JPH0432686A - マイクロ波乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はマイクロ波乾燥装置に関する。

（ロ）従来の技術 特願平２−２２３０号には、被乾燥物が供給される乾燥
室内にマイクロ波を与えて」１記被乾燥物をマイクロ波
乾燥するマイクロ波乾燥装置が開示されている。そして
、同装置には、被乾燥物がむらなく乾燥されるように乾
燥室内で被乾燥物を撹拌する撹拌手段が設けられている
。斯る撹拌手段は乾燥室外から乾燥室内に貫通挿入され
ている伝達軸に結合されており、撹拌手段は斯る伝達軸
から撹拌力が伝達されて撹拌駆動する。

ところで、このような構造においては、上記伝達軸が貫
通している付近から乾燥室外・＼マイクロ波が漏れる恐
れがあり、そこで」１記伝達軸の周囲にマイクロ波チョ
ーク空間を設けることが考えられる。しかし乍らこの場
合、に記貫通付近から被乾燥物が同様に外部へ漏れこの
被乾燥物が上記伝達軸に沿って上記チョーク空間内に入
ると、チョーク空間の回路定数が所望値がらずｔし、チ
ョーク空間は十分なマイクロ波チョークを行うことがで
きなくなる。

また、上記撹拌手段の駆動中に撹拌手段と乾燥室の壁と
の間の狭い隙間に被乾燥物が入って詰まると、撹拌手段
が正常に駆動しなくなる。

（ハ）発明が解決しようとする課題 本発明は、被乾燥物を撹拌する撹拌手段に伝達力を与え
る伝達軸の周囲にマイクロ波チョーク空間を設けた構成
において、斯るチョーク空間が十分なマイクロ波チョー
クを行える状態を確保でき、且つ上記撹拌手段の正常駆
動を確保できるマイクロ波乾燥装置を提供しようとする
ものである。

（ニ）課題を解決するための手段 本発明のマイクロ波乾燥装置は、粒状または粉状被乾燥
物が供給される乾燥室と、該乾燥室に上記被乾燥物をマ
イクロ波乾燥するためのマイクロ波を供給するマイクロ
波供給手段と、上記乾燥室内に配置され上記被乾燥物を
撹拌する撹拌手段と、上記乾燥室の壁をスライド自在に
貫通し上記撹拌手段に撹拌力を伝達する伝達軸と、該伝
達軸の周囲に設けられたマイクロ波チョーク空間と、低
誘電損失材料からなり、上記伝達軸に沿って上記チョー
ク空間内に上記被乾燥物が侵入するのを阻止する阻止手
段とからなる。

（ホ）作用 低誘電損失材料からなる阻止手段にて、伝達軸に沿って
チョーク空間内に被乾燥物が侵入するのが阻止され、チ
ョーク空間の回路定数が所望値からずれるのが抑制され
、チョーク空間は十分なマイクロ波チョークを行う。

また、上記伝達軸は乾燥室の壁をスライド自在に貫通し
ており、撹拌手段と乾燥室の壁との間の狭い隙間に被乾
燥物が入った場合、伝達軸はこの隙間を拡大すべくスラ
イドし、撹拌手段は被乾燥物が詰まって駆動できなくな
ることなく正常に駆動する。

（へ）実施例 第１図は本発明実施例のマイクロ波乾燥装置の構造を示
し、同装置は乾燥装置本体１とその周辺機構とからなる
。

上記乾燥装置本体１は主要部として開閉自在の上蓋２を
有する円筒状乾燥室３が設けられている。該乾燥室には
左上部に供給パイプ４が連接されており、該供給パイプ
の先端は、粒状または粉状被乾燥物５を貯留する貯槽６
内に至っている。

該貯槽は乾燥室３より下方にある。斯る被乾燥物５とし
ては、例えばガラス入り四指ペレット、米、薬品粉粒物
などがある。樹脂ペレットは溶融された後成形されるも
のであるが、斯る溶融成形に先だって樹脂ベレットを乾
燥させるとその後の成形が良好になされるのである。本
実施例では、ガラス入り樹脂ベレットが被乾燥物となっ
ている。

