JPH0470953B2 - - Google Patents

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JPH0470953B2
JPH0470953B2 JP58224733A JP22473383A JPH0470953B2 JP H0470953 B2 JPH0470953 B2 JP H0470953B2 JP 58224733 A JP58224733 A JP 58224733A JP 22473383 A JP22473383 A JP 22473383A JP H0470953 B2 JPH0470953 B2 JP H0470953B2
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JP
Japan
Prior art keywords
plate
substrate
resin film
shaped substrate
rotation
Prior art date
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Expired
Application number
JP58224733A
Other languages
English (en)
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JPS60143869A (ja
Inventor
Yoshiteru Namoto
Kyoharu Yamashita
Keizaburo Kuramasu
Masaji Arai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP58224733A priority Critical patent/JPS60143869A/ja
Publication of JPS60143869A publication Critical patent/JPS60143869A/ja
Publication of JPH0470953B2 publication Critical patent/JPH0470953B2/ja
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、板状基板の複数面に薄い均一な樹脂
膜を同時に形成するようにした樹脂膜形成装置に
関するものである。
従来例の構成とその問題点 近年、半導体素子の発展は目ざましいものがあ
り、その半導体素子製造の過程で感光性樹脂膜等
の均一で薄い樹脂膜を基板表面に形成することの
必要性から、樹脂膜を形成する装置の開発が活発
に行われてきている。
以下に従来の樹脂膜形成装置について説明す
る。
第1図は従来の樹脂形成装置の原理を示す斜視
図である。
第1図において、1は試料台、2は回転駆動モ
ータで、回転駆動モータ2により試料台1を回転
させている。上記試料台1上には基板3の樹脂膜
を形成したい面3aが回転軸心に対して直角方向
になるよう基板3が真空吸着(特に図示していな
い。)などの方法で取付固定されている。そして、
基板3の表面3aに液状の感光性樹脂などを適量
たらした後、回転駆動モータ2で試料台1および
基板3を回転させると基板3の表面3aに薄い樹
脂膜が形成される。この樹脂膜の厚さは、試料台
1の回転数あるいは液状の樹脂の粘度を選ぶこと
により任意に決めることができる。
しかしながら、上記のような構成では、基板3
の表面3aの周囲に数ミリメートルの範囲で厚み
の厚い部分が生じたり、また表面3aと同時にそ
れと反対側の面あるいは側面3bに表面3aと同
じような樹脂膜を形成することはできないという
問題を有していた。したがつて、従来の樹脂膜形
成方法では感光性の樹脂膜を利用してフオトエツ
チングを行う方法でもつて表面3aと側面3bと
を連続的に結ぶ微細なパターンを形成することも
できないという問題点を有していた。
発明の目的 本発明は上記のような従来の問題点を解消する
もので、基板の複数面に同時にほぼ均一な樹脂膜
を形成することのできる樹脂膜形成装置を提供す
ることを目的とする。
発明の構成 この目的を達成するために本発明は、断面が略
長方形の板状基板を回転主軸に対して所定距離離
して、この板状基板の長手方向を回転主軸と平行
となるよう長手方向の両端で固定保持する取付手
段を有し、この取付手段と板状基板を回転主軸を
中心として公転させる駆動手段を構成すること
で、板状基板の端面部とそれを挟む両側面の不連
続な複数の面に同時にほぼ均一な樹脂膜を形成す
ることを可能としたものである。
実施例の説明 以下、本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。
第2図は本発明の一実施例における樹脂膜形成
装置の側面図(斜線部は断面している。)を示す
ものである。第2図において、4は樹脂膜を形成
する板状基板、5は回転バランスを取るために設
けた補助基板である。6は回転下テーブル、7は
板状基板4、補助基板5を回転下テーブル6と回
転上テーブル9に取付けるための基板保持具、8
は回転力を与えたときに板状基板4、補助基板5
が基板保持具7から飛び出さないようにする取付
ねじ、10は回転主軸である。
基板保持具7は第3図に示すように板状基板
