JPH0478572B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0478572B2 JPH0478572B2 JP1211913A JP21191389A JPH0478572B2 JP H0478572 B2 JPH0478572 B2 JP H0478572B2 JP 1211913 A JP1211913 A JP 1211913A JP 21191389 A JP21191389 A JP 21191389A JP H0478572 B2 JPH0478572 B2 JP H0478572B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- composition
- present
- thermal expansion
- coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明はサーマルプリンタヘツドに用いられる
セラミツク基板用のグレーズ組成物の改良に関す
るものである。 （従来の技術） サーマルプリンタヘツド用の基板としては、ア
ルミナ質の基板の表面にグレーズと呼ばれるガラ
スを施釉したグレーズ基板が用いられ、その表面
に発熱抵抗体等の回路が形成される。このための
グレーズ組成物は800℃以上の高温で導体、抵抗
体等を焼付けても回路パターンの崩れが生じない
ように十分な耐熱性を有することが求められてい
る。また回路形成時にフオトリソグラフ法グレー
ズ基板の端部が10〜20μｍの高さに盛上がるメニ
スカスと呼ばれる現象を起こしにくいものである
ことが求められる。 このようなグレーズ組成物としては従来から多
くのものが特許出願されている。例えば特公昭60
−55453号公報には、SiO2，B2O3，CaO，BaO，
SrO，Al2O3を特定の割合で含有させたグレーズ
組成物が開示されている。しかしこのグレーズ組
成物は実質的な転移点が690℃であるために800℃
以上の高温焼成を行うと回路パターンが崩れるお
それがある。また特公昭61−24345号公報には、
SiO2，Al2O3，CaO，BaO，B2O3，ZnOを特定
の割合で含有させたグレーズ組成物が開示されて
おり、更に特開昭62−96344号公報には、SiO2，
Al2O3，CaO，BaO，SrO，P2O5を特定の割合で
含有させたグレーズ組成物が開示されている。し
かしこれらのグレーズ組成物も実質的な転移点が
690℃であるために、上記したと同様に800℃以上
の高温焼成を行うと回路パターンが崩れるおそれ
がある。 （発明が解決しようとする課題） 本発明は上記した従来の欠点を解決して、800
℃以上の高温焼成に耐える耐熱性を備え、またグ
レーズ表面の平滑性、耐酸性が良好で、アルミナ
基板との熱膨脹係数の差が小さいセラミツク基板
用グレーズ組成物を提供するために完成されたも
のである。 （課題を解決するための手段） 上記の課題を解決するための本発明は、重量比
で、SiO245〜60％、Al2O3５〜14％、CaO5〜15
％、BaO3〜25％、SrO5〜30％、MgO0.5〜５％、
La2O3５％以下の組成を持つことを特徴とするも
のである。 本発明のグレーズ組成物は、耐熱性を増加させ
るために、Na2Ｏ，K2Ｏ等のアルカリ成分及び
B2O3の含有量をゼロとした無アルカリガラスと
するとともに、これによる溶解性と清澄性の低下
を無アルカリガラスの場合に融剤となるCaO，
BaO，SrO，MgOの増量により補つた点に第１
の特徴がある。これによつて転移点を780℃〜820
℃と従来品よりも大幅に向上させることができ、
しかも従来のグレーズ組成物と変わりのない溶融
性を維持することができる。 また本発明のグレーズ組成物はCaO，BaO，
SrO，MgOをバランス良く含有させることによ
つて失透を防止するとともに、表面張力を適正な
大きさに調整し、更に熱膨脹係数をアルミナ基板
とほぼ同一の6.5〜7.0×10-6／℃に調整した点に
第２の特徴がある。 更に本発明のグレーズ組成物はLa2O3を５％以
下含有させることによつてガラスの骨格を強化し
た点に第３の特徴がある。 以下に各成分の含有率の限定理由を示す。 SiO2はガラス構造を形成するための主成分で
あり、その含有率が60％を越えると熱膨脹係数が
小さくなりすぎてアルミナ基板の熱膨脹係数との
差が大きくなり、逆に45％未満ではグレーズの耐
熱性が不十分となり本発明の目的が達成できな