上記乾燥室３の上蓋２の中央には吸引ホッパ７が一体成
形のマイクロ波遮断パイプ７ａを介して連接されている
。斯るμ反引ホッパ７は、ｌ反引ホッパ本体７ｂと、該
本体に着脱自在に配置されるホッパ上蓋７Ｃとからなる
。そして、上記吸引ホッパ本体７ｂとホッパ上蓋７ｃと
に挟まれるようにして、フィルタ金網８ａ及びフィルタ
紙８が着脱自在に配置されている。これらフィルタ金網
８ａ及びフィルタ紙８は−に肥液乾燥物５の材料径より
小さいメツシュを有し、またフィルタ紙８はフィルタ金
網８ａよりメツシュが小さい。

上記フィルタ金網８ａ及びフィルタ紙８の上部に位置し
て、上記ホッパ７の上蓋７Ｃ内にポペット弁９が設けら
れている。そして、斯るポペット弁９の上部において、
上記吸引ホッパ７には吸気バイア１０を介して吸引ブロ
ワ１】が連接されている。この場合、ポペット弁９が開
放駆動された状態で上記吸引ブロワ】１を駆動すると、
斯る吸引ブロワ１１の吸気作用が吸気パイプ］０、吸引
ホンバフ、マイクロ波遮断バイブ４まて及び、上記貯槽
６内の被乾燥物５が吸引されて供給パイプ４を通って乾
燥室３に至る。被乾燥物５は乾燥室３に至ると該乾燥室
内に自重により落下して溜る。

ここで、被乾燥物５は乾燥室３に落下せずその後吸引さ
れて上記吸引ホッパ７内に至るものもあるが、斯る被乾
燥物５はこれから先へはフィルタ金網８ａ、フィルタ紙
８により阻止されて行くことができず、従って吸引ブロ
ワ１１の方へ被乾燥物５が不所望に吸引されるのが阻止
されている。

上記乾燥室３において、その内部にはマグネトロン１２
から導波管１３を介してマイクロ波が供給され、底壁部
には第２図及び第３図に詳細に示す如く、被乾燥物５を
撹拌する撹拌手段即ち金属製撹拌体１５が設けられてい
る。斯る撹拌体】５は上記乾燥室３の底壁３ａを貫通す
る伝達軸］５ａの上端にアーム１５ｂを介して連結固定
されている。斯る伝達軸１５ａは、乾燥室３外にて乾燥
室底壁３ａに固定されている金属製ハウジング１５ｃ内
にある、リニアボールベアリング１５ｄ及び該ベアリン
グをスムーズに回転せしめる針状ころ軸受１５ｅによっ
て、上下スライド自在にて回転できるように支持されて
いる。そして、上記伝達軸１５ａの下端にはピン１５ｆ
が固定されている。上記伝達軸１５ａの下端は固定モー
タ１４に直結されている駆動体１４ａに上側から遊嵌し
、且つ上記ピン１５ｆは上記駆動体１４ａの横に形成さ
れている長孔１４ｂに遊嵌しており、これにより、上記
伝達軸１５ａは上下にスライドするも、そのスライド範
囲はピン１５ｆが嵌まっている長孔１４ｂの上下寸法で
規制されている。このような構成において、上記撹拌体
１５は、上記モータ１４からの撹拌力が上下スライド自
在で回転する伝達軸１３ａを介して伝達されることによ
り、回転し、よって、被乾燥物５の撹拌がなされるので
ある。

この場合、上記撹拌体１５は通常第２図のように、乾燥
室底壁３ａとの間の隙間Ｘ＋が狭い状態で被乾燥物５を
撹拌する。一方、このような撹拌中に撹拌体１５と乾燥
室底壁３ａとの間の狭い隙間に被乾燥物５が入ると、上
記撹拌体１５がこの被乾燥物に押され上記伝達軸１．５
２が上方へスライドし、第３図のように撹拌体１５と乾
燥室底壁３ａとの間の隙間Ｍが拡大し、従って撹拌体１
５は従来のように被乾燥物５が詰まって駆動できなくな
ることなく正常に駆動する。

