JPH043326A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH043326A JPH043326A JP2103375A JP10337590A JPH043326A JP H043326 A JPH043326 A JP H043326A JP 2103375 A JP2103375 A JP 2103375A JP 10337590 A JP10337590 A JP 10337590A JP H043326 A JPH043326 A JP H043326A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic layer
- magnetic recording
- recording medium
- ferromagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体
に関し、特に広範囲の温湿度条件において走行性、耐久
性および保存安定性に優れる磁気記録媒体に関するもの
である。
に関し、特に広範囲の温湿度条件において走行性、耐久
性および保存安定性に優れる磁気記録媒体に関するもの
である。
磁気記録媒体においては、より高密度記録の要求が高ま
り、その一つの対応手段として磁性層の表面を平滑にす
ることが知られている。
り、その一つの対応手段として磁性層の表面を平滑にす
ることが知られている。
また強磁性薄膜型磁気記録媒体も次世代の媒体として開
発されている。
発されている。
しかしながら以上のような媒体において、電磁変換特性
向上のため磁性層の表面を平滑にすると磁気記録媒体の
走行中において磁性層と装置系との接触の摩擦係数が増
大する結果、短期間の使用で磁気記録媒体の磁性層が損
傷を受け、あるいは磁性層が剥離する傾向がある。
向上のため磁性層の表面を平滑にすると磁気記録媒体の
走行中において磁性層と装置系との接触の摩擦係数が増
大する結果、短期間の使用で磁気記録媒体の磁性層が損
傷を受け、あるいは磁性層が剥離する傾向がある。
二のような問題に対処するために磁性塗布液中に潤滑剤
を添加する方法、あるいは磁性層表面に潤滑剤を塗布す
る方法が知られている。
を添加する方法、あるいは磁性層表面に潤滑剤を塗布す
る方法が知られている。
潤滑剤としては従来、鉱物油、シリコンオイル、高級ア
ルコール、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、牛脂、鯨油、
散油の動物油あるいは植物油などが用いられてきた。
ルコール、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、牛脂、鯨油、
散油の動物油あるいは植物油などが用いられてきた。
上記に示す従来の潤滑剤が少ない場合には、その潤滑効
果を高めるため潤滑剤を多くすると、磁性塗膜の機械的
強度は弱くなり磁性層が削れ、削れ粉が走行性経路を汚
したり、あるいは十分なスチル再生の耐久性が得られな
かったりした。スチル再生の耐久性を向上させるために
は特公昭28−28367号、特公昭51−39081
号等に開示されるように、ステアリン酸ブチルの如き脂
肪酸エステルとミリスチン酸の如き脂肪酸を混合して用
いることが知られている。しかしながらこれらの開示例
を用いると高温状態で走行させたとき摩擦が大きくなり
磁気テープの走行テンションが大きくなるという欠点が
生じた。
果を高めるため潤滑剤を多くすると、磁性塗膜の機械的
強度は弱くなり磁性層が削れ、削れ粉が走行性経路を汚
したり、あるいは十分なスチル再生の耐久性が得られな
かったりした。スチル再生の耐久性を向上させるために
は特公昭28−28367号、特公昭51−39081
号等に開示されるように、ステアリン酸ブチルの如き脂
肪酸エステルとミリスチン酸の如き脂肪酸を混合して用
いることが知られている。しかしながらこれらの開示例
を用いると高温状態で走行させたとき摩擦が大きくなり
磁気テープの走行テンションが大きくなるという欠点が
生じた。
脂肪酸は単独で使用した場合は、画質の向上には有効で
あるが、滑性を得るためには、多量に用いる必要があり
、この場合には磁性層が軟らかくなり、機械的強度が低
下し、スチル再生の耐久性が劣化する欠点があった。
あるが、滑性を得るためには、多量に用いる必要があり
、この場合には磁性層が軟らかくなり、機械的強度が低
下し、スチル再生の耐久性が劣化する欠点があった。
また特公昭51−39081号に記載されていた脂肪酸
と脂肪酸エステル化合物の併用は、スチル耐久性が良好
となり、かつテンションも比較的小さくなるが、しかし
85%RH(相対湿度)というような高温条件において
は走行テンションが大きくなる欠点を有していた。
と脂肪酸エステル化合物の併用は、スチル耐久性が良好
となり、かつテンションも比較的小さくなるが、しかし
85%RH(相対湿度)というような高温条件において
は走行テンションが大きくなる欠点を有していた。
これらの欠点を解消するために特開昭56−80828
号では磁性層中に飽和または不飽和脂肪酸と脂肪族ハイ
ドロカービルリン酸エステルを用いることを提案してい
る。この提案では常温時および高温時の滑性に優れ、耐
摩耗性およびスチル再生の耐久性が良好であると記載さ
れている。
号では磁性層中に飽和または不飽和脂肪酸と脂肪族ハイ
ドロカービルリン酸エステルを用いることを提案してい
る。この提案では常温時および高温時の滑性に優れ、耐
摩耗性およびスチル再生の耐久性が良好であると記載さ
れている。
しかしながら最近VTRやパーソナルコンピューターま
たはワードプロセッサ用といった民生用のフレキシブル
ディスクドライブ装置が普及・−膜化するにいたり、磁
気記録媒体の使用条件も低温下での使用、あるいは高温
高湿下での使用等広きにわたるようになってきた。従っ
て、磁気記録媒体は予測される種々の、条件下において
もその走行耐久性が変動することがないような安定した
ものでなければならないが従来知られているような潤滑
剤では十分ではなく、性能劣下するという問題があった
。
たはワードプロセッサ用といった民生用のフレキシブル
ディスクドライブ装置が普及・−膜化するにいたり、磁
気記録媒体の使用条件も低温下での使用、あるいは高温
高湿下での使用等広きにわたるようになってきた。従っ
て、磁気記録媒体は予測される種々の、条件下において
もその走行耐久性が変動することがないような安定した
ものでなければならないが従来知られているような潤滑
剤では十分ではなく、性能劣下するという問題があった
。
また走行耐久性を向上させるための別の対策としては、
磁性層に研磨材(硬質粒子)を添加する方法が提案・実
施されているが、磁性層の走行耐久性を向上させる目的
で磁性層に研磨材を添加する場合には、研磨材を相当多
量に添加しなければその添加効果が現れに(い。すなわ
ち、電磁変換特性・ヘッド摩耗性を犠牲にすることなく
走行耐久性を得ることは究極的には難しい。
磁性層に研磨材(硬質粒子)を添加する方法が提案・実
施されているが、磁性層の走行耐久性を向上させる目的
で磁性層に研磨材を添加する場合には、研磨材を相当多
量に添加しなければその添加効果が現れに(い。すなわ
ち、電磁変換特性・ヘッド摩耗性を犠牲にすることなく
走行耐久性を得ることは究極的には難しい。
そこで本発明らは上記問題点を解消するような潤滑剤に
ついて鋭意検討した結果、スルホン88体を磁性層に保
持させることにより従来の潤滑剤では到底達成できなか
った優れた耐久性・環境適応性を得ることができること
を見出し、本発明を為すに至ったものである。
ついて鋭意検討した結果、スルホン88体を磁性層に保
持させることにより従来の潤滑剤では到底達成できなか
った優れた耐久性・環境適応性を得ることができること
を見出し、本発明を為すに至ったものである。
(発明の目的)
本発明の目的は再生出力及び広範囲の温湿度条件におい
