JPH0475073B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は密閉容器内を通過するコンベア上に載
置されたプリント回路基板、現像フイルム等から
なる板状の被洗物を、上記密閉容器内で溶剤でシ
ヤワー又はスプレー洗浄する際に、上記溶剤が上
記密閉容器内から外気側に漏洩するのを防止する
に好適な溶剤洗浄機の漏洩防止装置に関する。

第１図に示す如く、従来の溶剤洗浄装置１は、
密閉容器２と、この密閉容器２の入口３および出
口４間を通過するコンベア５と、被洗物７を洗浄
する溶剤６を密閉容器２内に供給する図示しない
供給手段等とから構成される。プリンド回路基
板、現像フイルム等の板状の被洗物７（以下「被
洗物」と称する）はコンベア５上に載置されて移
送され、密閉容器２内の溶剤６により、付着して
いる洗浄対象物を溶剤でシヤワー洗浄する。入口
３および出口４は外気側８に開放しているため、
密閉容器２内に発生した溶剤ミスト６ａが外気側
８に漏洩する。溶剤６は１，１，１トリクロルエ
タン、メチレンクロライド、トリクロルエチレ
ン、パークロルエチレン等の塩素系有機溶剤等が
用いられ洗浄装置からの漏洩は作業環境の悪化及
び不必要な溶剤消費の原因となり、製品のコスト
高に通ずる。従つて、溶剤ミスト６ａの外気側８
への漏洩を防ぐ必要がある。このため図に示す如
く、密閉容器２の入口３および出口４に密閉室９
をそれぞれ接続すると共に、密閉室９に図示しな
いブロワ等に連通するダクト１０を接続し、密閉
容器２から入口３および出口４を通つて密閉室９
内に漏洩した溶剤ミスト６ａを回収する手段が採
用されていた。しかし、この手段では、密閉室９
自体にコンベア５が通過する入口３ａおよび出口
４ａが必要となり、これ等から溶剤ミスト６ａが
外気側８に漏洩することを防止することができな
い。又、吸収した溶剤ミスト６ａを活性炭吸着装
置（図示しない）にて処理して復元するため高価
のものとなる欠点がある。

又、第２図に示す如く、入口３および出口４に
カーテン１１を垂下し、開口面積を小さくする手
段や、第３図に示す如く、相対向するロール１２
をシリンダ１３等によつて近接せしめ、開口面積
を狭少にする手段も採用されているが、いづれも
溶剤ミスト６ａの漏洩を防止できず多量の溶剤ミ
スト６ａが外気側８に流出する問題が生じてい
た。

更に、多量のミストやガスが外気側に流出しな
いよう、洗浄室内の溶剤蒸気を吸引捕集した後冷
却凝縮して回収する方法（特開昭50−38961号）
等が提案されているが、溶剤蒸気の漏洩防止及び
回収効率の面からすると尚不十分である。

本発明は上記の欠点や問題点を解決すべく創案
されたものであり、その目的は、溶剤ミストの漏
洩を完全に防止し、大気汚染防止および作業環境
の改善をはかると共に、活性炭吸着装置等を付設
することなく、かつ溶剤の消費量を節減し得る溶
剤洗浄機の漏洩防止装置を提供することにある。

本発明は上記の目的を達成するために溶剤の介
在する密閉容器の入口および出口を上記溶剤に混
入可能な液体でシールし、上記密閉容器内と外気
側とを遮断するようにした溶剤洗浄機の漏洩防止
装置を特徴としたものである。

即ち、本発明は密閉容器内に、その入口から出
口に向つて通過するコンベアを配設し、該コンベ
ア上に載置された被洗物を溶剤で洗浄する溶剤洗
浄機において、上記入口および出口に、溶剤を蓄
溜し該入口および出口の開放部を液シールする蓄
槽と、該開放部から流出した液剤を蓄溜する容器
と、液剤を循環させる循環ポンプとを設け、上記
密閉容器内と外気側とを液シールで遮断すること
を特徴とする溶剤洗浄機の漏洩防止装置である。