4、補助基板5を挿入する凹部7aを設け、フラ
ンジ部7bで回転下テーブル6、回転上テーブル
9にそれぞれ取付けている。また、取付ねじ8は
フランジ部8aを設け、板状基板4、補助基板5
が回転力により飛び出すのを防止するよう構成し
ている。さらに、回転上テーブル9は上述したよ
うに回転主軸10によつて回転下テーブル6と一
体的に連結され、回転下テーブル6側の基板保持
具7取付位置と対応する位置に回転上テーブル9
側の基板保持具7を設けている。すなわち、この
基板保持具7は回転上テーブル9と回転下テーブ
ル6の両端にそれぞれ設けて、板状基板4、補助
基板5の長手方向の両端部を保持するよう構成し
ている。前記回転主軸10の上端部10aは回転
可能に支板11に軸受12を介して保持されてい
る。以上のようにして基板取付手段13を構成し
ている。
第4図は基板取付手段13への板状基板4の取
付状態の示すもので、基板保持具7の凹部7aに
板状基板4の下端部が入り、取付ねじ8のフラン
ジ部8aで板状基板4を係止している。また、回
転下テーブル6は回転駆動手段であるモータ14
のモータ軸14aに連結されており、前記モータ
14により基板取付手段13を回転させる構成と
なつている。このモータ14は基台15に固定さ
れている。16は前記支板11を基台15に固定
するための支持棒である。17はモータ14およ
びその駆動回路(特に図示していない。)等を保
護する保護カバー、18は板状基板4に樹脂を塗
布するように基板取付手段13を回転させたとき
に余分な樹脂が飛散するのを受ける円筒状をした
樹脂受カバーで、装置に着脱可能に設けられてい
る。
第5図は板状基板4の回転に対する基板取付手
段13への取付状態を説明する図である。すなわ
ち、板状基板4は、回転軸心Pと板状基板4の中
心Qとの間に回転半径lを持たせ、さらに板状基
板4の巾広面4a,4bが回転軸心Pと板状基板
4の中心Qとを結ぶ線に対して傾きθを持たせて
前記基板取付手段13に取付けられている。ま
た、板状基板4の巾広面4a,4bとそれを連絡
する幅の狭い面4c,4dは、第5図および第2
に示すように回転軸心方向に延在させるように構
成している。
なお従来の場合は第1図であきらかなように、
樹脂膜を形成したい面を回転軸心に対して直角な
方向に延在させている。
次に、板状基板4に樹脂膜を形成する場合の操
作について説明する。
板状基板4を基板取付手段13に前述したよう
に取付け、板状基板4の樹脂膜を形成したい4
a,4b,4c面(4d面に形成してもよい。)
に樹脂を、手作業あるいは機械的にスプレー、デ
イスペンサー等(図示していない)により塗布
し、第5図に示すように前記回転駆動手段により
板状基板4を矢印の方向に所定の回転数で回転さ
せると、板状基板4の4a,4b,4c面にそれ
ぞれ必要な樹脂膜を形成することができる。第6
図は板状基板4を示す斜視図で、面と面との角に
面取りRを構成している。このように面と面との
間にRを構成することにより、面取り部も含めて
均一な樹脂膜を形成することができる。そして面
取りは直線よりも一定の曲率を有するように構成
するほど、樹脂膜を良好に面と面を接続するよう
形成することができる。
第7図は前記樹脂膜形成装置を用いて板状基板
4に樹脂膜を形成したときの樹脂膜の厚さとtと
θとの関係を示す線図で、板状基板4の4a面を
三角、4b面を四角、4c面を黒丸で示してい
る。
なおこの場合は回転方向を第5図に示すように
反時計方向とし、回転軸心Pと板状基板4の中心
Qとを結ぶ線に対する巾広面4a,4bの成す角
θを反時計方向に変化させた場合である。
ここで、用いた板状基板4の形状は第8図に示
すように板厚Tが3mm、基板巾Wが16mm、基板長
さHが140mm、4a面と4c面および4c面と4
b面との角に曲率0.2〜0.5mmの面取りを施したも
のである。また、樹脂膜形成装置の条件は、回転
数が2000rpm、回転半径lを60mmに設定し、樹脂
は感光性樹脂で粘度が35cpである。第7図から
わかるように4a面と4c面に同等の厚さで樹脂
膜を形成する場合には、θを5°あるいは35°〜50°
付近に設定し、4b面の4c面に同等の厚さを形
成する場合には、10°〜20°の付近に設定すれば良
いことがわかる。また、θが30°〜50°の付近で
は、4a,4b,4c面間に一定の安定した状態
があり、4a面、4b面と4c面との間に厚みの
差が許容されれば、これらの3面に同時に樹脂膜
を形成することもできる。
第9図は板状基板4、樹脂は前記と同様の条件
で、樹脂膜形成装置の回転半径を60mm、θを45°
とした条件で回転数を変化させて樹脂膜を形成し
た場合の回転数と樹脂膜tとの関係を示す線図で
ある。第9図からわかるように、回転数が大きく
なるに従つて樹脂膜の厚さtは薄くなる傾向にあ
るが、ほぼ1500rpm以上でほぼ一定の厚みを得る
ことができることがわかる。なお角度θを反時計
方向とした場合においては0°<θ≦60°でもつて
ほぼ良好に複数面に樹脂膜を形成することができ
た。以上のように樹脂膜形成条件と樹脂膜形成状
態について述べたが、樹脂膜の形成状態は、樹脂
膜を形成する条件、すなわち回転半径l、角度
θ、回転数、あるいは樹脂材料、樹脂の粘度等に
より変化するので、これらの条件を選択して必要
な樹脂膜を形成することができる。
第7図において、4b面と4c面との関係でθ
