JPH0471406B2 - - Google Patents
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- JPH0471406B2 JPH0471406B2 JP5590984A JP5590984A JPH0471406B2 JP H0471406 B2 JPH0471406 B2 JP H0471406B2 JP 5590984 A JP5590984 A JP 5590984A JP 5590984 A JP5590984 A JP 5590984A JP H0471406 B2 JPH0471406 B2 JP H0471406B2
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- silicone composition
- photocurable silicone
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
［発明の技術分野］
本発明は新規な光硬化性シリコーン組成物に関
し、さらに詳しくは紫外線の短時間の照射で硬化
する光硬化性シリコーン組成物に関するものであ
る。 ［発明の技術的背景とその問題点］ シリコーンを紫外線で硬化させる組成物および
方法は、先行技術に記載されている。例えば、米
国特許第3726710号は、ビニル基含有ポリオルガ
ノシロキサンに各種の増感剤を添加し、高強度紫
外線照射を用いる硬化方法を示している。しかし
ながらこの方法によると、硬化が表面にのみとど
まり、内部まで均一に硬化しないという欠点があ
つた。また、米国特許第3816282号は、メルカプ
ト基含有ポリオルガノシロキサン、ポリメチルビ
ニルシロキサンおよび各種の有機過酸化物で付加
架橋させる組成物を提示しているが、この組成物
は室温における保存安定性が悪く、ゲル化が進行
してしまうという重大の欠点があつた。また、メ
ルカプト基含有ポリオルガノシロキサンの合成に
多段階の工程を要し、メルカプト基特有の悪臭を
放つなどの欠点もあつた。また、特公昭52−
19865号公報には、メルカプト基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよびゲル化禁止剤として２価フエ
ノールまたはそのアルキル誘導体から成る組成物
が示されているが、保存時の安定性は改良された
ものの、メルカプト基含有ポリオルガノシロキサ
ンについての前記の欠点は同様に残つていた。さ
らに、硬化が表面のみにとどまり、内部まで均一
に硬化しないという欠点もあつた。また、特公昭
52−40334号公報は、ビニル基含有ポリオルガノ
シロキサンとポリオルガノハイドロジエンシロキ
サンおよび増感剤を用い、付加反応により架橋さ
せる組成物を示しているが、これも硬化が表面の
みにとどまり内部まで硬化しないし、発泡現象を
ひき起こすという重大な欠点を有していた。ま
た、特開昭48−19682号公報は、アクリル系不飽
和基含有ポリオルガノシロキサンおよび増感剤か
らなる組成物を提案しているが、この方法はすぐ
れた感光効果をもつ反面、酸素の影響を受けやす
く、感光性の経時変化及び暗減衰が大きいという
欠点がある。そのうえ、アクリル系不飽和含有ポ
リオルガノシロキサンの合成に多段階を必要と
し、得られたシリコーンの耐熱性が悪いという欠
点があつた。また、アジド基含有ポリオルガノシ
ロキサン、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
および有機過酸化物から成る組成物が、特開昭54
−69197号公報に提案されている。これは、アジ
ド基含有ポリオルガノシロキサンのアジドの分解
によるポリオルガノシロキサンの炭化水素基から
の水素引抜反応、ビニル基含有ポリオルガノシロ
キサンのビニル基への挿入反応およびナイトレン
どうしのカツプリング反応による架橋、また有機
過酸化物の分解によるポリオルガノシロキサンの
炭化水素基からの水素引抜反応、ビニル基含有ポ
リオルガノシロキサンのビニル基への挿入反応に
よる架橋を並用したものである。この提案は、す
ぐれた感光効果をもち、酸素の影響も受けず、感
光性の経時変化も少ないという利点があつたが、
黄変するという欠点があつた。また、特開昭55−
125123号公報には、ビニル基含有ポリオルガノシ
ロキサンあるいはビニル基含有ポリオルガノシロ
キサンと有機過酸化物とから成る組成物に、波長
100〜300nｍの紫外線を照射する方法が記載され
ているが、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
のみの場合は、表面が硬化するのみにとどまり、
深部まで硬化しないし、硬化時間も、実用に耐え
ないほどの長時間が必要であるという欠点があつ
た。また、有機過酸化物の併用も、同特許に例示
されているペルオキシケタノール系、ジアルキル
系、および、エステル系有機過酸化物では、表面
が未硬化で、硬化時間も、実用に耐えないほどの