以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。

第４図に示す如く、密閉容器２内にはシヤワー
装置１４が設けられ、シヤワーポンプ１６からの
溶剤６が示矢Ｎの如く被洗物７に噴出され付着物
を洗浄する。溶剤６は密閉容器２の底面側に蓄溜
されると共に、溶剤ミスト６ａとなり密閉容器２
内に飛遊する。又、蒸溜した溶剤６はシヤワーポ
ンプ１６により吸引されて再び循環する。密閉容
器２の入口３と出内４との間には傾斜したコンベ
ア５が通過して配置される。入口３および出口４
の外気側には、蓄槽Ａ１８および液剤戻入手段の
１つである容器Ｂ１９が密閉容器２に密接して設
けられる。又、コンベア５はこれ等を横断して配
置される。蓄槽Ａ１８には溶剤である溶剤６が蓄
溜され、その液面レベルは入口３より少くとも常
時上方側にあるように保持される。従つて、蓄槽
Ａ１８内の溶剤６は入口３の開放部を充満しなが
ら密閉容器２内に流出する。一方、密閉容器２内
には液剤戻入手段の１つである区割された容器Ａ
２０が形成され、上記の流出した溶剤６は容器Ａ
２０内に蓄溜される。又、液剤戻入手段の他の１
つである循環ポンプＡ１５は容器Ａ２０と蓄槽Ａ
１８に連結し、溶剤６を循環せしめると共に上記
の如く蓄槽Ａ１８の液面レベルを入口３の上位に
あるように制御する。

一方、密閉容器２内の出口４側には区割された
蓄槽Ｂ２１が出口４に密接して設けられている。
蓄槽Ｂ２１内には液剤である溶剤６が蓄溜され、
その液面レベルは出口４より少くとも常時上方側
にあるように保持される。従つて、蓄槽Ｂ２１内
の溶剤６は出口４の開放部を充満しながら容器Ｂ
１９内に蓄溜される。循環ポンプＢ１７は容器Ｂ
１９と蓄槽Ｂ２１に連結し、溶剤６を循環すると
共に、蓄槽Ｂ２１の液面レベルを出口４の上位に
あるように制御する。

以上の如く、入口３を充満して流れる液剤流れ
２２と出口４を充満して流れる液剤流れ２３によ
り入口３および出口４は密閉され液体シールされ
る。尚、出口４を充満して流れる溶剤流れ２３は
容器１９内に落下したときに若干のミストが発生
し漏洩するが、溶剤の圧力が低く又、容器１９内
の溶剤６の液面までの落下距離を小さくしておけ
ば溶剤洗浄装置内で発生する溶剤ミスト６ａの量
と比べるほとんど無視できる程小さい。

以上により、密閉容器２内と外気側とは完全に
遮断され、溶剤ミスト６ａの漏洩が防止される。
又、コンベア５は溶剤流れ２２，２３内を容易に
移動できるので移送の障害とならない。又、溶剤
として溶剤６を用いているので同一の洗浄用の溶
剤６と混入しても全く問題が生じない。

第５図は、他の実施例を示す。

本実施例は第４図のものとほぼ同一のものであ
るが、コンベア５を入口３と出口４で逆方向に傾
斜せしめ、中央の水平部を密閉容器２内に配置し
たものである。この場合には、蓄槽Ｂ２１ａを密
閉容器２に密接する外気側に配置し、容器Ｂ１９
ａを容器Ａ２０と同じく密閉容器２内に区割して
設けたものである。又、循環ポンプＡ，Ｂおよび
シヤワーポンプ１６等は図示されていないが、上
記実施例と同じく設けられている。

第６図は別の実施例を示す。

同図において、第４図と同一符号のものは同一
物又は同一機能のものを示す。

この場合、蓄槽Ｂ２１には溶剤としての水２５
が蓄溜され、水２５は出口４から容器Ｂ１９内に
流出される。これにより出口４はシールされる。
容器Ｂ１９には純粋ポンプ２６から水２５が供給
され、容器Ｂ１９内の水２５は循環ポンプＢ１７
により循環供給される。入口３は第４図に示す実
施例と同様に溶剤６によりシールされる。

蓄槽Ｂ２１は密閉容器２内に設けられているた
め、蓄槽Ｂ２１の水２５内には溶剤６が混入す
る。しかし、水２５は溶剤６と互いに溶解しにく
く且つ比重が異なるため容易に比重分離すること
ができるので、液剤として水２５を用いても何等
問題が生じない。又、純水で被洗物の仕上の洗浄
をすることもできる。

第７図は別の実施例を示すもので、第５図に示
したものとほぼ同一のものである。但し、蓄槽Ｂ
２１ａと容器Ｂ１９ａ内に水２５を蓄溜させ、出
口４を水２５の液剤流れ２３によつてシールした
ものである。

第８図は更に別の実施例を示すもので、第５図
に示す実施例とほぼ同一の漏洩防止構造を有す
る。但し、この場合蓄槽Ａ１８内に被洗物７を外
気側から滑り落す滑り板２７が形成されると共
に、コンベア５は滑り板２７から密閉容器２内に
滑り落ちた被洗物７を水平に送るコンベアＡ５ａ
と、密閉容器２内から上方に傾斜して立上り、出
口４を通り外気側に突出するコンベアＢ５ｂと、
これに接続して水平に走るコンベアＣ５ｃから構
成される。

