／ｃｍ２ に加
圧封入後、昇温し、２６０℃にて４時間重合した。重合
終了後冷却し、蒸留水中にポリマを沈澱させ、１５０メ
ッシュ目開きを有する金網によって、小塊状ポリマを採
取した。
【００７０】このポリマを９０℃の蒸留水により５回洗
浄した後、減圧下１２０℃にて乾燥して、溶融粘度が１
０００ポイズ、融点が２５３℃の白色粒状の共重合ポリ
フェニレンスルフィドを得た。
浄した後、減圧下１２０℃にて乾燥して、溶融粘度が１
０００ポイズ、融点が２５３℃の白色粒状の共重合ポリ
フェニレンスルフィドを得た。
【００７１】次いで、該共重合ポリフェニレンスルフィ
ド１０ｋｇに直径０．５μｍの球状シリカを５０ｇ配合
し、３２０℃にて３０ｍｍφ２軸押出機によりガット状
に押し出し、ペレット化した。
ド１０ｋｇに直径０．５μｍの球状シリカを５０ｇ配合
し、３２０℃にて３０ｍｍφ２軸押出機によりガット状
に押し出し、ペレット化した。
【００７２】
（２）ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物の製造主
成分モノマとして１０１モルのｐ−ジクロルベンゼンを
用い、副成分モノマを用いないこと以外は全て（１）の
共重合ポリフェニレンスルフィド組成物の製造と同様に
してポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物を製造した
。
成分モノマとして１０１モルのｐ−ジクロルベンゼンを
用い、副成分モノマを用いないこと以外は全て（１）の
共重合ポリフェニレンスルフィド組成物の製造と同様に
してポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物を製造した
。
【００７３】なお、ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドの
溶融粘度は、３０００ポイズ、融点は２８３℃であった
。
溶融粘度は、３０００ポイズ、融点は２８３℃であった
。
【００７４】（３）製膜
前記（１）および（２）で得られた共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物およびポリ−ｐ−フェニレンスルフ
ィド組成物をそれぞれ１８０℃にて３時間、１ｍｍＨｇ
の減圧下で乾燥後、別々のエクストルーダに供給し、溶
融状態で口金上部にある二重管型の積層装置で中央の層
がポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物になるよう導
き、続いて設けられたＴダイ型口金より吐出させ冷却回
転ドラムで急冷し、実質的に非晶の共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物／ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド
組成物の２層積層シートを得た。
ンスルフィド組成物およびポリ−ｐ−フェニレンスルフ
ィド組成物をそれぞれ１８０℃にて３時間、１ｍｍＨｇ
の減圧下で乾燥後、別々のエクストルーダに供給し、溶
融状態で口金上部にある二重管型の積層装置で中央の層
がポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成物になるよう導
き、続いて設けられたＴダイ型口金より吐出させ冷却回
転ドラムで急冷し、実質的に非晶の共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物／ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド
組成物の２層積層シートを得た。
【００７５】次いで、該積層シートを表面温度９０℃の
複数の加熱ロールに接触走行させ、加熱ロール群の次に
設けられた周速の異なる３０℃の冷却ロールとの間で長
手方向に３．７倍延伸した。この１軸延伸シートをテン
ターを用いて長手と直交方向に１００℃で３．５倍延伸
し、続いて２６０℃１０秒間熱処理し、トータル厚み２
５μｍ、共重合ポリフェニレンスルフィドフイルム層厚
み２μｍの本発明の積層フイルムを得た。
複数の加熱ロールに接触走行させ、加熱ロール群の次に
設けられた周速の異なる３０℃の冷却ロールとの間で長
手方向に３．７倍延伸した。この１軸延伸シートをテン
ターを用いて長手と直交方向に１００℃で３．５倍延伸
し、続いて２６０℃１０秒間熱処理し、トータル厚み２
５μｍ、共重合ポリフェニレンスルフィドフイルム層厚
み２μｍの本発明の積層フイルムを得た。
【００７６】このフイルムの構成、評価結果を表１、表
８に示す。
８に示す。
【００７７】比較例１
実施例１（２）のポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成
物をエクストルーダに供給し、単層でＴダイ型口金より
吐出させ実施例１（３）の製膜条件で２軸延伸、熱処理