上記乾燥室底壁３ａと上記ハウジング１５ｃとの間には
、マイクロ波チョーク空間１５ｇが形成されている。該
チョーク空間は上記伝達軸１５ａを囲うように伝達軸１
５ａの周囲に位置し、チョーク開口が伝達軸１５ａに直
接面している。

斯るチョーク空間１５ｇにより、乾燥室底壁３ａの伝達
軸１５ａが貫通している付近からマイクロ波が乾燥室外
へ漏れるのが抑制される。

そして、上記乾燥室３内にて乾燥室底壁３ａには低誘電
損失材料であるセラミックスからなる阻止手段即ちパイ
プ！５ｈが密着固定されている。

該パイプ１３ｈ内には、上記伝達軸１５ａが上下スライ
ド自在で回転できるようにして貫通している。また、上
記パイプ１５ｈは上端が被乾燥物５から上方へ突き出る
程度の長さを有している。このパイプ１５ｈの存在によ
り、乾燥室底壁３ａの伝達軸１５ａが貫通している付近
から、被乾燥物５がマイクロ波と同様に外部へ漏れるの
が抑制され、即ち被乾燥物５が上記伝達軸１５ａｉ：沿
って上記チョーク空間１５ｇ内に入るのが抑制され、従
ってチョーク空間］、　５　ｇの回路定数が所望値から
ずれることがなく、チョーク空間１５ｇが十分なマイク
ロ波チョークを行うことが確保されている。

上記乾燥室３の側壁部にはレベルセンサ１６及びサーミ
スタ等の温度センサ１７が配置されている。斯るレベル
センサ１６は乾燥室３内に被乾燥物５が所定量溜ったが
否かを検知し、上記温度センサ１７は被乾燥物５の温度
を検知する。また、上記乾燥室３の左底部には、吸気弁
】８を介−てコンプレ／す】９が連結され、上記乾燥室
３のに蓋２に排気弁２０が設けられている。これらコン
プレッサ１９の駆動と、吸気弁１８及び排気弁２０の開
放は、被乾燥物３のマイクロ波による乾燥時等に行われ
、乾燥時等に発生する水蒸気がコンプレッサ１９がら空
気とともに排気弁２０を通って外部へ排出される。

更に、上記乾燥室３の右底部には排出弁２】が設けられ
ており、該排出弁は乾燥終了された被乾燥物５を排出す
る時に開放される。斯る排出ｆＦ−２１の開放に基づい
て排出される被乾燥物５は排出パイプ２２を介して下方
の予備室２３に落下して溜る。該予備室のＦ部類斜壁に
は保温ヒータ２４が配置されており、且つ上記予備室２
３には回転体２５を有するレベルセンサ２６が設けられ
ている。斯るレベルセンサ２６は、通常回転体２５を回
転させ、予備室２３内に僅かな所定量の被乾燥物５が溜
って回転体２５を回転させようとするにも被乾燥物５が
負荷となって回転体２５を満足に回転させることができ
ない状態の時に、所定信号を出力し、被乾燥物５が僅か
な所定量溜っていることを検知する。

上記予備室２３の下部には、予備室２３より高所に位置
する他の吸引ホッパ２７に搬送パイプ２８を通して連結
されている。斯る吸引ホッパ２７にも上記吸引ホッパ７
と同様に、被乾燥物５の材料径より小さいメツシュを有
するフィルタ金網２９ａ及びフィルタ紙２９が配置され
、且つ該フィルタ紙の上部に位置してポペット弁３ｏが
設けられている。そして、斯るポペット弁３０の上部に
おいて、上記吸引ホッパ２７にも吸気パイプ３１を介し
て上記吸引ブロワ１１が連結されている。

この場合、ポペット弁３０が開放された状態でブロワ】
１を駆動すると、斯るブロワ１１の吸気作用が吸気パイ
プ３１、吸引ホンパ２７を介して搬送パイプ２８まで及
び、上記予備室２３に溜った被乾燥物５が搬送パイプ２
８を通って上記吸弓ホッパ２７に至る。被乾燥物５は斯
る吸引ホッパ２７に至ると該ホッパ内に自重により落下
する。

そして、上記吸引ホッパ２７において、下部傾斜壁に保
温ヒータ３２が配置され、下端に開閉弁３３が設けられ
ており、また上、下部に上限及び下限レベルセンサ３４
．３５が配置されている。