第９図は別の実施例を示すもので、第８図のも
のとほぼ同一である。但し、蓄槽Ａ１８には外気
側から被洗物７を垂直投入するホツパ状の投入口
２８が形成されると共に、その内部に投入された
被洗物７を入口３に移送するコンベアＤ５ｄが水
平に設けられている点が相違する。

第１０図は更に別の実施例を示す。

蓄槽Ａ１８および蓄槽Ｂ２１ａの外気側には、
これに密接して容器Ｃ２９および容器Ｄ３０が設
けられている。容器Ｃ２９には蓄槽Ａ１８側と外
気側にそれぞれ入口３ｂ，３ｃを形成し、コンベ
ア５を水平に貫通せしめている。同様に容器Ｄ３
０にも出口４ｂ，４ｃが形成されている。溶剤６
は入口３および出口４から溶剤流れ２２および２
３として流出すると共に、入口３ｂ，出口４ｂか
らも液剤流れ２２ａ，２３ａを流出せしめ、溶剤
ミスト６ａの漏洩防止を完全にしている。

第１１図はさらに別の実施例を示す。

本実施例では、密閉容器２の入口側と出口側に
蓄槽Ｃ３１と蓄槽Ｄ３２を設け、コンベア５はま
づ蓄槽Ｃ３１内に浸漬した状態で密閉容器２側に
送られ、密閉容器２内に露出した後、蓄積Ｄ３２
に浸漬し、密閉容器２から抜き出し外気側に露出
するように配設される。従つて、上記の入口３お
よび出口４が蓄槽Ｃ３１および蓄槽Ｄ３２の液面
レベルに相当するため、特に、上記の如き液剤流
れ２２，２３等を形成する必要がなく液体シール
される。

以上の各実施例では被洗物７について特に説明
していないが、光によつてパターンを形成したプ
リント回路基板や写真フイルム等の板状物に対し
て本実施例は好適である。又溶剤洗浄機としては
現像機、エツチングマシン、剥膜機又はそれらの
組合せ装置が好適である。

以上の説明によつて明らかの如く、本発明によ
れば密閉容器内の溶剤ミストの漏洩を完全に防止
し、大気汚染防止および作業環境を改善すると共
に、特別の活性炭吸着装置等を使用せずに溶剤の
消費量を節減できる効果が上げられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の溶剤洗浄装置を示す概要構成
図、第２図および第３図は従来の漏洩防止手段を
示す説明図、第４図ないし第１１図は各々本発明
の実施例の構成図である。 １……溶剤洗浄装置、２……密閉容器、３，３
ａ，３ｂ，３ｃ……入口、４，４ａ，４ｂ，４ｃ
……出口、５……コンベア、５ａ……コンベア
Ａ、５ｂ……コンベアＢ、５ｃ……コンベアＣ、
５ｄ……コンベアＤ、６……溶剤、６ａ……溶剤
ミスト、７……板状の被洗物、８……外気側、１
４……シヤワー装置、１５……循環ポンプＡ、１
６……シヤワーポンプ、１７……循環ポンプＢ、
１８……蓄積Ａ、１９，１９ａ……容器Ｂ、２０
……容器Ａ、２１，２１ａ……蓄積Ｂ、２２，２
２ａ，２３，２３ａ……液剤流れ、２５……水、
２６……純水ポンプ、２７……滑り板、２８……
投入口、２９……容器Ｃ、３０……容器Ｄ、３１
……蓄槽Ｃ、３２……蓄槽Ｄ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 密閉容器内に、その入口から出口に向つて通
   過するコンベアを配設し、該コンベア上に載置さ
   れた被洗物を溶剤で洗浄する溶剤洗浄機におい
   て、上記入口および出口に、溶剤を蒸溜し該入口
   および出口の開放部を液シールする畜槽と、該開
   放部から流出した液剤を蒸溜する容器と、液剤を
   循環させる循環ポンプとを設け、上記密閉容器内
   と外気側とを液シールで遮断することを特徴とす
   る溶剤洗浄機の漏洩防止装置。 ２ 被洗物がプリント回路基板である特許請求の
   範囲第１項記載の装置。 ３ 溶剤洗浄機が現像機、エツチングマシン、剥
   膜機又はそれ等の組合せ装置である特許請求の範
   囲第１項記載の装置。