て走行性、耐久性および保存性を改良した特に高温高温
での摩擦係数を改良した磁気記録媒体を提供することに
ある。
て走行性、耐久性および保存性を改良した特に高温高温
での摩擦係数を改良した磁気記録媒体を提供することに
ある。
(発明の構成)
すなわち本発明の上記目的は非磁性支持体上に磁性層を
設けた磁気記録媒体において、前記磁性層中又は磁性層
表面に下記一般式で示されるスルホン誘導体を含むこと
を特徴とする磁気記録媒体によって達成できる。
設けた磁気記録媒体において、前記磁性層中又は磁性層
表面に下記一般式で示されるスルホン誘導体を含むこと
を特徴とする磁気記録媒体によって達成できる。
(但しRは炭素数10以上26以下の炭化水素基、
R′は1以上26以下の炭化水素基)
更に好ましくは本発明の上記目的は、前記磁性層が、強
磁性粉末と結合剤を含み、かつ該結合剤中に含まれる樹
脂の少なくとも1種の樹脂が極性基を有する事を特徴と
する磁気記録媒体によって達成でき、又前記磁性層が斜
め蒸着による強磁性金属薄膜であることを特徴とする磁
気記録媒体によって達成できる。
磁性粉末と結合剤を含み、かつ該結合剤中に含まれる樹
脂の少なくとも1種の樹脂が極性基を有する事を特徴と
する磁気記録媒体によって達成でき、又前記磁性層が斜
め蒸着による強磁性金属薄膜であることを特徴とする磁
気記録媒体によって達成できる。
すなわち本発明は磁性層にスルホン誘導体を含ませるか
または磁性層表面に存在させるとたとえば高温高温、低
温低湿のような苛酷な条件下で使用した場合でも恒に安
定した走行耐久性が得られ、しかもその保存によって劣
化しないものである。
または磁性層表面に存在させるとたとえば高温高温、低
温低湿のような苛酷な条件下で使用した場合でも恒に安
定した走行耐久性が得られ、しかもその保存によって劣
化しないものである。
本発明のスルホン誘導体によりこのような効果が得られ
る理由は定かではないが、以下のようなことが考えられ
る。
る理由は定かではないが、以下のようなことが考えられ
る。
すなわち本発明の化合物の極性基であるスルホン基は無
機材料に親和性が高く、金属材料表面および結合剤膜に
固着しやすい。そのため疎水類の炭化水素基が表面に配
向しやすく、良好な潤滑性能を示す。またこれはヘキサ
ン、MEKなどの溶剤への溶解性も高く、トップコート
する際、金属材料表面に均一に塗布することが出来、均
一に配向膜をつくることが出来る。それに対してスルホ
ン酸エステルの場合、それ自体強い酸であるため金属材
料表面を腐食させる。またスルボン酸の金属塩、アンモ
ニウム塩の場合、経時で塩が解離して酸となり金属材料
を腐食させる、あるいは溶剤への溶解性が低いため均一
に塗布することが難しく、均一な配向膜を作ることが出
来ない。
機材料に親和性が高く、金属材料表面および結合剤膜に
固着しやすい。そのため疎水類の炭化水素基が表面に配
向しやすく、良好な潤滑性能を示す。またこれはヘキサ
ン、MEKなどの溶剤への溶解性も高く、トップコート
する際、金属材料表面に均一に塗布することが出来、均
一に配向膜をつくることが出来る。それに対してスルホ
ン酸エステルの場合、それ自体強い酸であるため金属材
料表面を腐食させる。またスルボン酸の金属塩、アンモ
ニウム塩の場合、経時で塩が解離して酸となり金属材料
を腐食させる、あるいは溶剤への溶解性が低いため均一
に塗布することが難しく、均一な配向膜を作ることが出
来ない。
また、本発明の化合物は、特に、塗布型磁気記録媒体の
結合剤として極性基含有の結合剤(バインダー)を用い
た場合にその効果を顕著に奏するものである。
結合剤として極性基含有の結合剤(バインダー)を用い
た場合にその効果を顕著に奏するものである。
なぜなら、本発明の化合物の極性基は、結合剤に溶解し
易く、また結合剤の極性基と非常に強くインタラクショ
ンを持つためそのアンカー効果によって潤滑性能を維持
することが出来る。一方スルホン酸エステルは、強磁性
粉末に強く吸着するため、表面に出てこない、またスル
ホン酸エステルの塩は溶剤溶解性が低く表面に結晶が析
出するため滑り性が悪くなるからと考えられる。
易く、また結合剤の極性基と非常に強くインタラクショ
ンを持つためそのアンカー効果によって潤滑性能を維持
することが出来る。一方スルホン酸エステルは、強磁性
粉末に強く吸着するため、表面に出てこない、またスル
ホン酸エステルの塩は溶剤溶解性が低く表面に結晶が析
出するため滑り性が悪くなるからと考えられる。
本発明で用いるスルホン誘導体について以下に詳細に説
明する。
明する。
(但しRは炭素数10以上26以下の炭化水素基
R′は1以上26以下の炭化水素基
を示す。)
本発明のスルホン誘導体としてRは、10以上26以下
の炭化水素基のスルホン誘導体であれば、分子量、分岐
構造、不飽和結合、異性体構造によらず選択することが
できるが、好ましくは、非芳香族系炭化水素基(但し、
アラルキル基等は包含される。)であり、特に、直鎖ア
ルキル基が好ましい。
の炭化水素基のスルホン誘導体であれば、分子量、分岐
構造、不飽和結合、異性体構造によらず選択することが
できるが、好ましくは、非芳香族系炭化水素基(但し、
アラルキル基等は包含される。)であり、特に、直鎖ア
ルキル基が好ましい。
この場合、炭素数が9以下あるいは27以上であると疎
水類が短すぎるあるいは長すぎる、配向しずらくなり潤
滑性を発揮しない。
水類が短すぎるあるいは長すぎる、配向しずらくなり潤
滑性を発揮しない。
またR′については、1以上26以下の炭化水素基のス
ルホン誘導体であれば分子量、分岐構造、不飽和結合、
異性体構造によらず選択することができるが、好ましく
は、非芳香族系炭化水素基(但し、アラルキル基等は包
含される。)であり、特に、直鎖アルキル基が好ましい
。その中でも、更に好ましくは、炭素数が1以上4以下
あるいは10以上26以下のアルキル基であるものが疎
水類を高田度に配向させるという観点から望ましい。
ルホン誘導体であれば分子量、分岐構造、不飽和結合、
異性体構造によらず選択することができるが、好ましく
は、非芳香族系炭化水素基(但し、アラルキル基等は包
含される。)であり、特に、直鎖アルキル基が好ましい
。その中でも、更に好ましくは、炭素数が1以上4以下
あるいは10以上26以下のアルキル基であるものが疎
水類を高田度に配向させるという観点から望ましい。
また全体の炭素数としては44以下が好ましい。
44以上だと溶剤及びバインダーへの溶解性が悪くなる
ため表面に析出したり、また配向しすらくなり潤滑性を
発揮しなくなる。
ため表面に析出したり、また配向しすらくなり潤滑性を
発揮しなくなる。
具体的には
CHsCCHz)□5CHCHs
11\
OCH。
化合物7
化合物8
C)13 0
これらの化合物はたとえばスルフィドまたはスルホキシ
ドを溶剤(アセトン、MEK等)に溶かし、酸化剤(過
酸化水素、過安息香酸、オゾン、クロム酸、過マンガン
酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝酸、四酸化二窒
素、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、酸化ルテニウム、酸化
オスミウム(■)、ヒドロペルオキシド等)を加え、数
時間煮沸還流後、抽出、減圧蒸留、再結晶することによ
り得ることが出来る。
ドを溶剤(アセトン、MEK等)に溶かし、酸化剤(過
酸化水素、過安息香酸、オゾン、クロム酸、過マンガン
酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝酸、四酸化二窒
素、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、酸化ルテニウム、酸化
オスミウム(■)、ヒドロペルオキシド等)を加え、数
時間煮沸還流後、抽出、減圧蒸留、再結晶することによ
り得ることが出来る。
使用量は通常の塗布型磁気記録媒体の磁性層に内添する