を行ない２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイ
ルムを得た。このフイルムの構成、評価結果を表１、表
８に示す。
物をエクストルーダに供給し、単層でＴダイ型口金より
吐出させ実施例１（３）の製膜条件で２軸延伸、熱処理
を行ない２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイ
ルムを得た。このフイルムの構成、評価結果を表１、表
８に示す。
【００７８】比較例２
実施例１（１）の共重合ポリフェニレンスルフィド組成
物だけを用い、熱処理温度を２２０℃とする以外は比較
例１と同様にして共重合ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムを得た。評価結果を表８に表わした。
物だけを用い、熱処理温度を２２０℃とする以外は比較
例１と同様にして共重合ポリフェニレンスルフィドフイ
ルムを得た。評価結果を表８に表わした。
【００７９】実施例２および３、比較例３および４主成
分モノマのｐ−ジクロルベンゼン、副成分モノマのｍ−
ジクロルベンゼンの添加量を変えること以外は実施例１
と同様にして積層ポリフェニレンスルフィドフイルムを
得た。層構成の詳細および評価結果を表２，３および表
８に示す。
分モノマのｐ−ジクロルベンゼン、副成分モノマのｍ−
ジクロルベンゼンの添加量を変えること以外は実施例１
と同様にして積層ポリフェニレンスルフィドフイルムを
得た。層構成の詳細および評価結果を表２，３および表
８に示す。
【００８０】実施例４〜６
共重合ポリフェニレンスルフィドフイルム厚み、トータ
ル厚みを種々変更して実施例１と同様の方法で積層ポリ
フェニレンスルフィドフイルムを得た。構成の詳細およ
び評価結果を表４および表８に示す。
ル厚みを種々変更して実施例１と同様の方法で積層ポリ
フェニレンスルフィドフイルムを得た。構成の詳細およ
び評価結果を表４および表８に示す。
【００８１】実施例７〜９
両表面に共重合ポリフェニレンスルフィドフイルムが積
層される積層装置に変更して実施例１と同様の方法で製
膜し、厚み構成の異なる種々の３層構成（共重合ポリフ
ェニレンスルフィドフイルム／２軸配向ポリ−ｐ−フェ
ニレンスルフィドフイルム／共重合ポリフェニレンスル
フィドフイルム）のフイルムを得た。構成の詳細および
評価結果を表５および表９に示す。
層される積層装置に変更して実施例１と同様の方法で製
膜し、厚み構成の異なる種々の３層構成（共重合ポリフ
ェニレンスルフィドフイルム／２軸配向ポリ−ｐ−フェ
ニレンスルフィドフイルム／共重合ポリフェニレンスル
フィドフイルム）のフイルムを得た。構成の詳細および
評価結果を表５および表９に示す。
【００８２】実施例１０〜１２
共重合ポリフェニレンスルフィドおよびポリ−ｐ−フェ
ニレンスルフィドに配合する粒子の種類、量を変更する
こと以外は実施例１と同様にして積層ポリフェニレンス
ルフィドフイルムを得た。構成の詳細および評価結果を
表６および表９に示す。
ニレンスルフィドに配合する粒子の種類、量を変更する
こと以外は実施例１と同様にして積層ポリフェニレンス
ルフィドフイルムを得た。構成の詳細および評価結果を
表６および表９に示す。
【００８３】実施例１３
２軸延伸されたフイルムの熱処理温度を２２０℃とする
こと以外は実施例１と同様にして積層フイルムを得た。 フイルムの構成の詳細および評価結果を表７および表９
に示す。
こと以外は実施例１と同様にして積層フイルムを得た。 フイルムの構成の詳細および評価結果を表７および表９
に示す。
【００８４】実施例１４
副成分モノマとして、
【００８５】
【化１３】
【００８６】を用いること以外は実施例１と同様にして
積層フイルムを得た。フイルムの構成の詳細および評価
結果を表７および表９に示す。
積層フイルムを得た。フイルムの構成の詳細および評価
結果を表７および表９に示す。
【００８７】
【表１】
【００８８】
【表２】
【００８９】
【表３】
【００９０】
【表４】
【００９１】
【表５】
【００９２】
【表６】
【００９３】
【表７】
【００９４】
【表８】
【００９５】
【表９】
【００９６】以上のように、本発明の積層ポリフェニレ
ンスルフィドフイルムは、従来の欠点を解消し、接着性
、特にヒートシール性に優れ、引き裂き強さを含む、機
械特性、耐熱性がバランスされたものとなっている。
ンスルフィドフイルムは、従来の欠点を解消し、接着性
、特にヒートシール性に優れ、引き裂き強さを含む、機
械特性、耐熱性がバランスされたものとなっている。
【００９７】
【発明の効果】本発明の積層ポリフェニレンスルフィド
フイルムは、上記構成としたことにより、次の効果を奏
する。 （１）接着性が良好である。 （２）機械的特性に優れる。 （３）耐熱性が良好である。
フイルムは、上記構成としたことにより、次の効果を奏
する。 （１）接着性が良好である。 （２）機械的特性に優れる。 （３）耐熱性が良好である。
【００９８】また、２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスル
フィドフイルム層を中心層とし、その少なくとも一方の
面に共重合ポリフェニレンスルフィドフイルム層を設け
たことにより、次のような特異な効果を奏するので、包
装用、電気絶縁用、一般工業用等に幅広く用いることが
可能であり、特に粘着テープ、電気、電子素子の外装用
に用いるとその効果が一層顕著に発現する。 （１）ヒートシールが可能である。 （２）フイルムとして充分な強度を有するとともに引き
裂き強さも向上した。 （３）２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイル
ムと同等の耐熱性を維持維持している。 さらに、他フイルムとのラミネート、紙、繊維シート、
ガラスクロスとの貼り合わせによる複合材としての使用
も可能である。
フィドフイルム層を中心層とし、その少なくとも一方の
面に共重合ポリフェニレンスルフィドフイルム層を設け
たことにより、次のような特異な効果を奏するので、包
装用、電気絶縁用、一般工業用等に幅広く用いることが
可能であり、特に粘着テープ、電気、電子素子の外装用
に用いるとその効果が一層顕著に発現する。 （１）ヒートシールが可能である。 （２）フイルムとして充分な強度を有するとともに引き
裂き強さも向上した。 （３）２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフィドフイル
ムと同等の耐熱性を維持維持している。 さらに、他フイルムとのラミネート、紙、繊維シート、
ガラスクロスとの貼り合わせによる複合材としての使用
も可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 ２軸配向ポリ−ｐ−フェニレンスルフ
ィドフイルムからなる中心層（Ｂ層）の少なくとも片側
に、ｐ−フェニレンスルフィド単位以外の少なくとも１
種以上の共重合単位を共重合した共重合ポリフェニレン
スルフィドフイルムからなる表面層（Ａ層）が積層され
てなり、さらに各層を構成する樹脂組成が下記（１）〜
（４）式を満足することを特徴とする積層ポリフェニレ
ンスルフィドフイルム。 ５０≦ＰＰＳＦ（Ａ）≦９５ （１
）ＰＰＳＦ（Ｂ）≧９０
（２）３≦ＣＯＰＦ（Ａ）＜５０
（３）ＰＰＳＦ（Ａ）＜ＰＰＳＦ（Ｂ）
（４）ＰＰＳＦ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニ
レンスルフィド単位の全繰り返し単位に対するモル％で
表わされた含有量 ＰＰＳＦ（Ｂ）：Ｂ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含
有量 ＣＯＰＦ（Ａ）：Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位に次いで多く含有されている共重合単位の全繰り
返し単位に対するモル％で表わされた含有量【請求項２
】 Ａ層の共重合ポリフェニレンスルフィドフイルム
が実質的に無配向である請求項１に記載の積層ポリフェ
ニレンスルフィドフイルム。 【請求項３】 Ａ層におけるｐ−フェニレンスルフィ
ド単位に次いで多く含有されている共重合単位がｍ−フ
ェニレンスルフィド単位である請求項１に記載の積層ポ
リフェニレンスルフィドフイルム。 【請求項４】 Ａ層の厚みが０．０１〜５μｍである
請求項１に記載の積層ポリフェニレンスルフィドフイル
ム。 【請求項５】 ポリ−ｐ−フェニレンスルフィド組成
物（Ｂ）の少なくとも片側に、下記（５）〜（８）式を
満足するようにｐ−フェニレンスルフィド単位以外の少
なくとも１種以上の共重合単位を共重合した共重合ポリ
フェニレンスルフィド組成物（Ａ）を共押出して、積層
シートを得、該積層シートを２軸延伸し、更に熱処理す
ることを特徴とする請求項１に記載の積層ポリフェニレ
ンスルフィドフイルムの製造方法。 ５０≦ＰＰＳＰ（Ａ）≦９５ （５
）ＰＰＳＰ（Ｂ）≧９０
（６）３≦ＣＯＰＰ（Ａ）＜５０
（７）ＰＰＳＰ（Ａ）＜ＰＰＳＰ（Ｂ）
（８）ＰＰＳＰ（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレ
ンスルフィド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド
単位の全繰り返し単位に対するモル％で表わされた含有
量ＰＰＳＰ（Ｂ）：Ｂのポリ−ｐ−フェニレンスルフィ
ド組成物におけるｐ−フェニレンスルフィド単位の全繰
り返し単位に対するモル％で表わされた含有量ＣＯＰＰ
（Ａ）：Ａの共重合ポリフェニレンスルフィド組成物に
おけるｐ−フェニレンスルフィド単位に次いで多く含有
されている共重合単位の全繰り返し単位に対するモル％
で表わされた含有量
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8687591A JP2956254B2 (ja) | 1991-04-18 | 1991-04-18 | 積層ポリフェニレンスルフィドフイルムおよびその製造方法 |
