JPH0446537U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0446537U JPH0446537U JP8748490U JP8748490U JPH0446537U JP H0446537 U JPH0446537 U JP H0446537U JP 8748490 U JP8748490 U JP 8748490U JP 8748490 U JP8748490 U JP 8748490U JP H0446537 U JPH0446537 U JP H0446537U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- marks
- mask alignment
- photolithography
- row
- intervals
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第１図は本考案の一実施例によるマスク合わせ
を示す説明図、第２図は従来広く採られてきたマ
スク合わせの方法の一例を示す説明図である。 １……ウエハ、２……マスク、３，４……マー
ク、５……レーザービームをスキヤンする方向を
示す線。なお各図中同一符号は同一または相当す
るものを示す。
を示す説明図、第２図は従来広く採られてきたマ
スク合わせの方法の一例を示す説明図である。 １……ウエハ、２……マスク、３，４……マー
ク、５……レーザービームをスキヤンする方向を
示す線。なお各図中同一符号は同一または相当す
るものを示す。
Claims (1)
- 半導体ウエハプロセスのフオトリソグラフイで
使用するマスクに配設されたマスクアライメント
マークで、縦に２列に各列ごとに複数個ずつで左
右対称形状に配設されたマークのうち、左右１個
ずつで構成する各組のマーク間の間隔がそれぞれ
異なることを特徴とするマスクアライメントマー
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8748490U JPH0446537U (ja) | 1990-08-23 | 1990-08-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8748490U JPH0446537U (ja) | 1990-08-23 | 1990-08-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0446537U true JPH0446537U (ja) | 1992-04-21 |
Family
ID=31819864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8748490U Pending JPH0446537U (ja) | 1990-08-23 | 1990-08-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0446537U (ja) |
-
1990
- 1990-08-23 JP JP8748490U patent/JPH0446537U/ja active Pending
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