上記開閉弁３３の閉成において、上記吸気作用が働き上
記吸引ホッパ２７内に被乾燥物５が落下すると吸引ホッ
パ２フ内に被乾燥物５が溜り、一方上記開閉弁３３が開
放されるとこのように溜った被乾燥物５が下方へ落下し
次段処理部へ至り、斯る処理部にて乾燥された被乾燥物
５即ち四指ペレットが溶融成形される。

第４図は上記マイクロ波乾燥装置の回路を示し、主制御
部として三洋電機株式会社製の品番ＬＣ−６５Ｐ　Ｇ　
２３のマイクロコンピュータ３６が設けられており、該
コンピュータは、乾燥装置本体１の前面に配設されてい
る操作部３７からの操作情報、上記温度センサ】７から
の温度情報、上記各種レベルセンサ］６．２６．３４．
３５がらの情報等に基づいて、上記のマグネトロン１２
、モータ１４、吸気弁］８、排気弁２０、コンプレッサ
１９、排出弁２１、保温ヒータ２４．３２、吸引ブロワ
１１、ポベ／ト弁９．３０、開閉弁３３を駆動制御する
。

第５図は上記マイクロコンピュータ３６に組込まれた動
作プログラムのフローチャートを示し、以下同チャート
にイａっでマイクロ波乾燥装置の動作を説明する。

電源投入後、Ｓ１ステンプを経て、通常Ｓ２、Ｓ３、Ｓ
３ａ、Ｓ４、Ｓ５の各ステップが循環実行される。Ｓ１
ステンプでは初期設定動作が行われる。即ち、マイクロ
コンピュータ３６内の書込み可能な全ての領域のクリア
動作がなされ、且つ、マグネトロン１２、モータ１４、
コンプレッサ１９、保温ヒータ２４．３２、口及引ブロ
ワ１１が駆動停止状態に置かれるとともに、吸気弁１８
、排気弁２０、排出弁２１、ポペット弁９．３０、開閉
弁３３が各々開成状態に置かれる。Ｓ２ステンプでは上
記操作部３７からの操作情報が入力され、Ｓ３ステツプ
では上記下限レベルセンサ３５により吸引ホッパ２７に
被乾燥物５が溜っていないか否かが判断され、Ｓ３ａス
テツプでは−Ｆ記レベルセンサ２６の検知に基づいて予
備室２３に被乾燥物５が僅かな所定量溜っているか否か
が判断される。Ｓ４ステツプではマイクロコンピュータ
３６内のスタートフラグのセントの有無が調べられ、Ｓ
５ステツプではＳ２ステンアでの入力情報に基づいて現
在操作部３７によりスタートキーが操作されているか否
かが判断される。

而して、鉗脂ペレットである被乾燥物５を溶融成形する
に際し、斯る成形が良好になされるように被乾燥ＯＩ５
を事前に乾燥する場合、まず操作部３７にて、２０〜６
０分の範囲内及び７０〜１７０℃の範囲内で各々所望の
乾燥時間及び乾燥温度をキー操作設定し、且つ連続スイ
ッチ３８をオン操作する。これら操作情報はＳ２ステツ
プで入力される。その後操作部３７にてスタートキーを
操作すると、同様に８２ステツプで斯る情報が入力され
て、Ｓ５ステツプで肯定判断がなされ、続いてＳ６ステ
ツプにてスタートフラグがセットされ、Ｓ７ステップに
て上記保温ヒータ２４．３２の駆動制御が開始される。

即ち、上記予備室２３及び吸引ホッパ２７内が上記設定
された乾燥温度におよそ維持されるように上記各保温ヒ
ータ２４．３２が所望比率で断続駆動され、従って予備
室２３及び吸引ホッパ２７内が上記温度で保温される。

