JPH0488018A - 安定化ポリフェニレンエーテル樹脂とその組成物、及びその製法 - Google Patents

安定化ポリフェニレンエーテル樹脂とその組成物、及びその製法

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JPH0488018A
JPH0488018A JP20137990A JP20137990A JPH0488018A JP H0488018 A JPH0488018 A JP H0488018A JP 20137990 A JP20137990 A JP 20137990A JP 20137990 A JP20137990 A JP 20137990A JP H0488018 A JPH0488018 A JP H0488018A
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polyphenylene ether
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JP20137990A
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English (en)
Inventor
Akihiro Kanayama
明弘 金山
Sumio Ueda
上田 純生
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規なポリフェニレンエーテル樹脂とその組
成物、及びその製法に関する。
更に詳しくは、本発明は、ポリフェニレンエーテル樹脂
を構成するポリフェニレンエーテル鎖が全体として6−
クロマン末端基などの環化末端基及びエステル化末端基
を特定量有し、加工時及び使用時の熱酸化劣化が抑制さ
れる新規なポリフェニレンエーテル樹脂及びその製法に
関する。
また、本発明は、そのポリフェニレンエーテル樹脂とポ
リスチレン系樹脂を含有する組成物に関する。
(従来の技術および課題) ポリフェニレンエーテルは、機械特性、電気特性、耐熱
性等に優れ、熱可塑性成形材料として広く用いられてい
る。しかし、これらの長所と共に熱酸化劣化を受けやす
いという欠点を併せ持つために、熱酸化劣化を受けやす
い用途に対しては使用が制限されるという問題点がある
。この問題を回避するために、アミンや有機リン化合物
などの種々の安定剤を組合せて用いる提案が多数なされ
ている。 これとは別にポリフェニレンエーテル自体を
改質する方法も開示されている。例えば、特公昭49−
17679号公報、特公昭49−48197号公報、特
公昭53−12556号公報等は、ポリフェニレンエー
テルのフェノール性末端基をエステル化やエーテル化等
の方法で封鎖することによって、耐熱酸化劣化性を改良
したものである。 しかし、これらの方法によって改質
されたポリフェニレンエーテル樹脂は、キャスト成形に
よって作成したフィルムでは、成る程度の安走化効果が
認められるものの、溶融成形した試験片やフィルムで評
価すると、充分な安定化効果が認められないといった問
題点がある。
これは、例えば、工業的に極めて重要なポリ〔オキシ(
2,6−シメチルー1.4−フェニレン)〕の場合、溶
融成形の熱により(f1式で表される部分構造が生成し
、これが、封鎖されていないフェノール性末端基と同様
に熱酸化劣化の原因になるためと推定されている。
これを改善する方法として、サリチル酸エステル等の水
酸基の封鎖剤を溶融時に共存させる方法が最近提案され
ている(米国特許第4.760118号明細書、特開昭
63−295632号報)。
この方法では、一般式(g); に示すように、一般式(f)の水酸基が封鎖され、ある
程度の改善は達成されるものの、2個のヘンゼン環の間
に存在して該ヘンゼン環により活性化された極めて酸化
されやすいメチレン基がそのまま残ってしまうために、
耐熱酸化性は依然不十分である。加えて、この方法では
、ポリフェニレンエーテル樹脂を可塑化してしまう種々
の副生物が副生され、溶融成形物はその中に残る副生物
及び未反応の封鎖剤のために、可塑化されてしまう。
この副生物及び未反応物を除くには、樹脂を溶解、再沈
澱処理しなければならないという新たな問題が生ずる。
(課題を解決するだめの手段) このような状況にあって、本発明者等は鋭意研究した結
果、ポリフェニレンエーテル樹脂の末端構造を、いわゆ
る6−クロマン骨格とし、環化した場合、驚(べきこと
にポリフェニレンエーテル樹脂は溶融成形時の安定性が
極めて高く、熱酸化劣化の原因となる前記(f)式に代
表される一般式(h)(式中、R’−R’は、それぞれ
独立に、水素、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン
基、アリール基又は置換アリール基である。) で表される部分構造がポリフェニレンエーテル鎖中に殆
ど生成しないということを発見した。
本発明において、「6−クロマン骨格又は基」の用語は
、非置換または置換された6−クロマンを意味する。
更に、6−クロマン環化していないフェノール性末端基
をエステル化することで、一定量以下にコントロールし
たポリフェニレンエーテル樹脂ハ、溶融成形後の熱酸化
劣化に対しても著しい安定化効果を示すことを見出し、
本発明を完成した。
従って、本発明の1つの目的は、熱酸化劣化に対して高
耐性を有する安定化ポリフェニレンエーテル樹脂を提供
することにある。
また、本発明のもう1つの目的は、上記の特性を有する
ポリフェニレンエーテル樹脂の容易に実施し得る製造方
法を提供することにある。
更にまた、本発明の他の1つの目的は、耐熱酸化劣化性
のみならず、成形性に優れた、上記ポリフェニレンエー
テル樹脂とポリスチレン系樹脂とを含有した組成物を提
供することにある。
すなわち、本発明は; ■ −形式(alで表される末端基及び一般式(b)で
表される末端基を、樹脂を構成するフェニレンエーテル
ユニットの100個に対してそれぞれ平均0.05個以
上含有し、一般式(C)で表される末端基を樹脂を構成
するフェニレンエーテルニー’−7トの100個に対し
て平均0.50個以下含有し、数平均分子量が1,00
0〜100.000の範囲にあることを特徴とする、ポ
リフェニレンエーテル樹脂である。
(式中、R1−R5ば、夫々独立に、水素、アルキル基
、置換アルキル基、ハロゲン基、アリール基又は置換ア
リール基であり、R6−R7は、夫々独立に水素、アル
キル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニ
ル基、ハ1コゲン基、アリール基、置換アリール基、水
酸基、アルコキシ基、N−ラクタム基、カルボン酸基、
カルボン酸無水物基、カルボン酸エステル基、カルボン
酸アミド基、ニトリル基、アシロキシ基又はアシル基で
ある。
なお、R6とR7、R6とR1は、夫々独立に結合して
スピロ環状構造のリングを形成していてもよい。
また、Xは、式1i1,000までのエステル基を表す
。) また、■ 前記のポリフェニレンエーテル樹脂1〜99
重量部とポリスチレン系樹脂99〜1重量部とを含有す
る樹脂組成物である。
また、■ 一般式(+))で表される末端基と一般式(
dlで表される末端基とを、樹脂を構成するフェニレン
エーテルユニットの100個に対してそれぞれ平均0.
05個以上含有し、一般式(C)で表される末端基を樹
脂を構成するフェニレンエーテルユニットの100個に
対して平均0.50個以下含有し、数平均分子量が1.
000〜100,000の範囲にあるポリフェニレンエ
ーテル樹脂と、一般式(e)で表される炭素−炭素二重
結合を有する化合物とをラジカル発生剤無添加の状態で
、ポリフエニレンエーテルのガラス転移温度以上の温度
まで加熱する、前記のポリフ ェニレンエーテル樹脂の製造方法である。
(式中、R4゜、RI+は、夫々独立に、水素、アルキ
ル基、置換アルキル基を表すが、同時に水素であること
はない。) (式中、R6−R7は、式(alで定義したものと同じ
である。) また、■ 一般式(C)で表される末端基を樹脂を構成
するフェニレンエーテルユニットの100個に対して平
均0.05個以上0.50個以下含有し、一般式(d)
で表される末端基を樹脂を構成するフェニレンエーテル
ユニットの100個に対して平均0.05個以上含有し
、数平均分子量が1000〜100,000の範囲にあ
るポリフェニレンエーテル樹脂と、 一般式(e)で表される炭素−炭素二重結合を有する化
合物と、エステル化剤と、必要に応じて触媒を、ラジカ
ル発生剤無添加の状態で、ポリフェニレンエーテルのガ
ラス転移温度以上の温度まで加熱する、前記のポリフェ
ニレンエーテル樹脂の製造方法である。
本発明の安定化ポリフェニレンエーテル樹脂においては
、一般式(a)で表される末端基及び一般式(b)で表
される末端基を、樹脂を構成するフェニレンエーテルユ
ニットの100個に対して、それぞれ平均0.05以上
含有し、一般式(C)で表されるフェノール性水酸sが
フェニレンエーテルユニットの100個に対して0.0
5個以下である必要がある。一般式(a)で表される末
端基及び一般式(b)で表される末端基が、これより少
ないと充分な成形安定性が得られず、一般式(C)で表
されるフ工A ノール性末端基がこれより多いと充分な耐熱酸化劣化性
が得られない。
エンジニアリング樹脂として用いる程度の数平均分子N
(約10,000〜50.000)の場合、環化末端基
及びエステル化末端基は合計でフェニレンエーテルユニ
ットの100個に対シて0.15個以上が好ましい。更