長時間が必要であるという欠点があつた。 本発明者の一人は、さらに、有機過酸化物とし
て芳香族カルボン酸と脂肪族アルコールのペルオ
キシエステルを用いることにより、ポリオルガノ
シロキサンを効果的に、かつ内部から表面まで一
様に硬化させ得ることを見出した（特開昭57−
109852号公報）が、用途によつてはさらに硬化時
間の短縮が要請されていた。さらに、狭隘な作業
場など、作業環境が問題になる場合には、分解生
成物の臭気のために用いにくいという問題があつ
た。 ［発明の目的］ 本発明は、紫外線硬化性が良好で、しかも得ら
れた硬化物が、電気特性、耐熱性、耐寒性、耐候
性などのシリコーン本来のもつ特長をそこなわな
い、光硬化性シリコーン組成物を提供することを
目的とするものである。 ［発明の構成］ 本発明は光硬化性シリコーン組成物は (1) 平均組成式
し、さらに詳しくは紫外線の短時間の照射で硬化
する光硬化性シリコーン組成物に関するものであ
る。 ［発明の技術的背景とその問題点］ シリコーンを紫外線で硬化させる組成物および
方法は、先行技術に記載されている。例えば、米
国特許第3726710号は、ビニル基含有ポリオルガ
ノシロキサンに各種の増感剤を添加し、高強度紫
外線照射を用いる硬化方法を示している。しかし
ながらこの方法によると、硬化が表面にのみとど
まり、内部まで均一に硬化しないという欠点があ
つた。また、米国特許第3816282号は、メルカプ
ト基含有ポリオルガノシロキサン、ポリメチルビ
ニルシロキサンおよび各種の有機過酸化物で付加
架橋させる組成物を提示しているが、この組成物
は室温における保存安定性が悪く、ゲル化が進行
してしまうという重大の欠点があつた。また、メ
ルカプト基含有ポリオルガノシロキサンの合成に
多段階の工程を要し、メルカプト基特有の悪臭を
放つなどの欠点もあつた。また、特公昭52−
19865号公報には、メルカプト基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよびゲル化禁止剤として２価フエ
ノールまたはそのアルキル誘導体から成る組成物
が示されているが、保存時の安定性は改良された
ものの、メルカプト基含有ポリオルガノシロキサ
ンについての前記の欠点は同様に残つていた。さ
らに、硬化が表面のみにとどまり、内部まで均一
に硬化しないという欠点もあつた。また、特公昭
52−40334号公報は、ビニル基含有ポリオルガノ
シロキサンとポリオルガノハイドロジエンシロキ
サンおよび増感剤を用い、付加反応により架橋さ
せる組成物を示しているが、これも硬化が表面の
みにとどまり内部まで硬化しないし、発泡現象を
ひき起こすという重大な欠点を有していた。ま
た、特開昭48−19682号公報は、アクリル系不飽
和基含有ポリオルガノシロキサンおよび増感剤か
らなる組成物を提案しているが、この方法はすぐ
れた感光効果をもつ反面、酸素の影響を受けやす
く、感光性の経時変化及び暗減衰が大きいという
欠点がある。そのうえ、アクリル系不飽和含有ポ
リオルガノシロキサンの合成に多段階を必要と
し、得られたシリコーンの耐熱性が悪いという欠
点があつた。また、アジド基含有ポリオルガノシ
ロキサン、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
および有機過酸化物から成る組成物が、特開昭54
−69197号公報に提案されている。これは、アジ
ド基含有ポリオルガノシロキサンのアジドの分解
によるポリオルガノシロキサンの炭化水素基から
の水素引抜反応、ビニル基含有ポリオルガノシロ
キサンのビニル基への挿入反応およびナイトレン
どうしのカツプリング反応による架橋、また有機
過酸化物の分解によるポリオルガノシロキサンの
炭化水素基からの水素引抜反応、ビニル基含有ポ
リオルガノシロキサンのビニル基への挿入反応に
よる架橋を並用したものである。この提案は、す
ぐれた感光効果をもち、酸素の影響も受けず、感
光性の経時変化も少ないという利点があつたが、
黄変するという欠点があつた。また、特開昭55−
125123号公報には、ビニル基含有ポリオルガノシ
ロキサンあるいはビニル基含有ポリオルガノシロ
キサンと有機過酸化物とから成る組成物に、波長
100〜300nｍの紫外線を照射する方法が記載され
ているが、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
のみの場合は、表面が硬化するのみにとどまり、
深部まで硬化しないし、硬化時間も、実用に耐え
ないほどの長時間が必要であるという欠点があつ
た。また、有機過酸化物の併用も、同特許に例示
されているペルオキシケタノール系、ジアルキル
系、および、エステル系有機過酸化物では、表面
が未硬化で、硬化時間も、実用に耐えないほどの
長時間が必要であるという欠点があつた。 本発明者の一人は、さらに、有機過酸化物とし
て芳香族カルボン酸と脂肪族アルコールのペルオ
キシエステルを用いることにより、ポリオルガノ
シロキサンを効果的に、かつ内部から表面まで一
