JPH04366404A - 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッドInfo
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- JPH04366404A JPH04366404A JP3143119A JP14311991A JPH04366404A JP H04366404 A JPH04366404 A JP H04366404A JP 3143119 A JP3143119 A JP 3143119A JP 14311991 A JP14311991 A JP 14311991A JP H04366404 A JPH04366404 A JP H04366404A
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- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ、ＤＡＴ、ＦＤ
Ｄ等に使用される磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
Ｄ等に使用される磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録技術の動向はビデオヘッ
ド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力Ｈｃの高い記録媒体（例えばメタル、Ｂ
ａ−Ｆｅテープ）に十分な書き込みを行うため、フェラ
イト等の非金属磁性材料と比べより飽和磁束密度Ｂｓの
高い軟磁性合金薄膜（例えばセンダスト、非晶質材料な
ど）をフェライトのギャップ近傍に配した構造の磁気ヘ
ッドの開発が行われ一部は実用化され、８ｍｍやＤＡＴ
用に搭載されている。
ド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力Ｈｃの高い記録媒体（例えばメタル、Ｂ
ａ−Ｆｅテープ）に十分な書き込みを行うため、フェラ
イト等の非金属磁性材料と比べより飽和磁束密度Ｂｓの
高い軟磁性合金薄膜（例えばセンダスト、非晶質材料な
ど）をフェライトのギャップ近傍に配した構造の磁気ヘ
ッドの開発が行われ一部は実用化され、８ｍｍやＤＡＴ
用に搭載されている。
【０００３】以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッ
ドの製造方法について説明する。図７は、磁気ギャップ
近傍に数μｍの軟磁性合金薄膜を配する従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図であり、同図（ａ）は、一対
で磁気ヘッドとなるコア半体１４の少なくともどちらか
一方に巻き線溝１５が加工され、ギャップ接合面は鏡面
に研磨されている。
ドの製造方法について説明する。図７は、磁気ギャップ
近傍に数μｍの軟磁性合金薄膜を配する従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図であり、同図（ａ）は、一対
で磁気ヘッドとなるコア半体１４の少なくともどちらか
一方に巻き線溝１５が加工され、ギャップ接合面は鏡面
に研磨されている。
【０００４】同図（ｂ）は、ギャップ接合面にトラック
幅規制溝１６が加工されたコア半体１４である。
幅規制溝１６が加工されたコア半体１４である。
【０００５】同図（ｃ）は、ギャップ接合面に軟磁性合
金薄膜１７とギャップ材としてＳｉＯ２，ガラス膜（図
では省略）を形成したコア半体１４である。
金薄膜１７とギャップ材としてＳｉＯ２，ガラス膜（図
では省略）を形成したコア半体１４である。
【０００６】同図（ｄ）は、ギャップ接合面を突き合わ
せた状態で、ガラス１８をトラック幅規制溝１６にモー
ルドした磁気コア１９であり、以後所定のサイズ（図中
のＸ線にそって）に切断し、同図（ｅ）に示すヘッドチ
ップ２０を得る。
せた状態で、ガラス１８をトラック幅規制溝１６にモー
ルドした磁気コア１９であり、以後所定のサイズ（図中
のＸ線にそって）に切断し、同図（ｅ）に示すヘッドチ
ップ２０を得る。
【０００７】また図では省略しているが、切断されたヘ
ッドチップは、その後、金属ベース等に接着するととも
に搭載するシステムに応じた曲率に媒体との摺動面を前
面研磨し巻線を行い磁気ヘッドとして完成する。
ッドチップは、その後、金属ベース等に接着するととも
に搭載するシステムに応じた曲率に媒体との摺動面を前
面研磨し巻線を行い磁気ヘッドとして完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のギャップ面に軟磁性合金薄膜１７を用いた磁気ヘッド
では、ギャップ形成時にガラス１８と軟磁性合金薄膜１
７の反応からガラス１８が脆くなり、チップ切断やテー
プ摺動面研磨などの加工負荷により、ギャップ面で剥離
が生じたり、また反応層の影響からギャップ深さ（Ｇａ
ｐＤｅｐｔｈ）が正確に測定できないという課題があっ
た。
のギャップ面に軟磁性合金薄膜１７を用いた磁気ヘッド
では、ギャップ形成時にガラス１８と軟磁性合金薄膜１