い。 Al2O3は失透を防ぐ成分であり、限定範囲より
多すぎても少な過ぎてもグレーズ焼成時に失透が
発生し易くなる。 CaO，BaO，SrO，MgOは上述したように無
アルカリガラスの場合に融剤となる成分であり、
各数値限定の範囲を外れると失透を生じ易くな
り、不足すると表面張力が小さくなりすぎる。ま
た各数値限定の範囲内において、熱膨脹係数を
6.5〜7.0×10-6／℃に調整することができる。 La2Ｏはガラスの骨格を強化することができる
成分であり、５％以下の添加により熱膨脹係数を
高めることなく耐熱性を15℃以上も高めることが
できる。 （作用） 上記のような組成を持つ本発明のグレーズ組成
物は耐熱性が高く、後述する実施例のデータにも
示されるように転移点を780℃〜820℃と従来のグ
レーズ組成物よりも大幅に高めることができ、従
つて厚膜タイプのサーマルプリンタヘツドに使用
される場合には回路形成のための高温焼成時にお
いても下地のグレーズ層の耐熱性が高く、回路パ
ターンの変形が生じない。また薄膜タイプのサー
マルプリンタヘツドに使用される場合には下地の
グレーズ層の耐熱性が高いために高温で抵抗体を
アニーリングができ、完成品の寿命を長くするこ
とができる。 また本発明のグレーズ組成物は、実施例のデー
タにも示されるように転移点を高めたにもかかわ
らず熱膨脹係数をアルミナ基板の熱膨脹係数と同
様の値に維持できるうえ、グレーズ表面の平滑
性、耐酸性が良好で電気絶縁性の劣化のないもの
である。 以下に本発明の実施例を示す。 （実施例） 次頁の表に示した酸化物組成となるように原料
を調合し、高純度のるつぼに入れて1400〜1600℃
で溶融し、急冷して得られたガラスをアルミナ製
ボールミルで微粉砕した。このようにして得られ
たガラスの微粉末をエチルセルロースとα−テル
ピノール等の混合物であるビヒクルと混合し、ペ
ースト状とした。このペーストをスクリーン印刷
法でアルミナ基板に印刷して所望の厚みの膜を形
成し、1200〜1300℃で焼成することによりグレー
ズ基板とした。 表中のNo.１は本発明の実施例であり、No.２は先
に特願昭63−198449号として出願済みのグレーズ
組成物、No.３は出願人会社が以前に開発したグレ
ーズ組成物である。またNo.４とNo.５も従来他社か
ら市販されているグレーズ組成物である。各グレ
ーズ組成物の熱膨脹係数と転移点を測定した結果
を表中に記入した。表中の組成の単位は重量％、
熱膨脹係数の単位は10-6／℃である。
セラミツク基板用のグレーズ組成物の改良に関す
るものである。 （従来の技術） サーマルプリンタヘツド用の基板としては、ア
ルミナ質の基板の表面にグレーズと呼ばれるガラ
スを施釉したグレーズ基板が用いられ、その表面
に発熱抵抗体等の回路が形成される。このための
グレーズ組成物は800℃以上の高温で導体、抵抗
体等を焼付けても回路パターンの崩れが生じない
ように十分な耐熱性を有することが求められてい
る。また回路形成時にフオトリソグラフ法グレー
ズ基板の端部が10〜20μｍの高さに盛上がるメニ
スカスと呼ばれる現象を起こしにくいものである
ことが求められる。 このようなグレーズ組成物としては従来から多
くのものが特許出願されている。例えば特公昭60
−55453号公報には、SiO2，B2O3，CaO，BaO，
SrO，Al2O3を特定の割合で含有させたグレーズ
組成物が開示されている。しかしこのグレーズ組
成物は実質的な転移点が690℃であるために800℃
以上の高温焼成を行うと回路パターンが崩れるお
それがある。また特公昭61−24345号公報には、
SiO2，Al2O3，CaO，BaO，B2O3，ZnOを特定
の割合で含有させたグレーズ組成物が開示されて
おり、更に特開昭62−96344号公報には、SiO2，
Al2O3，CaO，BaO，SrO，P2O5を特定の割合で
含有させたグレーズ組成物が開示されている。し
かしこれらのグレーズ組成物も実質的な転移点が
690℃であるために、上記したと同様に800℃以上
の高温焼成を行うと回路パターンが崩れるおそれ
がある。 （発明が解決しようとする課題） 本発明は上記した従来の欠点を解決して、800
℃以上の高温焼成に耐える耐熱性を備え、またグ
レーズ表面の平滑性、耐酸性が良好で、アルミナ
基板との熱膨脹係数の差が小さいセラミツク基板
用グレーズ組成物を提供するために完成されたも
のである。 （課題を解決するための手段） 上記の課題を解決するための本発明は、重量比
で、SiO245〜60％、Al2O3５〜14％、CaO5〜15