様に硬化させ得ることを見出した（特開昭57−
109852号公報）が、用途によつてはさらに硬化時
間の短縮が要請されていた。さらに、狭隘な作業
場など、作業環境が問題になる場合には、分解生
成物の臭気のために用いにくいという問題があつ
た。 ［発明の目的］ 本発明は、紫外線硬化性が良好で、しかも得ら
れた硬化物が、電気特性、耐熱性、耐寒性、耐候
性などのシリコーン本来のもつ特長をそこなわな
い、光硬化性シリコーン組成物を提供することを
目的とするものである。 ［発明の構成］ 本発明は光硬化性シリコーン組成物は (1) 平均組成式
【式】
（式中、R1はビニル基を除く置換または非置
換の１価の炭化水素基を表し、ａは０＜ａ≦
１、ｂは０≦ｂ≦３、ただし、ａ＋ｂは１≦ａ
＋ｂ≦３である）で示されるポリオルガノシロ
キサン100重量部、および (2) 一般式
換の１価の炭化水素基を表し、ａは０＜ａ≦
１、ｂは０≦ｂ≦３、ただし、ａ＋ｂは１≦ａ
＋ｂ≦３である）で示されるポリオルガノシロ
キサン100重量部、および (2) 一般式
【式】
（式中、R2は置換または非置換のフエニル基、
R3は置換または非置換の１価の炭化水素基を
表す）で示されるシリル基含有ペルオキシエス
テル0.1〜10.0重量部 から成ることを特徴とする光硬化性シリコーン組
成物に関するものである。 本発明で対象とされる(1)のポリオルガノシロキ
サンは、上記の組成式で表され、式中のR1はビ
ニル基以外の置換または非置換の１価の炭化水素
基を表す。R1としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、アミル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキ
ル基；アリル基、シクロヘキセニル基などのアル
ケニル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などのシクロアルキル基；フエニル基、ナフチル
基などのアリール基；トリル基、キシリル基、メ
シチル基などのアルカリ基；ベンジル基、フエニ
ルエチル基などのアラルキル基；あるいは、これ
らの基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン
原子などで置換された基、例えば３，３，３−ト
リフルオロプロピル基、クロロメチル基、クロロ
フエニル基、シアノエチル基などが例示される
が、合成の容易さ、形成された硬化皮膜の強度お
よび耐熱性の点からすべてがメチル基、またはメ
チル基とフエニル基であることが好ましい。メチ
ル基とフエニル基から成る場合は、フエニル基が
10％以下で、残りがメチル基であることが好まし
い。フエニル基が10％を越えると、形成されるシ
リコーンが黄変するし、また経済的にも不利とな
る。ポリオルガノシロキサンのビニル基は、架橋
効率を増すものであり、その存在により光硬化時
間を著しく短縮することができる。とくに、ポリ
オルガノシロキサンの25℃における粘度が500cSt
より低い場合は、ビニル基による硬化促進効果が
極めて大きくなる。ビニル基の量は、多くなれば
なるほど硬化時間が短縮されるが、硬化後のシリ
コーンの強度がもろかつたり、耐熱性が劣るなど
の理由により、全有機基の50％以下であることが
好ましく、10％以下であることがさらに好まし
い。 また、ポリオルガノシロキサンに含まれるビニ
ル基により接着性も現れる。 このポリオルガノシロキサンの粘度は能率的硬
化時間を考えると、25℃における粘度が50cSt以
上であることが好ましく、さらに500cSt以上であ
ることが望ましい。また、構造的には特に制限は
なく、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれであつて
も良い。 (2)のシリル基含有ペルオキシエステルは、本発
明の最も特長となるもので、紫外線を照射したと
きに分解してラジカルを発生させ、上記のポリオ
ルガノシロキサンを硬化させるものである。 式中のR2は、置換または非置換の１価のフエ
ニル基であり、その具体例としてはフエニル基、
２，４−ジクロロフエニル基、ｐ−（ｉ−プロピ
ル）フエニル基、２−クロロフエニル基、３−ク
ロロフエニル基、４−クロロフエニル基、２，
４，６−トリクロロフエニル基などが例示される
が、合成の容易さ、原料の入手しやすさから、フ
エニル基または２，４−ジクロロフエニル基であ
ることが好ましい。 また、式中のR3は、置換または非置換の１価
の炭化水素基であれば特に制限されるものではな
い。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ウンデシル基、オクタデシル基などのアル
キル基；フエニル基などのアリール基；トリル
基、キシリル基などのアルカリ基；２−フエニル
エチル基などのアラルキル基；あるいは、これら
の基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン原