７の反応からガラス１８が脆くなり、チップ切断やテー
プ摺動面研磨などの加工負荷により、ギャップ面で剥離
が生じたり、また反応層の影響からギャップ深さ（Ｇａ
ｐＤｅｐｔｈ）が正確に測定できないという課題があっ
た。
【０００９】本発明は、このような従来の課題を解決す
るもので、信頼性の高い磁気ヘッドとその製造方法を提
供することを目的とする。
るもので、信頼性の高い磁気ヘッドとその製造方法を提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、強磁性酸化物からなる一対の磁気コアのギ
ャップ形成面上に軟磁性合金薄膜とギャップ材としてＳ
ｉＯ２、ガラス膜を配し、トラック幅規制溝にＦｅ２Ｏ
３を２〜１５ｗｔ％含有するガラスをモールドして磁気
ヘッドとするものであり、また製造方法として、強磁性
酸化物からなる一対の磁気コアの磁気ギャップ形成面を
鏡面に研磨する工程と、巻線溝とトラック幅規制溝を形
成する工程と、軟磁性合金薄膜とギャップ部材としてＳ
ｉＯ２膜とガラス膜を順次形成する工程と、上記一対の
磁気コアのギャップ面を突き合わせた状態でガラスをモ
ールドする時の溶融条件として、ガラスの転移点付近ま
で酸素を含む雰囲気とし、以降は不活性ガス雰囲気中で
処理するかまたは不活性ガス中に酸素を１％以下含む雰
囲気で処理するものである。
に本発明は、強磁性酸化物からなる一対の磁気コアのギ
ャップ形成面上に軟磁性合金薄膜とギャップ材としてＳ
ｉＯ２、ガラス膜を配し、トラック幅規制溝にＦｅ２Ｏ
３を２〜１５ｗｔ％含有するガラスをモールドして磁気
ヘッドとするものであり、また製造方法として、強磁性
酸化物からなる一対の磁気コアの磁気ギャップ形成面を
鏡面に研磨する工程と、巻線溝とトラック幅規制溝を形
成する工程と、軟磁性合金薄膜とギャップ部材としてＳ
ｉＯ２膜とガラス膜を順次形成する工程と、上記一対の
磁気コアのギャップ面を突き合わせた状態でガラスをモ
ールドする時の溶融条件として、ガラスの転移点付近ま
で酸素を含む雰囲気とし、以降は不活性ガス雰囲気中で
処理するかまたは不活性ガス中に酸素を１％以下含む雰
囲気で処理するものである。
【００１１】
【作用】したがって本発明によれば、トラック幅規制溝
にモールドするガラスにＦｅ２Ｏ３を添加することによ
って軟磁性膜合金薄膜やフェライトからのＦｅのガラス
への拡散が抑制できる。また、ギャップ形成時の条件を
上記の雰囲気にすることによって、ガラスの濡れが良く
なり、トラック幅規制溝に十分モールドできるようにな
る。このようにして工程数の少ない製造方法でガラスと
軟磁性合金薄膜との反応のない信頼性の高い磁気ヘッド
を得ることができる。
にモールドするガラスにＦｅ２Ｏ３を添加することによ
って軟磁性膜合金薄膜やフェライトからのＦｅのガラス
への拡散が抑制できる。また、ギャップ形成時の条件を
上記の雰囲気にすることによって、ガラスの濡れが良く
なり、トラック幅規制溝に十分モールドできるようにな
る。このようにして工程数の少ない製造方法でガラスと
軟磁性合金薄膜との反応のない信頼性の高い磁気ヘッド
を得ることができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の一実施例の磁気ヘッドについ
て図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は、本発明
の一実施例における磁気ヘッドの構成を示すものであり
、図１（ｂ）は同磁気ヘッドのギャップ近傍の構造を示
す拡大図である。図に示すように、フェライトコア材１
のギャップ面にセンダスト膜等よりなる軟磁性合金薄膜
２が成膜され、センダスト膜２の上にはギャップ材とし
てＳｉＯ２膜３、ガラス膜４が形成されている。フェラ
イトコア材１には、巻き線窓５が加工され、一対のフェ
ライトコア材１の接合用としてＦｅ２Ｏ３を２〜１５ｗ
ｔ％含有したガラス６が用いられている。
て図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は、本発明
の一実施例における磁気ヘッドの構成を示すものであり
、図１（ｂ）は同磁気ヘッドのギャップ近傍の構造を示
す拡大図である。図に示すように、フェライトコア材１
のギャップ面にセンダスト膜等よりなる軟磁性合金薄膜
２が成膜され、センダスト膜２の上にはギャップ材とし
てＳｉＯ２膜３、ガラス膜４が形成されている。フェラ
イトコア材１には、巻き線窓５が加工され、一対のフェ
ライトコア材１の接合用としてＦｅ２Ｏ３を２〜１５ｗ
ｔ％含有したガラス６が用いられている。
【００１３】図２は、ベースガラスとして、重量比でＰ
ｂＯ−８６、ＳｉＯ２−１０、ＺｎＯ−３と他の微元素
を含むものに、Ｆｅ２Ｏ３を添加したガラス６を用いて
、厚さ４μｍのセンダスト膜２、厚さ０．１μｍのＳｉ
Ｏ２膜３を形成した基板上でガラス６を溶融したときの
反応層を測定したものである。この図２からＦｅ２Ｏ３
を２ｗｔ％以上添加するとセンダスト膜２とガラス６の
反応は減少することがわかるが、一方１５ｗｔ％を超え
るとＧａｐＤｅｐｔｈの測定ができない程ガラス６が茶