％、BaO3〜25％、SrO5〜30％、MgO0.5〜５％、
La2O3５％以下の組成を持つことを特徴とするも
のである。 本発明のグレーズ組成物は、耐熱性を増加させ
るために、Na2Ｏ，K2Ｏ等のアルカリ成分及び
B2O3の含有量をゼロとした無アルカリガラスと
するとともに、これによる溶解性と清澄性の低下
を無アルカリガラスの場合に融剤となるCaO，
BaO，SrO，MgOの増量により補つた点に第１
の特徴がある。これによつて転移点を780℃〜820
℃と従来品よりも大幅に向上させることができ、
しかも従来のグレーズ組成物と変わりのない溶融
性を維持することができる。 また本発明のグレーズ組成物はCaO，BaO，
SrO，MgOをバランス良く含有させることによ
つて失透を防止するとともに、表面張力を適正な
大きさに調整し、更に熱膨脹係数をアルミナ基板
とほぼ同一の6.5〜7.0×10-6／℃に調整した点に
第２の特徴がある。 更に本発明のグレーズ組成物はLa2O3を５％以
下含有させることによつてガラスの骨格を強化し
た点に第３の特徴がある。 以下に各成分の含有率の限定理由を示す。 SiO2はガラス構造を形成するための主成分で
あり、その含有率が60％を越えると熱膨脹係数が
小さくなりすぎてアルミナ基板の熱膨脹係数との
差が大きくなり、逆に45％未満ではグレーズの耐
熱性が不十分となり本発明の目的が達成できな
い。 Al2O3は失透を防ぐ成分であり、限定範囲より
多すぎても少な過ぎてもグレーズ焼成時に失透が
発生し易くなる。 CaO，BaO，SrO，MgOは上述したように無
アルカリガラスの場合に融剤となる成分であり、
各数値限定の範囲を外れると失透を生じ易くな
り、不足すると表面張力が小さくなりすぎる。ま
た各数値限定の範囲内において、熱膨脹係数を
6.5〜7.0×10-6／℃に調整することができる。 La2Ｏはガラスの骨格を強化することができる
成分であり、５％以下の添加により熱膨脹係数を
高めることなく耐熱性を15℃以上も高めることが
できる。 （作用） 上記のような組成を持つ本発明のグレーズ組成
物は耐熱性が高く、後述する実施例のデータにも
示されるように転移点を780℃〜820℃と従来のグ
レーズ組成物よりも大幅に高めることができ、従
つて厚膜タイプのサーマルプリンタヘツドに使用
される場合には回路形成のための高温焼成時にお
いても下地のグレーズ層の耐熱性が高く、回路パ
ターンの変形が生じない。また薄膜タイプのサー
マルプリンタヘツドに使用される場合には下地の
グレーズ層の耐熱性が高いために高温で抵抗体を
アニーリングができ、完成品の寿命を長くするこ
とができる。 また本発明のグレーズ組成物は、実施例のデー
タにも示されるように転移点を高めたにもかかわ
らず熱膨脹係数をアルミナ基板の熱膨脹係数と同
様の値に維持できるうえ、グレーズ表面の平滑
性、耐酸性が良好で電気絶縁性の劣化のないもの
である。 以下に本発明の実施例を示す。 （実施例） 次頁の表に示した酸化物組成となるように原料
を調合し、高純度のるつぼに入れて1400〜1600℃
で溶融し、急冷して得られたガラスをアルミナ製
ボールミルで微粉砕した。このようにして得られ
たガラスの微粉末をエチルセルロースとα−テル
ピノール等の混合物であるビヒクルと混合し、ペ
ースト状とした。このペーストをスクリーン印刷
法でアルミナ基板に印刷して所望の厚みの膜を形
成し、1200〜1300℃で焼成することによりグレー
ズ基板とした。 表中のNo.１は本発明の実施例であり、No.２は先
に特願昭63−198449号として出願済みのグレーズ
組成物、No.３は出願人会社が以前に開発したグレ
ーズ組成物である。またNo.４とNo.５も従来他社か
ら市販されているグレーズ組成物である。各グレ
ーズ組成物の熱膨脹係数と転移点を測定した結果
を表中に記入した。表中の組成の単位は重量％、
熱膨脹係数の単位は10-6／℃である。
【表】
【表】
（発明の効果）
以上に説明したとおり、本発明は従来にない新
規な組成を有し、アルミナ基板と熱膨脹係数がほ
ぼ等しく、また耐熱性に優れるもので、このグレ
ーズ組成物を用いれば800℃以上の高温焼成を行
つても回路の崩れがなく、サーマルプリンタヘツ
ド用発熱抵抗体の抵抗値の安定化を図ることがで
きる。 よつて本発明は従来の問題点を一掃したセラミ
ツク基板用グレーズ組成物として、産業の発展に
寄与するところは極めて大である。
規な組成を有し、アルミナ基板と熱膨脹係数がほ
ぼ等しく、また耐熱性に優れるもので、このグレ