子などで置換された基、例えばクロロメチル基、
クロロフエニル基、シアノエチル基などが例示さ
れるが、合成の容易さ、原料の入手しやすさなど
からメチル基、エチル基、及びフエニル基から選
ばれた基であることが好ましい。これらは同一で
も、互いに相異なつていてもよい。 本発明のシリル基含有ペルオキシエステルは、
次のようにして合成される。すなわち、３−メチ
ルブテン−３−オールと、一般式 HSiR3 3 （式中、R3は前述のとおり）で示されるトリオ
ルガノシランとを、白金化合物などのヒドロシリ
ル化触媒の存在下、無溶媒またはベンゼン、トル
エン、キシレンのような有機溶媒中で反応させ
て、一般式 で示されるシリル基含有アルコールが得られる。
反応は一般に室温〜100℃の範囲で行われるが、
適当な有機溶媒を用いて、たとえばその還流温度
など、100℃を越える温度で行つてもさしつかえ
ない。これを過酸化水素と硫酸で処理すると、一
般式 で示されるシリル基含有ヒドロペルオキシドが得
られる。この反応は発熱反応であり、室温で行う
のが適当である。これに、一般式 で示される酸クロリドを、反応温度を20℃以下に
保ちながら、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ
−ヘキサンのような有機溶媒中で反応させ、次い
で中性になるまで水洗し、溶媒を留去、または再
結晶を行うことにより、本発明のシリル基含有ペ
ルオキシエステルを得ることができる。 本発明のシリル基含有ペルオキシエステルの具
体例としては、３−ベンゾイルペルオキシ−３−
メチルブチルトリエチルシラン、３−ベンゾイル
ペルオキシ−３−メチルブチルジフエニルメチル
シラン、３−ベンゾイルペルオキシ−３−メチル
ブチルフエニルジメチルシラン、３−ベンゾイル
ペルオキシ−３−メチルブチルトリフエニルシラ
ン、３−（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキ
シ）−３−メチルブチルトリエチルシラン、３−
（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３−
メチルブチルジフエニルメチルシラン、３−（２，
４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３−メチ
ルブチルフエニルジメチルシラン、３−（２，４
−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３−メチル
ブチルトリフエニルシランなどが例示される。 ポリオルガノシロキサン100重量部に対するシ
リル基含有ペルオキシエステルの配合量は、0.1
〜10.0重量部であり、好ましくは、0.1〜5.0重量
部である。配合量は0.1重量部未満では、硬化速
度も遅く、十分な架橋効果が得られない。また10
重量部を越えて添加しても、期待する効果が得ら
れない。 本発明のポリオルガノシロキサンとシリル基含
有ペルオキシエステルから成る組成物は紫外線を
照射して硬化させるものであるが、使用される光
源については特に制限されるものではない。 また、硬化物の機械的強度をさらに向上させる
ために、必要に応じて煙霧質シリカ、沈澱シリ
カ、焼成シリカ、シリカエアロゲル、石英微粉末
などを加えても何等さしつかえない。これらのシ
リカは単独でいても２種以上を混合して用いても
よく、また、そのまま用いても、表面をポリジメ
チルシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン、ヘキザメチルジシラサンのような有機ケ
イ素化合物で処理して用いてもよい。 また、アセトフエノン、ベンゾインプロピルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシ
アセトフエノン、２−メチル−２−ヒドロキシプ
ロピオフエノン、１−（４−イソピロピルフエニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパノンな
どの増感剤を加えてもさしつかえない。 ［発明の効果］ 本発明による工業的にベースポリマーとして広
く用いられているタイプのポリオルガノシロキサ
ンとシリル基含有ペルオキシエステルから成る組
成物は、紫外線を短時間照射することにより効果
的に硬化させることができる。而して得られた硬
化生成物は電気特性、耐熱性、耐候性が極めて優
れている。そのため硬化生成物は、半導体の接合
部の保護コーテイング、コンデンサーコイルなど
受動素子の防湿コーテイング、光フアイバーのバ
ツフアーコーテイングなど、幅広い用途に適用で
きる。また、硬化の際にシリル基含有ペルオキシ
エステルから生成する分解生成物は臭気が低く、
作業環境上の問題を生じない。 ［発明の実施例］ 以下、本発明を実施例によつて説明する。実施
例中、部はいずれも重量部を表す。 実施例 １ 分子鎖両末端がトリメチルシリル基で封鎖さ
れ、メチルビニルシロキシ単位10モル％、残余が