色に着色された。このように、フェライトコア材１の接
合用としてＦｅ２Ｏ３を２〜１５ｗｔ％含有したガラス
６を用いた磁気ヘッドは、センダスト膜２とガラス６の
反応のない信頼性の高いものであった。
ｂＯ−８６、ＳｉＯ２−１０、ＺｎＯ−３と他の微元素
を含むものに、Ｆｅ２Ｏ３を添加したガラス６を用いて
、厚さ４μｍのセンダスト膜２、厚さ０．１μｍのＳｉ
Ｏ２膜３を形成した基板上でガラス６を溶融したときの
反応層を測定したものである。この図２からＦｅ２Ｏ３
を２ｗｔ％以上添加するとセンダスト膜２とガラス６の
反応は減少することがわかるが、一方１５ｗｔ％を超え
るとＧａｐＤｅｐｔｈの測定ができない程ガラス６が茶
色に着色された。このように、フェライトコア材１の接
合用としてＦｅ２Ｏ３を２〜１５ｗｔ％含有したガラス
６を用いた磁気ヘッドは、センダスト膜２とガラス６の
反応のない信頼性の高いものであった。
【００１４】次に本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造
方法について図面を参照しながら説明する。図３は、本
発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図で
あり、同図（ａ）は、一対で磁気ヘッドとなるフェライ
トコア材１の少なくとも一方に巻き線溝７を形成した後
、ギャップ突き合わせ面８を鏡面に加工した磁気コア９
である。同図（ｂ）は、フェライトコア材１のギャップ
突き合わせ面８にトラック幅規制溝１０を形成した状態
を示すものであり、同図（ｃ）は、ギャップ突き合わせ
面８にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金またはＣｏａＭｂまたは
ＦｅａＭｂで表され厚み方向に窒素の組成変調された構
造よりなる軟磁性合金薄膜２を形成し、その上に、ギャ
ップ材としてＳｉＯ２膜３と、ガラス膜４を形成した状
態（図では省略）を示すものである。
方法について図面を参照しながら説明する。図３は、本
発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図で
あり、同図（ａ）は、一対で磁気ヘッドとなるフェライ
トコア材１の少なくとも一方に巻き線溝７を形成した後
、ギャップ突き合わせ面８を鏡面に加工した磁気コア９
である。同図（ｂ）は、フェライトコア材１のギャップ
突き合わせ面８にトラック幅規制溝１０を形成した状態
を示すものであり、同図（ｃ）は、ギャップ突き合わせ
面８にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金またはＣｏａＭｂまたは
ＦｅａＭｂで表され厚み方向に窒素の組成変調された構
造よりなる軟磁性合金薄膜２を形成し、その上に、ギャ
ップ材としてＳｉＯ２膜３と、ガラス膜４を形成した状
態（図では省略）を示すものである。
【００１５】なお、上記ＣｏａＭｂで表される軟磁性合
金薄膜２において、ＭはＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ
，Ｍｏ，Ｗから選ばれる１種類以上の元素からなり、原
子比で表されるａおよびｂがそれぞれ０．８０≦ａ≦０
．９５、０．０５≦ｂ≦０．２０で、ａ＋ｂ＝１．０で
あるか、またはＦｅａＭｂで表される軟磁性合金薄膜２
の場合は、ＭがＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，
Ｃｒ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｒｕから選ばれる１種類以上の
元素からなり、ａおよびｂがそれぞれ０．７０≦ａ≦０
．９５、０．０５≦ｂ≦０．３０で、ａ＋ｂ＝１．０と
する。
金薄膜２において、ＭはＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ
，Ｍｏ，Ｗから選ばれる１種類以上の元素からなり、原
子比で表されるａおよびｂがそれぞれ０．８０≦ａ≦０
．９５、０．０５≦ｂ≦０．２０で、ａ＋ｂ＝１．０で
あるか、またはＦｅａＭｂで表される軟磁性合金薄膜２
の場合は、ＭがＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，
Ｃｒ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｒｕから選ばれる１種類以上の
元素からなり、ａおよびｂがそれぞれ０．７０≦ａ≦０
．９５、０．０５≦ｂ≦０．３０で、ａ＋ｂ＝１．０と
する。
【００１６】なお、ギャップ形成時の温度条件は図４に
示す通りで、ギャップ面を突き合わせた状態でガラス６
をトラック幅規制溝１０にモールドする時に、図に示す
ようにガラス６の転移点（図中のＡｔ点）までは大気中
で、以降は不活性ガス（Ｎ２またはＡｒ）雰囲気中で熱
処理を行うか、または不活性ガス中に酸素を１％以下含
有した雰囲気中で行う。
示す通りで、ギャップ面を突き合わせた状態でガラス６
をトラック幅規制溝１０にモールドする時に、図に示す
ようにガラス６の転移点（図中のＡｔ点）までは大気中