場合、強磁性粉末に対して0.1〜8重量%が適当であ
る。塗布型磁気記録媒体の磁性層の表面にトップコート
する場合は2〜50■/ボが適当である。
場合、強磁性粉末に対して0.1〜8重量%が適当であ
る。塗布型磁気記録媒体の磁性層の表面にトップコート
する場合は2〜50■/ボが適当である。
使用量がこの範囲をこえると表面の、スルホン誘導体が
過剰になり、貼りつき、吸湿等の故障の原因になること
があるだけでなく、内添型の場合磁性層バインダーを可
塑化する作用により却って耐久性が低下する等の問題が
ある。
過剰になり、貼りつき、吸湿等の故障の原因になること
があるだけでなく、内添型の場合磁性層バインダーを可
塑化する作用により却って耐久性が低下する等の問題が
ある。
使用量がこの範囲を下まわると当然のことながら表面量
が不十分となり効果が得られない。
が不十分となり効果が得られない。
本発明においては、その他の潤滑剤を混在させてもよい
。
。
併用できる潤滑剤としては、飽和、不飽和の脂肪酸(ミ
リスチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等)金属石鹸、
N置換・N未置換の脂肪酸アミド、脂肪酸エステル(各
種モノエステルをはしめソルビタン、グリセリン、等多
価エステルの脂肪酸エステル、多塩基酸のエステル化物
等)、エーテル結合を有するエステル化合物、高級脂肪
族アルコール、モノアルキルフォスフェート、ジアルキ
ルフォスフェート、トリアルキルフォスフェート、パラ
フィン類、シリコーンオイル、動植物油、鉱油、高級脂
肪族アミン;グラファイト、シリカ、二硫化モリブデン
、二硫化タングステン等の無機微粉末;ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニ
ル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂微粉
末;αオレフイン重合物;常温で液体の不飽和脂肪族炭
化水素、末端変性または未変性のパーフルオロアルキル
ポリエーテル、フルオロカーボン類等があげられる。
リスチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等)金属石鹸、
N置換・N未置換の脂肪酸アミド、脂肪酸エステル(各
種モノエステルをはしめソルビタン、グリセリン、等多
価エステルの脂肪酸エステル、多塩基酸のエステル化物
等)、エーテル結合を有するエステル化合物、高級脂肪
族アルコール、モノアルキルフォスフェート、ジアルキ
ルフォスフェート、トリアルキルフォスフェート、パラ
フィン類、シリコーンオイル、動植物油、鉱油、高級脂
肪族アミン;グラファイト、シリカ、二硫化モリブデン
、二硫化タングステン等の無機微粉末;ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニ
ル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂微粉
末;αオレフイン重合物;常温で液体の不飽和脂肪族炭
化水素、末端変性または未変性のパーフルオロアルキル
ポリエーテル、フルオロカーボン類等があげられる。
これらの混在潤滑剤の好ましい使用量は使用態様によっ
て様々だが、おおむね、本発明のスルホン誘導体の1/
lO〜2倍の使用量である。
て様々だが、おおむね、本発明のスルホン誘導体の1/
lO〜2倍の使用量である。
本発明において、スルホン誘導体を磁性層に保持させる
方法としては、磁性層に含有させる方法と表面にトップ
コート(材料を有機溶剤に溶解して基板に塗布あるいは
噴霧したのち乾燥する方法、材料を熔融して基板に塗着
させる方法、有機溶剤に材料を溶解した溶液に基板を浸
漬して材料を基板表面に吸着させる方法、ラングミュア
−プロジェット法などによる)する方法がある。
方法としては、磁性層に含有させる方法と表面にトップ
コート(材料を有機溶剤に溶解して基板に塗布あるいは
噴霧したのち乾燥する方法、材料を熔融して基板に塗着
させる方法、有機溶剤に材料を溶解した溶液に基板を浸
漬して材料を基板表面に吸着させる方法、ラングミュア
−プロジェット法などによる)する方法がある。
本発明に用いられる強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
粉末、Coドープの強磁性酸化鉄粉末、強磁性二酸化ク
ロム粉末、強磁性金属粉末、強磁性合金粉末、バリウム
フェライトなどが使用できる。
粉末、Coドープの強磁性酸化鉄粉末、強磁性二酸化ク
ロム粉末、強磁性金属粉末、強磁性合金粉末、バリウム
フェライトなどが使用できる。
強磁性合金粉末の例としては、金属分が75−t%以上
であり、金属分の80wt%以上か少なくとも一種類の
強磁性金属あるいは合金(Fe、Co、Ni、Fe−C
o、Fe−Ni、Co−Ni。
であり、金属分の80wt%以上か少なくとも一種類の
強磁性金属あるいは合金(Fe、Co、Ni、Fe−C
o、Fe−Ni、Co−Ni。
Co−Fe−Niなと)であり、該金属分の20wt%
以下で他の成分(AI、Si、S、Sc。
以下で他の成分(AI、Si、S、Sc。
Ti V、Cr、Mn、Cu、Zn、Y、Mo。
Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、B、Ba、TaW
Re Au、 Hg、 Pb、 P、 La、
Ce。
Re Au、 Hg、 Pb、 P、 La、
Ce。
Pr、Nd、Te、Biなど)を含むものを挙げること
ができる。また、上記強磁性金属分が少量の水、水酸化
物、または酸化物を含むものであってもよい。
ができる。また、上記強磁性金属分が少量の水、水酸化
物、または酸化物を含むものであってもよい。
これらの強磁性粉末の製法は既知であり、本発明で用い
られる強磁性粉末についても公知の方法にしたがって製
造することができる。
られる強磁性粉末についても公知の方法にしたがって製
造することができる。
強磁性粉末の形状・サイズは特に制限なく広く用いるこ
とができる。形状としては針状、米粒状、球状、立方体
状、板状等いずれでもよいが針状、板状が電磁変換特性
上好ましい、結晶子サイズ、非表面積もとくに制限はな
いが、結晶子サイズで400Å以下、S BETで30
イ/g以上が好ましい。強磁性粉末のPH1表面処理は
とくに制限なく用いる事ができる(チタン、珪素、アル
ミニウム等の元素を含む物質で表面処理されていてもよ
いし、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル、ホスホ
ン酸、燐酸エステル、ベンゾトリアゾール等の含窒素複
素環をもつ吸着性化合物の樺な有機化合物で処理されて
いてもよい。好ましいPHの範囲は5〜10である。強
磁性酸化鉄微粉末の場合、2価の鉄/3価の鉄の比に特
に制限されることなく用いることができる。
とができる。形状としては針状、米粒状、球状、立方体
状、板状等いずれでもよいが針状、板状が電磁変換特性
上好ましい、結晶子サイズ、非表面積もとくに制限はな
いが、結晶子サイズで400Å以下、S BETで30
イ/g以上が好ましい。強磁性粉末のPH1表面処理は
とくに制限なく用いる事ができる(チタン、珪素、アル
ミニウム等の元素を含む物質で表面処理されていてもよ
いし、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル、ホスホ
ン酸、燐酸エステル、ベンゾトリアゾール等の含窒素複
素環をもつ吸着性化合物の樺な有機化合物で処理されて
いてもよい。好ましいPHの範囲は5〜10である。強
磁性酸化鉄微粉末の場合、2価の鉄/3価の鉄の比に特
に制限されることなく用いることができる。
本発明に用いられる結合剤は従来、磁気記録媒体用の結
合剤として使用されている公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応型樹脂およびこれらの