次いで、Ｓ８、Ｓ９、Ｓ１０の各ステップが順次実行さ
れる。Ｓ８ステツプではマイクロコンピュータ３６内の
搬送フラグのセットの有無が調べられる（今の場合セッ
トされていないことが調べられる）。Ｓ９ステツプでは
乾燥室３へ被乾燥物５を供給する動作が実行される。即
ち、ポペント弁９が開放されて吸引ブロワ１１が駆動さ
れ、吸引ブロワ１］の吸気作用により貯槽６がら乾燥室
３内に被乾燥物５が供給され、且つ、モータ１４が駆動
されて撹拌体１５が回動し、乾燥室３内に供給された被
乾燥物５の上面が滑らかな水平面にそろえられる。５１
０ステツプでは上記レベルセンサ１６の検知により被乾
燥物５が乾燥室３内に所定量溜ったか否かが判断される
（今の場合所定量溜っていないと判断される）。

その後、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓｌｌ、Ｓ８〜Ｓ
１０の各ステップが循環実行される。この時Ｓｌｌステ
ップではマイクロコンピュータ３６内の供給終了フラグ
のセットの有無が調べられる。そして、乾燥室３に被乾
燥物５が所定量溜り、これがＳ　］、　Ｏステップで判
断されると、次いでＳ１２、Ｓ１３ステツプが実行され
る。５１２ステツプでは、Ｓ９ステツプで実行された被
乾燥物５の乾燥室３への供給動作が終了される。Ｓ１３
ステツプでは上記供給終了フラグがセットされる。

その後、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４．５１１、Ｓ１４〜
Ｓ１７の各ステップが循環実行される。

この時、５１４ステツプではマイクロコンピュータ３６
内の乾燥終了フラグのセットの有無が調べられ、Ｓ］５
ステンプでは乾燥動作が実行される。即ち、温度センサ
１７により検知された被乾燥物５の温度が設定された乾
燥温度に到達したか否かにより７ダネトロン１２が断続
駆動され、被乾燥物５が乾燥温度に維持されてマイクロ
波乾燥され、且つ、モータ１４が再駆動されて撹拌体１
５が回動され被乾燥物５がむらなく乾燥されるように撹
拌されるとともに、コンプレッサ１９の駆動と吸気弁１
８、排気弁２ｏの開放がなされて被乾燥Ｔｈ５から発生
する水蒸気が外部へ排出される。更に、Ｓ１５ステツプ
では二のような乾燥動作とともに、乾燥経過時間の計時
が開始される。

５１６ステノプでは斯る乾燥経過時間が設定された乾燥
時間に到達したか否かが判断され、５１７ステツプでは
Ｓ８ステツプと同様に搬送フラグのセットの有無が調べ
られる。

而して、乾燥経過時間が設定乾燥時間に到達すると、Ｓ
】６ステンプの後Ｓ　１．８．５１９ステツプが実行さ
れる。５１８ステツプでは、Ｓ１５ステツプで実行され
た乾燥動作及び乾燥経過時間の計時が終了され且つ斯る
計時された時間がリセフトされる。Ｓ１９ステツプでは
上記乾燥終了フラグがセットされる。

そして、５１７、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４．５１１．
５１４ステツプを経た後、５２０．Ｓ２１、Ｓ２２、Ｓ
２３．５２４の各ステップが順次実行される。５２０ス
テツプではマイクロコンピュータ３６内の排出フラグの
セットの有無が調べられる。Ｓ２１ステツプでは上記レ
ベルセンサ２６の検知に基づいて予備室２３に既に被乾
燥物５が僅かな所定量溜っているか否かが判断される。

Ｓ２２ステンプでは乾燥室３での保温動作（後述する）
が行われている時にはこれが終了され且つ上記排出フラ
グがセットされる。５２３ステツプは上記５２１ステツ
プにて予備室２３に被乾燥物５が溜っていないために乾
燥室３から予備室２３へ乾燥された被乾燥物５を新たに
排出するのを許容した場合に実行されるもので、斯るＳ
２３ステツプでは乾燥された被乾燥物５を乾燥室３から
予備室２３へ排出する動作が実行される。即ち、上記排
出弁２１が開放されるとともに上記モータ１４が引続い
て駆動されて撹拌体１５が回動され、この撹拌体１５の
回動に伴って撹拌体１５近辺の被乾燥物５が周囲に押し
やられ、被乾燥物５が排出弁２］から排出パイプ２２を
介して予備室２３へ落下排出される。このように排出さ
れた被乾燥物５は、予備室２３が上記Ｓ７ステップから
保温されていることにより、自然冷却することがなく、
自然冷却に伴って被乾燥物５が再び吸湿してしまうこと
が防止される。また、上記Ｓ２３ステツプでは斯る排出
の経過時間の計時が開始される。Ｓ２４ステツプでは、
斯る排出経過時間が予め決められている排出時間（これ
は乾燥室３に溜められた所定量の被乾燥物５を全て排出
するのに十分な時間である）に到達したか否かが判断さ
れる。