ジメチルシロキシ単位である、25℃における粘度
が４，000cStのポリジメチルシロキサン100部に、
表１に示すオルガノペルオキシドおよびシリル基
含有オルガノペルオキシド４部を配合し、比較例
試料11，12および本発明試料13〜16を得た。これ
らの試料をそれぞれアルミ板上に、10μの厚さに
コーテイングし、80W／cmの高圧水銀ランプ
（4kW）で10cmの距離より紫外線を照射し、硬化
時間を測定したところ表１に示す結果を得た。
R3は置換または非置換の１価の炭化水素基を
表す）で示されるシリル基含有ペルオキシエス
テル0.1〜10.0重量部 から成ることを特徴とする光硬化性シリコーン組
成物に関するものである。 本発明で対象とされる(1)のポリオルガノシロキ
サンは、上記の組成式で表され、式中のR1はビ
ニル基以外の置換または非置換の１価の炭化水素
基を表す。R1としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、アミル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキ
ル基；アリル基、シクロヘキセニル基などのアル
ケニル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などのシクロアルキル基；フエニル基、ナフチル
基などのアリール基；トリル基、キシリル基、メ
シチル基などのアルカリ基；ベンジル基、フエニ
ルエチル基などのアラルキル基；あるいは、これ
らの基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン
原子などで置換された基、例えば３，３，３−ト
リフルオロプロピル基、クロロメチル基、クロロ
フエニル基、シアノエチル基などが例示される
が、合成の容易さ、形成された硬化皮膜の強度お
よび耐熱性の点からすべてがメチル基、またはメ
チル基とフエニル基であることが好ましい。メチ
ル基とフエニル基から成る場合は、フエニル基が
10％以下で、残りがメチル基であることが好まし
い。フエニル基が10％を越えると、形成されるシ
リコーンが黄変するし、また経済的にも不利とな
る。ポリオルガノシロキサンのビニル基は、架橋
効率を増すものであり、その存在により光硬化時
間を著しく短縮することができる。とくに、ポリ
オルガノシロキサンの25℃における粘度が500cSt
より低い場合は、ビニル基による硬化促進効果が
極めて大きくなる。ビニル基の量は、多くなれば
なるほど硬化時間が短縮されるが、硬化後のシリ
コーンの強度がもろかつたり、耐熱性が劣るなど
の理由により、全有機基の50％以下であることが
好ましく、10％以下であることがさらに好まし
い。 また、ポリオルガノシロキサンに含まれるビニ
ル基により接着性も現れる。 このポリオルガノシロキサンの粘度は能率的硬
化時間を考えると、25℃における粘度が50cSt以
上であることが好ましく、さらに500cSt以上であ
ることが望ましい。また、構造的には特に制限は
なく、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれであつて
も良い。 (2)のシリル基含有ペルオキシエステルは、本発
明の最も特長となるもので、紫外線を照射したと
きに分解してラジカルを発生させ、上記のポリオ
ルガノシロキサンを硬化させるものである。 式中のR2は、置換または非置換の１価のフエ
ニル基であり、その具体例としてはフエニル基、
２，４−ジクロロフエニル基、ｐ−（ｉ−プロピ
ル）フエニル基、２−クロロフエニル基、３−ク
ロロフエニル基、４−クロロフエニル基、２，
４，６−トリクロロフエニル基などが例示される
が、合成の容易さ、原料の入手しやすさから、フ
エニル基または２，４−ジクロロフエニル基であ
ることが好ましい。 また、式中のR3は、置換または非置換の１価
の炭化水素基であれば特に制限されるものではな
い。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ウンデシル基、オクタデシル基などのアル
キル基；フエニル基などのアリール基；トリル
基、キシリル基などのアルカリ基；２−フエニル
エチル基などのアラルキル基；あるいは、これら
の基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン原
子などで置換された基、例えばクロロメチル基、
クロロフエニル基、シアノエチル基などが例示さ
れるが、合成の容易さ、原料の入手しやすさなど
からメチル基、エチル基、及びフエニル基から選
ばれた基であることが好ましい。これらは同一で
も、互いに相異なつていてもよい。 本発明のシリル基含有ペルオキシエステルは、
次のようにして合成される。すなわち、３−メチ
ルブテン−３−オールと、一般式 HSiR3 3 （式中、R3は前述のとおり）で示されるトリオ
ルガノシランとを、白金化合物などのヒドロシリ
ル化触媒の存在下、無溶媒またはベンゼン、トル