混合物を使用することができる。
合剤として使用されている公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応型樹脂およびこれらの
混合物を使用することができる。
上記樹脂のTgは一40°C〜150°C1重量平均分
子量は1万〜30万、好ましくは1万〜10万である。
子量は1万〜30万、好ましくは1万〜10万である。
上記熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、
マレイン酸および/またはアクリル酸との共重合体、塩
化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アク
リロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
などのビニル系共重合体、ニトロセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブ
チレート樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂
、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウ
レタン、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ
樹脂、スチレンブタジェン樹脂、ブタジェンアクリロニ
トリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、弗素系
樹脂を挙げることができる。
重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、
マレイン酸および/またはアクリル酸との共重合体、塩
化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アク
リロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
などのビニル系共重合体、ニトロセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブ
チレート樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂
、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウ
レタン、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ
樹脂、スチレンブタジェン樹脂、ブタジェンアクリロニ
トリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、弗素系
樹脂を挙げることができる。
これらの中で、塩化ビニル系樹脂は強磁性微粉末の分散
性が高く好ましい。
性が高く好ましい。
上記熱硬化性樹脂または、反応型樹脂としては加熱によ
り分子量がきわめて大きくなる物で、たとえばフェノー
ル樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウ
レタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂
、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリ
アミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/
高分子量ジオール/ポリイソシアネートの混合物、ポリ
アミン樹脂、およびこれらの混合物があげられる。
り分子量がきわめて大きくなる物で、たとえばフェノー
ル樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウ
レタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂
、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリ
アミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/
高分子量ジオール/ポリイソシアネートの混合物、ポリ
アミン樹脂、およびこれらの混合物があげられる。
上記放射線硬化型樹脂としては上記熱可塑性樹脂に放射
線硬化官能基として炭素−炭素不飽和結合を有する基を
結合させたものが用いられる。好ましい官能基としては
アクリロイル基、メタクリロイル基などがある。
線硬化官能基として炭素−炭素不飽和結合を有する基を
結合させたものが用いられる。好ましい官能基としては
アクリロイル基、メタクリロイル基などがある。
以上列挙の結合剤分子中に、極性基(エポキシ基、 C
Oz M、 OH,NRt 、 NR2X。
Oz M、 OH,NRt 、 NR2X。
sow M、−05Ch M、−PO3M、、−0PO
,M□、ただしMは水素、アルカリ金属またはアンモニ
ウムであり、一つの基の中に複数のMがあるときは互い
に異なっていてもよい、Xはハロゲンイオンを示す、R
は水素またはアルキル基である)を導入したものが強磁
性粉末の分散性、耐久性上、好ましく本発明のスルホン
誘導体の添加効果が顕著に現れる。極性基の含有量とし
てはポリマー1グラム当り10−7〜10−”当量であ
り、さらに好ましくは10〜6〜10−4当量の範囲で
ある。
,M□、ただしMは水素、アルカリ金属またはアンモニ
ウムであり、一つの基の中に複数のMがあるときは互い
に異なっていてもよい、Xはハロゲンイオンを示す、R
は水素またはアルキル基である)を導入したものが強磁
性粉末の分散性、耐久性上、好ましく本発明のスルホン
誘導体の添加効果が顕著に現れる。極性基の含有量とし
てはポリマー1グラム当り10−7〜10−”当量であ
り、さらに好ましくは10〜6〜10−4当量の範囲で
ある。
極性基の含有量としては10−7当量未満であると相互
作用する潤滑剤量が少なくなるため均一な配向膜を形成
するのが難しくなり滑り性が低下する。また10−’当
量より多いと結合剤の粘度が上がり分散性が低下するた
め好ましくない。
作用する潤滑剤量が少なくなるため均一な配向膜を形成
するのが難しくなり滑り性が低下する。また10−’当
量より多いと結合剤の粘度が上がり分散性が低下するた
め好ましくない。
以上列挙の高分子結合剤は単独または数種混合で使用さ
れ、インシアネート系の公知の架g荊、および/あるい
は放射線硬化型ビニル系モノマーを添加して硬化処理す
ることができる。
れ、インシアネート系の公知の架g荊、および/あるい
は放射線硬化型ビニル系モノマーを添加して硬化処理す
ることができる。
イソシアネート系架橋剤としてはインシアネート基を2
個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえばト
リレンジイソシアネート、4.4′ジフエニルメタンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイ
ソシアネート、0−)ルイジンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシ
アネートなどのイソシアネート類、これらのイソシアネ
ート類とポリアルコールとの反応生成物、及びこれらの
イソシアネート類の縮合により生成したポリイソシアネ
ートなどが挙げられる。これらのポリイソシアネートは
日本ポリウレタン工業■カラコロ*−トL、コロネ−)
HL、 コロネートH,コロネートEH,コロネート2
014、コロネート2030、コロネート2031、コ
ロネー)2036、コロネー)3015、コロネート3
040、コロネート3041、ミリオネートMR。