その後、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓ１１．５１４．
５２０、Ｓ２３、Ｓ２４、Ｓ１７の各ステップが循環実
行され、そして上記排出に伴って予備室２３に僅かな所
定量の被乾燥物５が溜ると、斯る循環において５３ａス
テツプからＳ２５．５２６、Ｓ２７、Ｓ２８の各ステ７
プが順次実行される。Ｓ２５ステンブでは搬送フラグが
セットされ、５２６ステツプでは、上記Ｓ９ステツプに
より被乾燥物供給動作が実行されている場合に斯る動作
が停止される。Ｓ２７ステツプでは保温されている上記
予備室２３から上記吸引ホッパ２７へ乾燥された被乾燥
物５を搬送する動作が実行される。即ち、ポペット弁３
０が開放されて吸引フ゛ロワ１１が駆動され、吸引フ゛
ロワ１１の吸気作用により予備室２３から吸引ホッパ２
７へ被乾燥物５が搬送される。このように搬送された被
乾燥物５は、吸引ホッパ２７が上記Ｓ７ステンプから保
温されていることにより、自然冷却することがなく、被
乾燥物が再び吸湿してしまうことが防止される。５２８
ステツプでは、上記上限レベルセンサ３４の検知により
吸引ホッパ２７に被乾燥物５が斯るセンサの位置まで溜
ったか否かが判断される（今の場合、否と判断される）
。

その後、Ｓ４、Ｓｏｌ、Ｓ１４、Ｓ２０、Ｓ２３．５２
４．５１７、Ｓ２７、Ｓ２８の各ステップが循環実行さ
れ、この間、予備室２３への排出動作と吸引ホッパ２７
への搬送動作とが並行処理され、予備室２３へ排出され
た被乾燥物５は直ちに吸引ホッパ２７へ搬送される。

そして、排出経過時間が予め決められている排出時間に
到達すると（乾燥室３から予備室２３へ被乾燥物５が全
て排出される）、続いてＳ２９、Ｓ３０．５３１の各ス
テップが順次実行される。

Ｓ２９ステツプでは、Ｓ２３ステツプで実行された排出
動作及び排出経過時間の計時が終了され且つ斯る計時さ
れた時間がリセットされる。Ｓ３０ステツプでは、上記
の供給終了フラグ、乾燥終了フラグ、排出フラグの全て
がリセットされる。Ｓ３１ステツプでは操作部３７で連
続スイッチ３８がオンされているか否かが判断される。

今の場合、連続スイッチ３８はオン状態にあり、その後
５１７ステノプを経てからＳ４、Ｓ１１、Ｓ８、Ｓ２７
、Ｓ２８の各ステップが循環実行される。そして、予備
室２３内の被乾燥物５の搬送がなされて、吸引ホッパ２
７に上限レベルセンサ３４の位置まて゛被乾燥ＤＪ５が
溜ると、Ｓ２８ステンプからＳ３２、Ｓ３３ステンプが
実行される。Ｓ３２ステツプでは上記５２７ステノブで
実行されている搬送動作が停止され、５３３ステツプで
は搬送フラグがリセｙ）される。

而して、このように吸引ホッパ２７に溜った被乾燥物５
は、次段処理部で溶融成形されるのであるが、こｈは、
吸引ホ／バ２７内に−１−限レベルセンサ３４の位置ま
で被乾燥物５が溜っている状態で溶融成形を指令するた
めの外部指令信号Ｐがマイクロコンピュータ３６内に与
えられたときに実行される。即ち、この時、マイクロコ
ンピュータ３６により上記開閉弁３３が開放され、被乾
燥物５が吸引ホッパ２７から次段処理部へ放出される。