| DE69217546T DE69217546T2 (de) | 1991-04-18 | 1992-04-17 | Laminierter polyphenylensulfidfilm und seine herstellung |
| PCT/JP1992/000486 WO1992018331A1 (fr) | 1991-04-18 | 1992-04-17 | Film de polyphenylene sulfure stratifie et procede de production |
| US07/958,338 US5346762A (en) | 1991-04-18 | 1992-04-17 | Laminated polyphenylene sulfide film and process for producing the same |
| EP19920908224 EP0549800B1 (en) | 1991-04-18 | 1992-04-17 | Laminated polyphenylene sulfide film and production thereof |
| KR1019920703256A KR100196705B1 (ko) | 1991-04-18 | 1992-04-17 | 적층폴리페닐렌술피이드 필름 및 그 제조방법 |
| HK98106574A HK1007296A1 (en) | 1991-04-18 | 1992-04-17 | Laminated polyphenylene sulfide film and production thereof |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8687591A JP2956254B2 (ja) | 1991-04-18 | 1991-04-18 | 積層ポリフェニレンスルフィドフイルムおよびその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP2956254B2 JP2956254B2 (ja) | 1999-10-04 |
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ID=13899005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8687591A Expired - Fee Related JP2956254B2 (ja) | 1991-04-18 | 1991-04-18 | 積層ポリフェニレンスルフィドフイルムおよびその製造方法 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| WO2006051658A1 (ja) | 2004-11-12 | 2006-05-18 | Toray Industries, Inc. | 二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムおよびそれからなる積層ポリアリーレンスルフィドシート |
| JP2006142545A (ja) * | 2004-11-17 | 2006-06-08 | Toray Ind Inc | 積層フィルムおよびそれを用いたプリント配線基板 |
| JP2006198783A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Toray Ind Inc | ポリアリーレンスルフィド積層シート |
| JP2007152761A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Toray Ind Inc | ポリフェニレンサルファイド複合フィルム |
| JP2012155854A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-16 | Denso Corp | 密閉型電池筐体及びそれを用いた密閉型電池 |
| JP2015067903A (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-13 | 東レ株式会社 | ポリフェニレンスルフィド繊維不織布 |
| JP2019116092A (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-18 | 東レ株式会社 | 積層ポリフェニレンサルファイドフィルム、フィルムロールおよび包装材 |
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|---|---|---|---|---|
| DE69613298T2 (de) * | 1995-10-06 | 2001-09-20 | Teiyo Ltd., Kure | Wärmeschrumpfschlauch, Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Anwendung |