が40°以下では、4b面の方が薄く形成されるが、
第5図に示したように回転軸心Pと板状基板4の
中心Qとを結ぶ線と板状基板4の巾広面4a,4
bとのなす角θを時計方向にすることにより、逆
に4b面の方が厚く形成することもできる。(但
し、基板取付手段の回転方向は第5図矢印で示す
ように反時計方向の場合。)この時のθは、0°<
θ≦45°でもつて良好に樹脂膜を形成することが
できた。
以上のように本実施例によれば、板状基板の樹
脂膜形成面を回転軸心方向に延在させると共に所
定の回転半径を持たせて板状基板を基板取付手段
に取付け回転させることにより、板状基板の複数
面に同時に略々均一な樹脂膜を形成することがで
きるものである。
なお、前記実施例では板状基板を1枚しか取付
けていないが、基板保持具を円周上に複数個設け
て、同時に複数枚に樹脂膜を形成するように基板
取付手段を構成してもよい。
また、前記実施例では板状基板の樹脂膜形成面
を上下方向に延在させたが、左右方向に延在する
より基板取付手段を横向きに構成しても良いこと
は言うまでもない。
発明の効果 本発明の樹脂膜形成装置は、断面が略長方形状
の板状基板のような複数の不連続な面を有する基
板に対しても、端面部と両側面部およびそれぞれ
の面の境界部を含めてほぼ均一な膜厚で樹脂膜を
形成することができ、端面部から側面部にかけて
連続的な配線パターンを必要とする電子部品等の
分野でその実用的効果は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の樹脂膜形成装置の原理を示す斜
視図、第2図は本発明による樹脂膜形成装置の一
実施例を示す一部を断面でみた側面図、第3図は
同装置を説明するための基板保持具と取付ねじを
示す斜視図、第4図は同じく基板取付状態を示す
要部斜視図、第5図は同じく基板取付状態を説明
する図、第6図は同じく板状基板を示す斜視図、
第7図は同じく角度θと樹脂膜の厚さtとの関係
を示す線図、第8図は同じく板状基板の形状を示
す斜視図、第9図は同じく回転数と樹脂膜の厚さ
tとの関係を示す線図である。 4……板状基板、4a,4b,4c……樹脂膜
形成面、6……回転下テーブル、7……基板保持
具、8……取付ねじ、9……回転上テーブル、1
0……連結棒、13……基板取付手段、14……
回転駆動手段、P……回転軸心、l……回転半
径、θ……角度。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 断面が略長方形の板状基板4を回転主軸10
    に対して所定の回転半径lを与えかつ板状基板の
    長手方向が回転主軸10と平行となるよう板状基
    板の長手方向の両端で固定する基板取付手段13
    と、この基板取付手段およびこの基板取付手段に
    固定された板状基板を回転主軸を中心として所定
    の回転速度で回転させる回転駆動手段14とを備
    えたことを特徴とする樹脂膜形成装置。 2 基板取付手段の回転方向を反時計方向とした
    とき、回転軸中心と板状基板の中心とを結ぶ線と
    前記板状基板の樹脂膜を形成する幅広面とのなす
    角θを、反時計方向でかつ0°<θ≦60°とするよ
    う前記基板取付手段を構成したことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の樹脂膜形成装置。 3 基板取付手段の回転方向を反時計方向とした
    とき、回転軸中心と板状基板の中心とを結ぶ線と
    前記板状基板の樹脂膜を形成する幅広面とのなす
    角θを、時計方向でかつ0°<θ≦45°とするよう
    前記基板取付手段を構成したことを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の樹脂膜形成装置。
JP58224733A 1983-11-29 1983-11-29 樹脂膜形成装置 Granted JPS60143869A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58224733A JPS60143869A (ja) 1983-11-29 1983-11-29 樹脂膜形成装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58224733A JPS60143869A (ja) 1983-11-29 1983-11-29 樹脂膜形成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60143869A JPS60143869A (ja) 1985-07-30
JPH0470953B2 true JPH0470953B2 (ja) 1992-11-12

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ID=16818385

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58224733A Granted JPS60143869A (ja) 1983-11-29 1983-11-29 樹脂膜形成装置

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