上記開閉弁３３は吸引ホッパ２７内の被乾燥物５が全て
放出された頃に再び閉じられる。そして、上記放出され
た被乾燥物５は次段処理部で溶融成形されるのであり、
この場合書脂ペレント即ち被乾燥物５は事前に乾燥され
ているため成形が良好になされる。

ここて゛、上記溶融成形するための上記次段処理部の処
理能力が遅い場合、上記被乾燥物供給動作から搬送動作
までが繰返し行われるため、上記吸引ホッパ２７及び予
備室２３に被乾燥物５が溜ったままとなる。而して、予
備室２３に被乾燥物５が溜った状態で、更に乾燥室３が
ら被乾燥物５が排出されようとすると、これはＳ２１ス
テップ出判断され、即ち予備室２３に被乾燥物５が所定
量以上溜っていて乾燥室３がら予備室２３へ被乾燥物５
を新たに排出するのを許容しないことが判断される。す
ると、乾燥された被乾燥物５は乾燥後もそのまま乾燥室
３内に放置される。斯る放置が単に行われると、被乾燥
物５は折角乾燥されても自然冷却されて再び吸湿するの
であるが、本実施例ではこれを防ぐべくこの時Ｓ３４ス
テツプが実行される。即ち、斯るＳ３４ステツプでは、
Ｓ１５ステツプでの乾燥動作と全く同一の制御がなされ
被乾燥物５がマイクロ波で設定乾燥温度に保温され、従
って被乾燥物５が乾燥室３で再び吸湿するのが防止され
る。

上記一連の動作は連続スイッチ３８をオフすることによ
り終了される。即ち、斯るオフ時にて８３１ステツプが
実行されると、次いでＳ３５ステツプが実行され、上記
スタートフラグがリセットされるとともに上記各保温ヒ
ータ２４．３２が駆動停止される。その後Ｓ２、Ｓ３、
Ｓ３ａ、Ｓ４、Ｓ５ステツプが循環実行される。

（ト）発明の効果 本発明のマイクロ波乾燥装置によれば、被乾燥物を撹拌
する撹拌手段に伝達力を与える伝達軸の周囲にマイクロ
波チョーク空間を設けた構成において、低誘電損失材料
がらなり、上記伝達軸に沿って上記チョーク空間内に上
記被乾燥物が侵入するのを阻止する阻止手段を設けたが
ら、チョーク空間の回路定数が被乾燥物により所望値か
らずれるのが抑制され、チョーク空間は十分なマイクロ
波チョークを行うことができる。

更に、上記伝達軸は乾燥室の壁をスライド自在に貫通し
ており、撹拌手段と乾燥室の壁との間の狭い隙間に被乾
燥物が入った場合、伝達軸はこの隙間を拡大すべくスラ
イドし、従って撹拌手段は被乾燥物が詰まって駆動でき
なくなることなく正常に駆動することができる。

更に、上記伝達軸はスライド自在であるため、乾燥室内
の清掃時、伝達軸をスライドさせて撹拌手段と乾燥室壁
との間の隙間をも簡単に清掃することができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明実施例のマイクロ波乾燥装置に係り、第１
図は正面断面図、第２図及び第３図は要部の正面断面図
、第４図は回路図、第５図はマイクロコンピュータの動
作プログラムのフローチャートである。 ３・乾燥室、１２・・・マグネトロン、１５・・・撹拌
体、１５ａ・・・伝達軸、］５５ｇ・・マイクロ波チョ
ーク空間、］５ｈ・・バイブ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）粒状または粉状被乾燥物が供給される乾燥室と、
   該乾燥室に上記被乾燥物をマイクロ波乾燥するためのマ
   イクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、上記乾燥室
   内に配置され上記被乾燥物を撹拌する撹拌手段と、上記
   乾燥室の壁をスライド自在に貫通し上記撹拌手段に撹拌
   力を伝達する伝達軸と、該伝達軸の周囲に設けられたマ
   イクロ波チョーク空間と、低誘電損失材料からなり、上
   記伝達軸に沿って上記チョーク空間内に上記被乾燥物が
   侵入するのを阻止する阻止手段とからなるマイクロ波乾
   燥装置。