| JP4774788B2 (ja) * | 2004-04-05 | 2011-09-14 | 東レ株式会社 | 成型用フィルム |
| JP2006095824A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Toray Ind Inc | ポリフェニレンスルフィド複合フィルム |
| JP4983163B2 (ja) * | 2005-09-09 | 2012-07-25 | 東レ株式会社 | 積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法 |
| US20140017966A1 (en) * | 2011-03-22 | 2014-01-16 | Toray Industries, Inc. | Polyphenylene sulfide composite fiber and nonwoven fabric |
| CN109835031B (zh) * | 2017-11-27 | 2021-09-21 | 江苏澳盛复合材料科技有限公司 | 一种电池包装用多层复合薄膜 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4011121A (en) * | 1975-04-30 | 1977-03-08 | Phillips Petroleum Company | Adhesive bonding of poly(arylene sulfide) surfaces |
| JPH066338B2 (ja) * | 1985-12-27 | 1994-01-26 | 呉羽化学工業株式会社 | パラフエニレンスルフイドブロツクコポリマ−２軸延伸フイルムの製造法 |
| JPS62255142A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-06 | ダイアホイルヘキスト株式会社 | 複合化フイルム |
| JPH0725151B2 (ja) * | 1986-06-12 | 1995-03-22 | 東レ株式会社 | 積層フイルム |
| JPH0771842B2 (ja) * | 1988-08-04 | 1995-08-02 | 東レ株式会社 | 積層体及びその製造方法 |
| JPH0773902B2 (ja) * | 1990-02-02 | 1995-08-09 | 東レ株式会社 | 積層体 |
| JP3018543B2 (ja) * | 1990-06-27 | 2000-03-13 | 東レ株式会社 | ポリフェニレンスルフィド積層フィルムおよびそれを用いてなるコンデンサ |
-
1991
- 1991-04-18 JP JP8687591A patent/JP2956254B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-04-17 WO PCT/JP1992/000486 patent/WO1992018331A1/ja not_active Ceased
- 1992-04-17 EP EP19920908224 patent/EP0549800B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-17 KR KR1019920703256A patent/KR100196705B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-17 DE DE69217546T patent/DE69217546T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-17 US US07/958,338 patent/US5346762A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-17 HK HK98106574A patent/HK1007296A1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|---|---|---|
| WO2006051658A1 (ja) | 2004-11-12 | 2006-05-18 | Toray Industries, Inc. | 二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムおよびそれからなる積層ポリアリーレンスルフィドシート |
| JP2006142545A (ja) * | 2004-11-17 | 2006-06-08 | Toray Ind Inc | 積層フィルムおよびそれを用いたプリント配線基板 |
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