で、以降は不活性ガス（Ｎ２またはＡｒ）雰囲気中で熱
処理を行うか、または不活性ガス中に酸素を１％以下含
有した雰囲気中で行う。
【００１７】図３（ｃ）の工程に引き続いて、同図（ｄ
）はギャップ１１が形成された磁気コア９であり、ガラ
ス６で接合されている状態を示す。以降所定のサイズ（
図中に示すＸ−Ｘ線）に切断され、最終的には同図（ｅ
）に示すようにテープ摺動面１２を有するヘッドチップ
１３を得ることができる。
）はギャップ１１が形成された磁気コア９であり、ガラ
ス６で接合されている状態を示す。以降所定のサイズ（
図中に示すＸ−Ｘ線）に切断され、最終的には同図（ｅ
）に示すようにテープ摺動面１２を有するヘッドチップ
１３を得ることができる。
【００１８】上記本実施例における製造工程において、
図４に示すような雰囲気とすることによって、図５に示
すようにトラック幅規制溝１０にガラス６がモールドさ
れやすくなり、また図６に示すように、上記雰囲気とす
ることによって、センダスト膜２とガラス６との反応が
著しく減少した。
図４に示すような雰囲気とすることによって、図５に示
すようにトラック幅規制溝１０にガラス６がモールドさ
れやすくなり、また図６に示すように、上記雰囲気とす
ることによって、センダスト膜２とガラス６との反応が
著しく減少した。
【００１９】このように上記実施例によれば、Ｆｅ２Ｏ
３を２〜１５ｗｔ％含有するガス６を用いてフェライト
コア材１のトラック幅規制溝１０をモールドしているた
め、製造されたヘッドチップ１３はセンダスト膜２とガ
ラス６の反応の極めて少ない信頼性の高いものであった
。
３を２〜１５ｗｔ％含有するガス６を用いてフェライト
コア材１のトラック幅規制溝１０をモールドしているた
め、製造されたヘッドチップ１３はセンダスト膜２とガ
ラス６の反応の極めて少ない信頼性の高いものであった
。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、上記実施例より明らかなよう
に、モールド用のガラスの材料としてＦｅ２Ｏ３を２〜
１５ｗｔ％含有するものを用いることと、溶融条件とし
てガラスの転移点付近まで大気中雰囲気とし、以降は不
活性ガス雰囲気中で処理するかまたは不活性ガス中に酸
素を１％以下含有した雰囲気中で処理することによって
、ガラスと軟磁性合金薄膜との反応を抑制するとともに
歩留まりの高い、しかも信頼性に優れた磁気ヘッドを得
ることができる。
に、モールド用のガラスの材料としてＦｅ２Ｏ３を２〜
１５ｗｔ％含有するものを用いることと、溶融条件とし
てガラスの転移点付近まで大気中雰囲気とし、以降は不
活性ガス雰囲気中で処理するかまたは不活性ガス中に酸
素を１％以下含有した雰囲気中で処理することによって
、ガラスと軟磁性合金薄膜との反応を抑制するとともに
歩留まりの高い、しかも信頼性に優れた磁気ヘッドを得
ることができる。
【図１】（ａ）は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の斜視図 （ｂ）は同実施例における磁気ヘッドを構成する磁気コ
アのギャップ近傍の要部拡大平面図
の斜視図 （ｂ）は同実施例における磁気ヘッドを構成する磁気コ
アのギャップ近傍の要部拡大平面図
【図２】一実施例におけるガスラ中のＦｅ２Ｏ３の添加
量とガラスの反応層との関係を示す特性図
量とガラスの反応層との関係を示す特性図
【図３】（ａ）は本発明の磁気ヘッドの製造方法の実施
例において用いるコア材の外観形状図 （ｂ）は同実施例におけるコア材にトラック幅規制溝の
形成工程を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同実施例における薄膜形成工程後のコアの外観
図（ｄ）は同実施例におけるコア接合工程後のコアブロ
ックの外観図 （ｅ）は同実施例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
例において用いるコア材の外観形状図 （ｂ）は同実施例におけるコア材にトラック幅規制溝の
形成工程を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同実施例における薄膜形成工程後のコアの外観
図（ｄ）は同実施例におけるコア接合工程後のコアブロ
ックの外観図 （ｅ）は同実施例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
【図４】ギャップ形成時の温度条件を示す図
【図５】同
磁気ヘッドの製造方法におけるガラス溶融雰囲気条件と
トラック幅規制溝へのガラスモールド率との関係を示す
特性図
磁気ヘッドの製造方法におけるガラス溶融雰囲気条件と
トラック幅規制溝へのガラスモールド率との関係を示す
特性図
【図６】同じくガラス溶融雰囲気条件とガラスの反応層
との関係を示す特性図
との関係を示す特性図
【図７】（ａ）は従来の磁気ヘッドの製造方法において
用いるコア材の外観形状図 （ｂ）は同従来例におけるコア材にトラック幅規制溝の
形成工程を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同従来例における薄膜形成工程後のコアの外観