個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえばト
リレンジイソシアネート、4.4′ジフエニルメタンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイ
ソシアネート、0−)ルイジンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシ
アネートなどのイソシアネート類、これらのイソシアネ
ート類とポリアルコールとの反応生成物、及びこれらの
イソシアネート類の縮合により生成したポリイソシアネ
ートなどが挙げられる。これらのポリイソシアネートは
日本ポリウレタン工業■カラコロ*−トL、コロネ−)
HL、 コロネートH,コロネートEH,コロネート2
014、コロネート2030、コロネート2031、コ
ロネー)2036、コロネー)3015、コロネート3
040、コロネート3041、ミリオネートMR。
ミリオネートMTL、ダルトセック1350、ダルトセ
ック2170、ダルトセック2280、式日薬品工業■
からタケネー)D102、タケネー)DIION、タケ
ネートD200、タケネートD202、住人バイエル■
から、スミジュールN75、西独バイエル社からデスモ
ジュールし、デスモジュールIL、デスモジモユールN
1デスモジュールHL、大日本インキ化学工業−からバ
ーノックD850、バーノックD802などの商品名で
市販されている。
ック2170、ダルトセック2280、式日薬品工業■
からタケネー)D102、タケネー)DIION、タケ
ネートD200、タケネートD202、住人バイエル■
から、スミジュールN75、西独バイエル社からデスモ
ジュールし、デスモジュールIL、デスモジモユールN
1デスモジュールHL、大日本インキ化学工業−からバ
ーノックD850、バーノックD802などの商品名で
市販されている。
放射線硬化ビニル糸上ツマ−としては、放射線照射によ
って重合可能な化合物であって、炭素炭素不飽和結合を
分子中に1個以上有する化合物であり、(メタ)アクリ
ル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異
部環化合物、N−ビニル化合物、スチレン、(メタ)ア
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、オレフィン類等が
あげられる。
って重合可能な化合物であって、炭素炭素不飽和結合を
分子中に1個以上有する化合物であり、(メタ)アクリ
ル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異
部環化合物、N−ビニル化合物、スチレン、(メタ)ア
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、オレフィン類等が
あげられる。
これらのうち好ましいものとして(メタ)アクリロイル
基を2個以上有する、ジエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、などのポリエチレングリコールの(メタ)ア
クリレート類、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)ア
クリレート化合物との反応物、等がある。
基を2個以上有する、ジエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、などのポリエチレングリコールの(メタ)ア
クリレート類、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)ア
クリレート化合物との反応物、等がある。
これらの架橋剤は、架橋剤を含む全結合剤のうち5から
45wt%含むことが好ましい。
45wt%含むことが好ましい。
本発明の磁性層における前記全結合剤(架橋剤も含む)
の配合は強磁性粉末に対し10〜40wt%、好ましく
は15〜3Qwt%である。
の配合は強磁性粉末に対し10〜40wt%、好ましく
は15〜3Qwt%である。
結合剤の配合割合が前記範囲より多いと強磁性粉末の充
填度が低く71M1変換特性が低下し、逆に少ないと走
行耐久性が低下する。
填度が低く71M1変換特性が低下し、逆に少ないと走
行耐久性が低下する。
非磁性支持体の材質としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン2.6ナフタレートなどのポリエス
テル類;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレ
フィン類、セルローストリアセレートなどのセルロース
誘導体、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド等の樹脂を用いることができ、必要に応じアルミニ
ウム等の金属でメタライズしてあってもよいし、あるい
はアルミ箔、ステンレス箔などの金属箔であってもよい
。
ート、ポリエチレン2.6ナフタレートなどのポリエス
テル類;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレ
フィン類、セルローストリアセレートなどのセルロース
誘導体、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド等の樹脂を用いることができ、必要に応じアルミニ
ウム等の金属でメタライズしてあってもよいし、あるい
はアルミ箔、ステンレス箔などの金属箔であってもよい
。
また支持体の形態はテープ、ディスク、フィルム、シー
ト、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に応じて
種々の材料が選択される。
ト、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に応じて
種々の材料が選択される。
非磁性支持体の厚みは3〜100μ、磁気テープとして
は好ましくは3〜20μ、磁気ディスクとしては20〜
100μが通常使用される範囲である。
は好ましくは3〜20μ、磁気ディスクとしては20〜
100μが通常使用される範囲である。
本発明の磁気記録媒体の磁性層には、さらに研磨剤とし
てモース硬度5以上の無機質粒子を含有することが好ま
しい。
てモース硬度5以上の無機質粒子を含有することが好ま
しい。
使用される無II質粒子は、モース硬度が5以上であれ
ば特に制限はない、モース硬度が5以上の無機質粒子の
例としては、AIto3 (モース硬度9)、TiO(
同5)、Ti1t (同6.5)。
ば特に制限はない、モース硬度が5以上の無機質粒子の
例としては、AIto3 (モース硬度9)、TiO(
同5)、Ti1t (同6.5)。
5iOz(同7)、Snow (同6.5)。
CrzOs(同9)、および(z Few Os
(同5.5)を挙げることができ、これらを単独あるい
は混合して用いることができる。
(同5.5)を挙げることができ、これらを単独あるい
は混合して用いることができる。
と(に好ましいのはモース硬度が8以上の無機質粒子で
ある。モース硬度が5よりも低い無機質粒子を用いた場
合には、磁性層から無機質粒子が脱落しやすく、またヘ
ッドの研磨作用も殆どないため、ヘッド目詰まりを発生
しやすく、また走行耐久性も乏しくなる。
ある。モース硬度が5よりも低い無機質粒子を用いた場
合には、磁性層から無機質粒子が脱落しやすく、またヘ
ッドの研磨作用も殆どないため、ヘッド目詰まりを発生
しやすく、また走行耐久性も乏しくなる。
無機質粒子の含有量は、通常、強磁性粉末100重量部
に対して0.1〜20重量部の範囲であり、好ましくは
1〜10重量部の範囲である。
に対して0.1〜20重量部の範囲であり、好ましくは
1〜10重量部の範囲である。
また磁性層には上記の無機質粒子以外にも、カーボンブ
ラック(特に、平均粒径がlO〜300nm(ナノメー