エン、キシレンのような有機溶媒中で反応させ
て、一般式 で示されるシリル基含有アルコールが得られる。
反応は一般に室温〜100℃の範囲で行われるが、
適当な有機溶媒を用いて、たとえばその還流温度
など、100℃を越える温度で行つてもさしつかえ
ない。これを過酸化水素と硫酸で処理すると、一
般式 で示されるシリル基含有ヒドロペルオキシドが得
られる。この反応は発熱反応であり、室温で行う
のが適当である。これに、一般式 で示される酸クロリドを、反応温度を20℃以下に
保ちながら、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ
−ヘキサンのような有機溶媒中で反応させ、次い
で中性になるまで水洗し、溶媒を留去、または再
結晶を行うことにより、本発明のシリル基含有ペ
ルオキシエステルを得ることができる。 本発明のシリル基含有ペルオキシエステルの具
体例としては、３−ベンゾイルペルオキシ−３−
メチルブチルトリエチルシラン、３−ベンゾイル
ペルオキシ−３−メチルブチルジフエニルメチル
シラン、３−ベンゾイルペルオキシ−３−メチル
ブチルフエニルジメチルシラン、３−ベンゾイル
ペルオキシ−３−メチルブチルトリフエニルシラ
ン、３−（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキ
シ）−３−メチルブチルトリエチルシラン、３−
（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３−
メチルブチルジフエニルメチルシラン、３−（２，
４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３−メチ
ルブチルフエニルジメチルシラン、３−（２，４
−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３−メチル
ブチルトリフエニルシランなどが例示される。 ポリオルガノシロキサン100重量部に対するシ
リル基含有ペルオキシエステルの配合量は、0.1
〜10.0重量部であり、好ましくは、0.1〜5.0重量
部である。配合量は0.1重量部未満では、硬化速
度も遅く、十分な架橋効果が得られない。また10
重量部を越えて添加しても、期待する効果が得ら
れない。 本発明のポリオルガノシロキサンとシリル基含
有ペルオキシエステルから成る組成物は紫外線を
照射して硬化させるものであるが、使用される光
源については特に制限されるものではない。 また、硬化物の機械的強度をさらに向上させる
ために、必要に応じて煙霧質シリカ、沈澱シリ
カ、焼成シリカ、シリカエアロゲル、石英微粉末
などを加えても何等さしつかえない。これらのシ
リカは単独でいても２種以上を混合して用いても
よく、また、そのまま用いても、表面をポリジメ
チルシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン、ヘキザメチルジシラサンのような有機ケ
イ素化合物で処理して用いてもよい。 また、アセトフエノン、ベンゾインプロピルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシ
アセトフエノン、２−メチル−２−ヒドロキシプ
ロピオフエノン、１−（４−イソピロピルフエニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパノンな
どの増感剤を加えてもさしつかえない。 ［発明の効果］ 本発明による工業的にベースポリマーとして広
く用いられているタイプのポリオルガノシロキサ
ンとシリル基含有ペルオキシエステルから成る組
成物は、紫外線を短時間照射することにより効果
的に硬化させることができる。而して得られた硬
化生成物は電気特性、耐熱性、耐候性が極めて優
れている。そのため硬化生成物は、半導体の接合
部の保護コーテイング、コンデンサーコイルなど
受動素子の防湿コーテイング、光フアイバーのバ
ツフアーコーテイングなど、幅広い用途に適用で
きる。また、硬化の際にシリル基含有ペルオキシ
エステルから生成する分解生成物は臭気が低く、
作業環境上の問題を生じない。 ［発明の実施例］ 以下、本発明を実施例によつて説明する。実施
例中、部はいずれも重量部を表す。 実施例 １ 分子鎖両末端がトリメチルシリル基で封鎖さ
れ、メチルビニルシロキシ単位10モル％、残余が
ジメチルシロキシ単位である、25℃における粘度
が４，000cStのポリジメチルシロキサン100部に、
表１に示すオルガノペルオキシドおよびシリル基
含有オルガノペルオキシド４部を配合し、比較例
試料11，12および本発明試料13〜16を得た。これ
らの試料をそれぞれアルミ板上に、10μの厚さに
コーテイングし、80W／cmの高圧水銀ランプ
（4kW）で10cmの距離より紫外線を照射し、硬化
時間を測定したところ表１に示す結果を得た。
【表】
【表】
実施例 ２
分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖
され、25℃における粘度が5000cStのポリジメチ
ルシロキサン100部に、次の式(1) で示されるシリル基含有オルガノペルオキシド
0.25部、アセトフエノン1.0部を配合し、アルミ
シヤーレに１mmの深さに流しこみ、160W／cmの
高圧水銀ランプ（8kW）で10cmの距離より５秒
間の照射で、ゲル状の硬化物を得た。 実施例 ３ 分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖
された、25℃における粘度が3000cStのポリジメ
チルシロキサン80部に、分子鎖両末端がトリメチ
ルシリル基で封鎖され、メチルビニルシロキシ単
位が５％モル、ジメチルシロキシ単位が残余であ
る25℃における粘度が5000cStであるポリメチル
ビニルシロキサン20部を均一混合し、シロキサン
処理煙霧質シリカ３部を万能混練機で配合した。
このベースコンパウンドに次の式(2) で示されるシリル基含有オルガノペルオキシド２
部を配合し、アルミ板上に500μの厚さに塗布し、
80W／cmのメタルハライドランプ（4kW）で6.5
cmの距離より照射したところ、５秒で硬化し、ゴ
ム状の皮膜を得た。 実施例 ４ 分子鎖両末端がトリメチルシリル基で封鎖さ
れ、ジフエニルシロキシ単位が30モル％、メチル
ビニルシロキシ単位が１モル％、残余がジメチル
シロキシ単位であるポリオルガノシロキサン100
部に、次の式(3) で示される有機過酸化物６部を配合し、アルミ板
上に100μの厚さに塗布し、120W／cmの高圧水銀
ランプ（6kW）で20cmの距離より照射したとこ
ろ３秒で硬化し、ゴム状の皮膜を得た。
され、25℃における粘度が5000cStのポリジメチ
ルシロキサン100部に、次の式(1) で示されるシリル基含有オルガノペルオキシド
0.25部、アセトフエノン1.0部を配合し、アルミ
シヤーレに１mmの深さに流しこみ、160W／cmの
高圧水銀ランプ（8kW）で10cmの距離より５秒
間の照射で、ゲル状の硬化物を得た。 実施例 ３ 分子鎖両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖
された、25℃における粘度が3000cStのポリジメ
チルシロキサン80部に、分子鎖両末端がトリメチ
ルシリル基で封鎖され、メチルビニルシロキシ単
位が５％モル、ジメチルシロキシ単位が残余であ
る25℃における粘度が5000cStであるポリメチル
ビニルシロキサン20部を均一混合し、シロキサン
処理煙霧質シリカ３部を万能混練機で配合した。
このベースコンパウンドに次の式(2) で示されるシリル基含有オルガノペルオキシド２
部を配合し、アルミ板上に500μの厚さに塗布し、
80W／cmのメタルハライドランプ（4kW）で6.5
cmの距離より照射したところ、５秒で硬化し、ゴ
ム状の皮膜を得た。 実施例 ４ 分子鎖両末端がトリメチルシリル基で封鎖さ
れ、ジフエニルシロキシ単位が30モル％、メチル
ビニルシロキシ単位が１モル％、残余がジメチル
シロキシ単位であるポリオルガノシロキサン100
部に、次の式(3) で示される有機過酸化物６部を配合し、アルミ板
上に100μの厚さに塗布し、120W／cmの高圧水銀
ランプ（6kW）で20cmの距離より照射したとこ
ろ３秒で硬化し、ゴム状の皮膜を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (1) 平均組成式【式】 （式中、R1はビニル基を除く置換または非置
換の１価の炭化水素基を表し、ａは０ａ≦
１、ｂは０≦ｂ≦３、ただし、ａ＋ｂは１≦ａ
＋ｂ≦３である）で示されるポリオルガノシロ
キサン100重量部、および (2) 一般式
【式】 （式中、R2は置換または非置換のフエニル基、
R3は置換または非置換の１価の炭化水素基を
表す）で示されるシリル基含有ペルオキシエス
テル0.1〜10.0重量部 から成ることを特徴とする光硬化性シリコーン組
成物。 ２ (1)のポリオルガノシロキサンが25℃で500cSt
以上の粘度を有する、特許請求の範囲第１項記載
の光硬化性シリコーン組成物。 ３ (1)のR1がメチル基またはフエニル基である、
特許請求の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン
組成物。 ４ (1)のR1がすべてメチル基である、特許請求
の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン組成物。 ５ (1)のａがａ＋ｂの10％以下である、特許請求
の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン組成物。 ６ (2)のR2がフエニル基である、特許請求の範
囲第１項記載の光硬化性シリコーン組成物。 ７ (2)のR2が２，４−ジクロロフエニル基であ
る、特許請求の範囲第１項記載の光硬化性シリコ
ーン組成物。 ８ (2)のR3がメチル基、エチル基、フエニル基