ーズ組成物を用いれば800℃以上の高温焼成を行
つても回路の崩れがなく、サーマルプリンタヘツ
ド用発熱抵抗体の抵抗値の安定化を図ることがで
きる。 よつて本発明は従来の問題点を一掃したセラミ
ツク基板用グレーズ組成物として、産業の発展に
寄与するところは極めて大である。
Claims (1)
- １ 重量比で、SiO245〜60％、Al2O3５〜14％、
CaO5〜15％、BaO3〜25％、SrO5〜30％、
MgO0.5〜５％、La2O3５％以下の組成を持つこ
とを特徴とするセラミツク基板用グレーズ組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21191389A JPH0375237A (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | セラミック基板用グレーズ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21191389A JPH0375237A (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | セラミック基板用グレーズ組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0375237A JPH0375237A (ja) | 1991-03-29 |
| JPH0478572B2 true JPH0478572B2 (ja) | 1992-12-11 |
Family
ID=16613733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21191389A Granted JPH0375237A (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | セラミック基板用グレーズ組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0375237A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI467706B (zh) | 2009-04-09 | 2015-01-01 | 財團法人工業技術研究院 | 陶瓷基板及其製造方法 |
| JPWO2012108345A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | ガラス組成物およびガラス組成物を用いた太陽電池用ガラス基板、並びにディスプレイパネル用ガラス基板 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6055453B2 (ja) * | 1979-10-11 | 1985-12-05 | 日本特殊陶業株式会社 | アルミナ基板用グレ−ズ組成物 |
| DE3322481A1 (de) * | 1983-06-22 | 1985-01-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Duennschicht-gassensor zum nachweis und zur messung von gasfoermigen kohlenwasserstoff-verunreinigungen mit doppel- und dreifachbindungen, insbesondere von acetylen, in luft sowie ein verfahren zu seiner herstellung |
| JPS60118648A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-26 | Ngk Spark Plug Co Ltd | セラミツク基板用グレ−ズ組成物 |
| JP2519938B2 (ja) * | 1987-06-30 | 1996-07-31 | 旭硝子株式会社 | ガラス組成物 |
-
1989
- 1989-08-17 JP JP21191389A patent/JPH0375237A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0375237A (ja) | 1991-03-29 |
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