トル; 10−9m)のもの)などを含有させることが
望ましい。
ラック(特に、平均粒径がlO〜300nm(ナノメー
トル; 10−9m)のもの)などを含有させることが
望ましい。
つぎに本発明の磁気記録媒体を製造する方法の例を述べ
る。
る。
まず、強磁性粉末と結合剤、必要に応じて、他の充填材
、添加剤などを溶剤と混線、分散し、磁性塗料を調製す
る。混練の際に使用する溶剤としては、磁性塗料の調製
に通常使用されている溶剤を使用することができる。
、添加剤などを溶剤と混線、分散し、磁性塗料を調製す
る。混練の際に使用する溶剤としては、磁性塗料の調製
に通常使用されている溶剤を使用することができる。
混練の方法にも特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。
などは適宜設定することができる。
例えば、潤滑剤・添加剤や架橋剤を有m溶剤に溶解した
ものを用意しておき、溶剤・結合剤・強磁性粉末等で調
製した強磁性粉末分散液に塗布直前に添加することもで
きる。
ものを用意しておき、溶剤・結合剤・強磁性粉末等で調
製した強磁性粉末分散液に塗布直前に添加することもで
きる。
磁性塗料を調製する際には、分散剤、帯電防止剤、潤滑
剤等の公知の添加剤を併せて使用することもできる。
剤等の公知の添加剤を併せて使用することもできる。
分散剤の例としては、炭素数12〜22の脂肪酸、その
塩またはエステル化物およびその化合物の水素の一部あ
るいは全部をフッ素原子で置換した化合物、上記の脂肪
酸のアミド、脂肪族アミン、高級アルコール、ポリアル
キレンオキサイドアルキル燐酸エステル、アルキル燐酸
エステル、アルキルホウ酸エステル、サルコシネート類
、アルキルエーテルエステル類、トリアルキルポリオレ
フィン、オキシ第4級アンモニウム塩およびレシチン、
低分子エポキシ化合物などの公知の分散剤を挙げること
ができる。
塩またはエステル化物およびその化合物の水素の一部あ
るいは全部をフッ素原子で置換した化合物、上記の脂肪
酸のアミド、脂肪族アミン、高級アルコール、ポリアル
キレンオキサイドアルキル燐酸エステル、アルキル燐酸
エステル、アルキルホウ酸エステル、サルコシネート類
、アルキルエーテルエステル類、トリアルキルポリオレ
フィン、オキシ第4級アンモニウム塩およびレシチン、
低分子エポキシ化合物などの公知の分散剤を挙げること
ができる。
分散剤を使用する場合は、通常は使用する強磁性粉末1
00重量部に対し、0.1〜lO重量部の範囲で使用さ
れる。
00重量部に対し、0.1〜lO重量部の範囲で使用さ
れる。
帯電防止剤の例としては、カーボンブラック、カーボン
ブラックグラフトポリマーなどの導電性微粉末;サポニ
ンなどの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系およびグリシドール系などのノニオン系界面
活性剤;高級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩
類、ピリジンその他の複素環化合物の塩類、ホスホニウ
ムまたはスルホニウム類などのカチオン性界面活性剤;
カルボン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等
の酸性基を含むアニオン性界面活性剤;アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類等の両性界面活性側等を挙げることができる
。帯電防止剤として上記の導電性微粉末を使用する場合
には、例えば強磁性粉末100重量部に対し0.1〜1
0重量部の範囲で使用され、界面活性剤を使用する場合
にも同様に0.12〜10重量部の範囲で使用される。
ブラックグラフトポリマーなどの導電性微粉末;サポニ
ンなどの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系およびグリシドール系などのノニオン系界面
活性剤;高級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩
類、ピリジンその他の複素環化合物の塩類、ホスホニウ
ムまたはスルホニウム類などのカチオン性界面活性剤;
カルボン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等
の酸性基を含むアニオン性界面活性剤;アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類等の両性界面活性側等を挙げることができる
。帯電防止剤として上記の導電性微粉末を使用する場合
には、例えば強磁性粉末100重量部に対し0.1〜1
0重量部の範囲で使用され、界面活性剤を使用する場合
にも同様に0.12〜10重量部の範囲で使用される。
なお、上述した分散剤、帯電防止剤、潤滑剤などの添加
剤は、厳密に上述した作用効果のみを有するものである
との限定の下に記載したものではなく、例えば、分散剤
が潤滑剤あるいは帯電防止剤として作用することも有り
うる。従って、上記分類により例示した化合物などの効
果作用が、上記分類に記載された事項に限定されないこ
とは勿論であり、また複数の作用効果を奏する物質を使
用する場合には、添加量は、その作用効果を青酸して決
定することが好ましい。
剤は、厳密に上述した作用効果のみを有するものである
との限定の下に記載したものではなく、例えば、分散剤
が潤滑剤あるいは帯電防止剤として作用することも有り
うる。従って、上記分類により例示した化合物などの効
果作用が、上記分類に記載された事項に限定されないこ
とは勿論であり、また複数の作用効果を奏する物質を使
用する場合には、添加量は、その作用効果を青酸して決
定することが好ましい。
このようにして調製された磁性塗料は前述の非磁性支持
体上に塗布される。このとき複数の磁性塗料を逐次ある
いは同時に重層塗布してもよい。
体上に塗布される。このとき複数の磁性塗料を逐次ある
いは同時に重層塗布してもよい。
塗布は、前記非磁性支持体上に直接行なうことも可能で
あるが、また、接着剤層などの中間層を介して非磁性支
持体上に塗布することもできる。
あるが、また、接着剤層などの中間層を介して非磁性支
持体上に塗布することもできる。
ここでいう中間層とは接着剤単独の層または結合剤中に
カーボン等の非磁性微粒子を分散してなる複合膜層であ
る。
カーボン等の非磁性微粒子を分散してなる複合膜層であ
る。
カーボンブラックを含有する中間層は結合剤として磁性
層に用いられる種々の結合剤のなかから任意に選ぶこと
ができる。カーボンブラックの粒径は10〜50nm(
ナノメートル;10−9m)のものが好ましく、結合剤
:カーボンブラックは重量比にして100 : 10か
ら100:150が・好ましい、中間層の厚みは単なる
接着剤層の場合0.1〜2μm、非磁性粉末を含む複合
層の場合0.5〜4μmが好ましい。
層に用いられる種々の結合剤のなかから任意に選ぶこと
ができる。カーボンブラックの粒径は10〜50nm(
ナノメートル;10−9m)のものが好ましく、結合剤
:カーボンブラックは重量比にして100 : 10か
ら100:150が・好ましい、中間層の厚みは単なる
接着剤層の場合0.1〜2μm、非磁性粉末を含む複合
層の場合0.5〜4μmが好ましい。
中間層にはこのほか磁性層に用いている潤滑剤と同じ、
または異なる潤滑剤を添加してもよい。
または異なる潤滑剤を添加してもよい。
上記の強磁性粉末と結合剤の分散方法および支持体への
塗布方法などの詳細は特開昭54−46011号および
同54−21805号等の各公報に記載されている。
塗布方法などの詳細は特開昭54−46011号および
同54−21805号等の各公報に記載されている。
このようにして塗布される磁性層の厚さは、乾燥後の厚
さで一般には約0.5〜10μmの範囲、通常は0.
7〜6.0μmの範囲になるよう塗布される。
さで一般には約0.5〜10μmの範囲、通常は0.