から選ばれた炭化水素基の１種類もしくは混合物
である、特許請求の範囲第１項記載の光硬化性シ
リコーン組成物。 ９ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３−
ベンゾイルペルオキシ−３−メチルブチルトリエ
チルシランである、特許請求の範囲第１項記載の
光硬化性シリコーン組成物。 １０ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−ベンゾイルペルオキシ−３−メチルブチルジフ
エニルメチルシランである、特許請求の範囲第１
項記載の光硬化性シリコーン組成物。 １１ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−ベンゾイルペルオキシ−３−メチルブチルフエ
ニルジメチルシランである、特許請求の範囲第１
項記載の光硬化性シリコーン組成物。 １２ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−ベンゾイルペルオキシ−３−メチルブチルトリ
フエニルシランである、特許請求の範囲第１項記
載の光硬化性シリコーン組成物。 １３ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３
−メチルブチルトリエチルシランである、特許請
求の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン組成
物。 １４ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３
−メチルブチルフエニルメチルシランである、特
許請求の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン組
成物。 １５ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３
−メチルブチルフエニルジメチルシランである、
特許請求の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン
組成物。 １６ (2)のシリル基含有ペルオキシエステルが３
−（２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシ）−３
−メチルブチルトリフエニルシランである特許請
求の範囲第１項記載の光硬化性シリコーン組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5590984A JPS60199013A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 光硬化性シリコ−ン組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5590984A JPS60199013A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 光硬化性シリコ−ン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60199013A JPS60199013A (ja) | 1985-10-08 |
| JPH0471406B2 true JPH0471406B2 (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=13012235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5590984A Granted JPS60199013A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 光硬化性シリコ−ン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60199013A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62290755A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | Toshiba Silicone Co Ltd | 紫外線硬化型シリコ−ン組成物 |
| JPH01230668A (ja) * | 1988-03-11 | 1989-09-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
-
1984
- 1984-03-23 JP JP5590984A patent/JPS60199013A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60199013A (ja) | 1985-10-08 |
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