図（ｄ）は同従来例におけるコア接合工程後のコアブロ
ックの外観図 （ｅ）は同従来例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
用いるコア材の外観形状図 （ｂ）は同従来例におけるコア材にトラック幅規制溝の
形成工程を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同従来例における薄膜形成工程後のコアの外観
図（ｄ）は同従来例におけるコア接合工程後のコアブロ
ックの外観図 （ｅ）は同従来例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
２ センダスト膜（軟磁性合金薄膜）６ ガラス
８ ギャップ突き合わせ面
９ 磁気コア
１０ トラック幅規制溝
Claims (6)
- 【請求項１】強磁性酸化物を主体とする磁気コアのギャ
ップ突き合わせ面に軟磁性合金薄膜を配し、トラック幅
規制溝にガラスがモールドされた磁気ヘッドにおいて、
前記ガラスの成分にＦｅ２Ｏ３を２〜１５ｗｔ％含有し
たものを用いたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】軟磁性合金薄膜として、センダスト等のＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を用いたことを特徴とする請求項
１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】軟磁性合金薄膜としてＣｏａＭｂで表され
、厚み方向に窒素の組成変調された構造になっているこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。ここでＭは
、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗから選ばれ
る１種類以上の元素からなり、ａ，ｂは原子比を表し次
の式を満足するものとする。 ０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０ - 【請求項４】軟磁性合金薄膜としてＦｅａＭｂで表され
、厚み方向に窒素の組成変調された構造になっているこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。ここでＭは
、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｗ，Ｍ
ｎ，Ｒｅ，Ｒｕから選ばれる１種類以上の元素からなり
、ａ，ｂは原子比を表し次の式を満足するものする。 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０ - 【請求項５】強磁性酸化物を主体とする磁気ヘッドの製
造方法において、一対で磁気ヘッドとなるコア半体の少
なくとも一方に巻き線溝を形成しギャップ形成面を鏡面
に研磨する工程と、トラック幅規制溝を加工する工程と
、軟磁性合金薄膜を形成する工程と、ギャップ材として
ＳｉＯ２，ガラス膜の膜厚が全体で所定のギャップ幅に
なるように形成する工程と、コア半体の接合条件として
、一対のコア半体のギャップ面を突き合わせた状態でガ
ラスの転移点付近まで酸素を含む雰囲気とし、以降は不
活性ガス雰囲気で溶融することを特徴とする磁気ヘッド
の製造方法。 - 【請求項６】コア半体の接合条件として、請求項５に記
載のコア半体の接合条件に代えて、不活性ガス中に１％
以下の酸素を含んだ雰囲気でガラスの溶融を行うことを
特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3143119A JP2964706B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3143119A JP2964706B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04366404A true JPH04366404A (ja) | 1992-12-18 |
| JP2964706B2 JP2964706B2 (ja) | 1999-10-18 |
Family
ID=15331360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3143119A Expired - Fee Related JP2964706B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2964706B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP3143119A patent/JP2964706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2964706B2 (ja) | 1999-10-18 |
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