7〜6.0μmの範囲になるよう塗布される。
非磁性支持体上に塗布された磁性層は磁気記録媒体がテ
ープ状で使用される場合通常、磁性層中の強磁性粉末を
配向させる処理、即ち磁場配向処理を施したあと、乾燥
される。また逆にディスク状媒体の場合は磁気特性をと
りのぞくために、磁場による無配向処理が施される。こ
ののち必要により表面平滑化処理が施された後、必要に
より熱硬化及び/あるいは放射線照射による硬化処理後
所望の形状に裁断する。
ープ状で使用される場合通常、磁性層中の強磁性粉末を
配向させる処理、即ち磁場配向処理を施したあと、乾燥
される。また逆にディスク状媒体の場合は磁気特性をと
りのぞくために、磁場による無配向処理が施される。こ
ののち必要により表面平滑化処理が施された後、必要に
より熱硬化及び/あるいは放射線照射による硬化処理後
所望の形状に裁断する。
非磁性支持体の磁性層が設けられてない側の面には、公
知のバック層が設けられていてもよい。
知のバック層が設けられていてもよい。
本発明において斜め蒸着とは基体表面の法線に対し強磁
性金属材料の蒸気流をある入射角θを持たせて入射させ
基体表面上に磁性薄膜を析出させる方法である。
性金属材料の蒸気流をある入射角θを持たせて入射させ
基体表面上に磁性薄膜を析出させる方法である。
本発明において入射角としては一般には45゜〜90°
が望ましく、特に入射角θmaxは60゜〜90°、入
射角θminは45″〜75°が望ましい。
が望ましく、特に入射角θmaxは60゜〜90°、入
射角θminは45″〜75°が望ましい。
本発明に用いられる強磁性金属薄膜材料としては、Fe
、Co、Ni等の金属、あるいはFe−Co、Fe−N
i、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Rh、Fe
−Cu、Co−Cu、C。
、Co、Ni等の金属、あるいはFe−Co、Fe−N
i、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Rh、Fe
−Cu、Co−Cu、C。
−Au、Co−Y、Co−La5 Co−Pr、Co−
Cd、Co−3m5 Co−Pt、Ni−Cu。
Cd、Co−3m5 Co−Pt、Ni−Cu。
Mn−B i、Mn−5b、Mn−Aj2、Fe−C「
、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−
Co−Cr、Fe−Co−Ni−Cr等の強磁性合金で
ある。特に好ましいのはCOあるいはCoを75重量%
含有するような合金である。
、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−
Co−Cr、Fe−Co−Ni−Cr等の強磁性合金で
ある。特に好ましいのはCOあるいはCoを75重量%
含有するような合金である。
積層してなる強磁性金属薄膜の総厚は、磁気記録媒体と
して充分な出力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分
行える薄さを必要とすることから一般には約0.02μ
mから5.0μm、好ましくは0.05μmから2.0
μmである。各磁性薄膜の厚さは等しく設計してもいい
し、基体に最も近い強磁性金属薄膜の±50%の厚さで
設けても良い。
して充分な出力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分
行える薄さを必要とすることから一般には約0.02μ
mから5.0μm、好ましくは0.05μmから2.0
μmである。各磁性薄膜の厚さは等しく設計してもいい
し、基体に最も近い強磁性金属薄膜の±50%の厚さで
設けても良い。
本発明における蒸着とは、上記米国特許第334263
2号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他、
電界、磁界あるいは電子ビーム照射等により蒸気流のイ
オン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由行程の大
きい雰囲気にて支持基体上に強磁性金属薄膜を形成させ
る方法をも含むものであって、例えば特開昭5l−14
900B号明細書に示されているような電界蒸着法、特
公昭43−11525号、特公昭46−20484号、
特公昭47−26579号、特公昭4945439号、
特開昭49−33890号、特開昭49−34483号
、特開昭49−54235号公報に示されているような
イオン化蒸着法も本発明に用いられる。
2号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他、
電界、磁界あるいは電子ビーム照射等により蒸気流のイ
オン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由行程の大
きい雰囲気にて支持基体上に強磁性金属薄膜を形成させ
る方法をも含むものであって、例えば特開昭5l−14
900B号明細書に示されているような電界蒸着法、特
公昭43−11525号、特公昭46−20484号、
特公昭47−26579号、特公昭4945439号、
特開昭49−33890号、特開昭49−34483号
、特開昭49−54235号公報に示されているような
イオン化蒸着法も本発明に用いられる。
本発明の強磁性金属薄膜に用いられる基体としてはポリ
エチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、
ポリエチレンナフタレートのようなプラスチックベース
が好ましい。特に本発明においては表面粗さ(ra)が
0.012μm以下であるような上記可撓性プラスチッ
クベースが好ましい、ここで表面粗さ(ra)とはJI
SBO601の5項に示されている中心線平均粗さで、
カットオフは0.25閣とする。さらに上記プラスチッ
クベース上に下塗り層を設け、その表面粗さ(ra)を
0.012μm以下としたものを基体として用いても良
い。
エチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、
ポリエチレンナフタレートのようなプラスチックベース
が好ましい。特に本発明においては表面粗さ(ra)が
0.012μm以下であるような上記可撓性プラスチッ
クベースが好ましい、ここで表面粗さ(ra)とはJI
SBO601の5項に示されている中心線平均粗さで、
カットオフは0.25閣とする。さらに上記プラスチッ
クベース上に下塗り層を設け、その表面粗さ(ra)を
0.012μm以下としたものを基体として用いても良
い。
さらに本発明においては、積層してなる強磁性金属薄膜
の間に非磁性層を介在させても良い、非磁性中間層とし
て好ましいのはCr、S i、AN。
の間に非磁性層を介在させても良い、非磁性中間層とし
て好ましいのはCr、S i、AN。
Mn、B i、Ti、Sn、Pb、In、、Zn、Cu
あるいはこれらの酸化物、窒化物より構成される層であ
る。
あるいはこれらの酸化物、窒化物より構成される層であ
る。
(発明の効果)
本発明は磁性層中又は磁性層表面にスルホン誘導体を含
むことにより、スルホン部が結合剤や金属薄膜の表面に
吸着しやすく、疎水鎖を外側に配して整列しやすい、そ
のため高温高温での摩擦係数、低温低湿での摩擦係数の
上昇がなく優れた安定した潤滑特性を示す、又特に金属
薄膜の磁性層を有する磁気記録媒体はさびやすいという
問題があり、スルホン酸やスルホン酸のエステルの如く
強酸や強酸の塩又はエステルはさびを助長するが本発明
のスルホン誘導体は金属の腐食も極めて少ない。
むことにより、スルホン部が結合剤や金属薄膜の表面に
吸着しやすく、疎水鎖を外側に配して整列しやすい、そ
のため高温高温での摩擦係数、低温低湿での摩擦係数の
上昇がなく優れた安定した潤滑特性を示す、又特に金属
薄膜の磁性層を有する磁気記録媒体はさびやすいという
問題があり、スルホン酸やスルホン酸のエステルの如く
強酸や強酸の塩又はエステルはさびを助長するが本発明
のスルホン誘導体は金属の腐食も極めて少ない。
[実施例]
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例中の「部」との表示は「重量部」を示すも
のとする。
のとする。
〔実施例1]
下記の組成物をニーダ−とボールミルを用いて48時間
混線分散したあと、これにポリイソシアネート5部を加
え、さらに1時間混線分散したあと、1μmの平均孔径
を有するフィルタを用いてろ過し、磁性塗料を調製した
。得られた磁性塗料を乾燥後の厚さが4.0μmになる
ように、厚さ10μmのポリエチレンテレフタレート支
持体の表面にリバースロールを用いて塗布した。
混線分散したあと、これにポリイソシアネート5部を加
え、さらに1時間混線分散したあと、1μmの平均孔径
を有するフィルタを用いてろ過し、磁性塗料を調製した
。得られた磁性塗料を乾燥後の厚さが4.0μmになる
ように、厚さ10μmのポリエチレンテレフタレート支
持体の表面にリバースロールを用いて塗布した。
磁性塗料組成
強磁性合金粉末(&l成:Fe94%、Zn。
4%、Ni2%;抗磁カニ15000e;比表面積54
ボ/g) 100部 塩化ビニル/酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体(日
本ゼオン■製400X110A。
ボ/g) 100部 塩化ビニル/酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体(日
本ゼオン■製400X110A。
重合度400) (A)
または
塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体(重合度400)
(B)12部 ポリエステル系ポリウレタン(重量平均分子量4万、数
平均分子量2.5万極性基の種類および極性基の数は第
1表に記載)(C)5部 コロネートし 4部 研磨材(α−アルミナ、平均粒径0.3μm)5部 潤滑剤 ・・・・・ (第1表記ifりオレイン
酸 1部 ブチルステアレート 1部 カーボンブラック(平均粒径40 nm)2部 メチルエチルケトン 300部 磁性塗料が塗布された非磁性支持体を、磁性塗料が未乾
燥の状態で3000ガウスの磁石で碩場配向を行ない、
さらに乾燥後、スーパーカレンダー処理を行なった後日
1幅にスリットして、811Ilビデオテープを製造し
た。(サンプルNα1〜23)〔実施例2〕 13μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に
コバルト−ニッケル磁性膜(膜厚150nm)を斜め蒸
着し、磁気記録媒体の原反を調製した。蒸発源としては
電子ビーム蒸発源を使用し、これにコバルト−ニッケル
合金(Co : 80wt%、Ni:20%)をチャー
ジし真空度5X10−’Torr中にて酸素気流中で入
射角が50度となるよう斜め蒸着を行った。得られた磁
気記録媒体の原反の磁性金属薄膜上に各種材料をメチル
エチルケトンに溶解して塗布、乾燥し調製したサンプル
を作製し、サンプル磁24〜39とした(第2表)。
(B)12部 ポリエステル系ポリウレタン(重量平均分子量4万、数
平均分子量2.5万極性基の種類および極性基の数は第
1表に記載)(C)5部 コロネートし 4部 研磨材(α−アルミナ、平均粒径0.3μm)5部 潤滑剤 ・・・・・ (第1表記ifりオレイン
酸 1部 ブチルステアレート 1部 カーボンブラック(平均粒径40 nm)2部 メチルエチルケトン 300部 磁性塗料が塗布された非磁性支持体を、磁性塗料が未乾
燥の状態で3000ガウスの磁石で碩場配向を行ない、
さらに乾燥後、スーパーカレンダー処理を行なった後日
1幅にスリットして、811Ilビデオテープを製造し
た。(サンプルNα1〜23)〔実施例2〕 13μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に
コバルト−ニッケル磁性膜(膜厚150nm)を斜め蒸
着し、磁気記録媒体の原反を調製した。蒸発源としては
電子ビーム蒸発源を使用し、これにコバルト−ニッケル
合金(Co : 80wt%、Ni:20%)をチャー
ジし真空度5X10−’Torr中にて酸素気流中で入
射角が50度となるよう斜め蒸着を行った。得られた磁
気記録媒体の原反の磁性金属薄膜上に各種材料をメチル
エチルケトンに溶解して塗布、乾燥し調製したサンプル
を作製し、サンプル磁24〜39とした(第2表)。
上記のようにして得られたビデオテープにVTR(富士
写真フィルム■: FUJ lX−8)を用いて7MH
zの信号を記録し、再生した。基準テープ(サンプル隘
18)に記録した7MHzの再生出力をOdBとしたと
きのビデオテープの相対的な再生出力を測定した。
写真フィルム■: FUJ lX−8)を用いて7MH
zの信号を記録し、再生した。基準テープ(サンプル隘
18)に記録した7MHzの再生出力をOdBとしたと
きのビデオテープの相対的な再生出力を測定した。
得られたビデオテープとステンレスポールとを50g(
7)張力(TI)で接触(巻きっけ角180’)さセて
、この条件下で、ビデオテープを3. 3CIll/S
の速度で走行させるのに必要なl力(T、)を測定した
。この測定値をもとに、下記計算式によりビデオテープ
の、摩擦係数μをもとめた。
7)張力(TI)で接触(巻きっけ角180’)さセて
、この条件下で、ビデオテープを3. 3CIll/S
の速度で走行させるのに必要なl力(T、)を測定した
。この測定値をもとに、下記計算式によりビデオテープ
の、摩擦係数μをもとめた。
(第1表および第2表に記載)
μ=1/π・1n(T!/TI)
尚、摩擦係数のテストは、a、5℃、10%RH,b、
45℃、90%RHの2条件で行なった。
45℃、90%RHの2条件で行なった。
またテープの強磁性粉末への腐食を調べるため、温度を
20°Cから40まで湿度を10%から100%まで変
化するサーモに1週間放置したテープを顕微鏡で観察し
、さびの状況をサンプル階33をlOOとし鯖の量を相
対比較した。
20°Cから40まで湿度を10%から100%まで変
化するサーモに1週間放置したテープを顕微鏡で観察し
、さびの状況をサンプル階33をlOOとし鯖の量を相
対比較した。
第1表の結果より明白な如く、本発明の、スルホン誘導
体を用いたサンプル11m1〜14.16及びサンプル
階24〜32の実施例はいずれも低温低湿高温高温のa
、b両条件でも摩擦係数が低く、テープを腐食しないこ
とがわかる。
体を用いたサンプル11m1〜14.16及びサンプル
階24〜32の実施例はいずれも低温低湿高温高温のa
、b両条件でも摩擦係数が低く、テープを腐食しないこ
とがわかる。
一方、本発明の化合物を使用せず、単に脂肪酸(サンプ
ルN1118.34)やエステル(サンプルN[Li2
.35)のみを用いた場合は、再生出力も低く、また特
に高温、高温(b条件)下での摩擦係数が大きい、また
スルホン酸(サンプル連36〜38)はテープの腐食が
大きいなど問題が多いことがわかる。
ルN1118.34)やエステル(サンプルN[Li2
.35)のみを用いた場合は、再生出力も低く、また特
に高温、高温(b条件)下での摩擦係数が大きい、また
スルホン酸(サンプル連36〜38)はテープの腐食が
大きいなど問題が多いことがわかる。
Claims (3)
- (1)非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体に
おいて、前記磁性層中又は磁性層表面に下記一般式で示
されるスルホン誘導体を含むことを特徴とする磁気記録
媒体。 (一般式)▲数式、化学式、表等があります▼ (但しRは炭素数10以上26以下の炭化水素基 R′は炭素数1以上26以下の炭化水 素基 を示す。) - (2)前記磁性層は、強磁性粉末と結合剤を含み、かつ
前記結合剤中に含まれる樹脂のうち少なくとも1種の樹
脂が極性基を有する事を特徴とする請求項(1)項記載
の磁気記録媒体。 - (3)前記磁性層は斜め蒸着による強磁性金属薄膜であ
ることを特徴とする請求項(1)項記載の磁気記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2103375A JPH043326A (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2103375A JPH043326A (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH043326A true JPH043326A (ja) | 1992-01-08 |
Family
ID=14352356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2103375A Pending JPH043326A (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH043326A (ja) |
-
1990
- 1990-04-19 JP JP2103375A patent/JPH043326A/ja active Pending
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