に好ましくは、平均0.2個以上である。また、フェノ
ール性末端基はフェニレンエーテルユニットの100個
に対して0.2個以下が好ましい。更に好ましくは、平
均0.10個以下である。その下限は特になく、少なけ
れば少ないほど耐熱酸化劣化の点で好ましい。なお、環
化末端基とエステル化末端基の比率は特に限定されない
が、環化末端基が多い方が耐加水分解性などの点で好ま
しい。
本発明のポリフェニレンエーテル樹脂は、その末端基を
除き、繰返し単位として一般にで表されるフェニレンエ
ーテルユニットを含有するものと定義され、特に限定は
ない。その代表的な例は、下記式(i); (式中、R5−R6は、夫々独立に、水素、アルキル基
、置換アルキル基、ハロゲン基、アリール基又は置換ア
リール基から選ばれる。)で示されるフェニレンエーテ
ルユニットの少なくとも1種から構成され、更に、後述
の式(j)、((イ)、(1)のモノマーユニ・ノド等
を含んでもよい。
R1−R5の前記定義において、アルキル基は炭素数1
〜20、好ましくは炭素数1〜10のアルキルである。
置換アルキルの置換基としては、フッ素、塩素、臭素な
どのハロゲン;ヒドロキシル基;アミノ基;低級アルコ
キシ基を挙げることができる。アリールは炭素数6〜2
0のアリールである。置換子り−ルの置換基としては、
低級アルキル基;フッ素、塩素、臭素などのハロゲン;
ヒドロキシル基;アミノ基;低級アルコキシ基を挙げる
ことができる。
本発明のポリフェニレンエーテル樹脂の基本骨格として
のポリフェニレンエーテル重合体を工業的に有利なフェ
ノール類の酸化カップリング重合で製造する場合には、
R,はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−
ブチルなどの低級アルキル基またはフェニル、ナフチル
などが好ましく、R2−R1は水素または低級アルキル
基が好ましい。最も好ましい組合せとしては、R1がメ
チル基またはフェニル基であり且つR2−R1が水素の
場合、R3とR2がメチル基であり且つR3−R5が水
素の場合である。特に、R1がメチル基であり、R2−
R5が水素であって、このフェニレンエーテルユニット
が全ユニットに対して90〜100%であることが好ま
しい。
これらの条件を満たす最も好ましいRI””’ Rsを
有するフェニレンエーテルユニットに対応スるモノマー
としては、(i)26−シメチルフエノール、(ii)
2−メチル−6−フェニルフェノール、(iii) 2
. 3. 6−)リメチルフェノール等が挙げられる。
モノマー(1)又はモノマー(ii)のホモポリマー、
或いはモノマー(i)とモノマー(11)及び/又はモ
ノマー(iii )とのコポリマーが本発明の樹脂基本
骨格としてのポリフェニレンエーテル重合体として好ま
しく用いられる。
また、本発明のポリフェニレンエーテル樹脂中には、熱
安定性を改善するという趣旨に反しない限り、従来ポリ
フェニレンエーテル樹脂中に存在させてもよいことが提
案されている他の種々のフェニレンエーテルユニットを
部分構造として含んでもかまわない。少量共存させるこ
とが提案されているものの例としては、特願昭63−1
2698号及び特開昭63−301222号公報に記載
されている、2−(ジアルキルアミノメチル)6−メチ
ルフェニレンエーテルユニット(j)ヤ、2(N−アル
キル−N−フェニルアミノメチル)6−メチルフェニレ
ンエーテルユニット(k)等fJ< 挙げられる。
ような多価エーテルユニットを含ませることは可能であ
る。
(式中、R,R’ は夫々独立ニ(c+ ”C2o)ア
ルキル基、(01〜Czo)ヒドロキシアルキルL  
(C2〜C2□)アルコキシルアルキル、(03〜C2
□)アシロキシアルキル基又は(04〜C)ポリアルキ
レンエーテル基である。)(式中、Rは(C+ 〜Cz
 o )アルキル基、(c+〜C2o)ヒドロキシアル
ギル基、(02〜c2□)アルコキシアルキル基、(0
3〜c2□)アシロキシアルキル基又は(C4〜C2o
)ポリアルキレンエーテル基である。) また、ポリフェニレンエーテル鎖1分子当たり1個以上
の6−クロマン末端基(a)などの末端基を存在させる
ためには、例えば−形式(])で示される本発明のポリ
フェニレンエーテル樹脂の分子量としては、数平均分子
量で1.000〜100000である。その好ましい範
囲は、約6.000〜60,000である。特に、エン
ジニアリング樹脂の用途として好ましいのは、約LO,
OOO〜30,000のものである。なお、本発明の数
平均分子量は、ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ーにより、標準ポリスチレンの検量線を用いて求めたポ
リスチレン換算の数平均分子量である。
前述したように、本発明においては、全体として一般式
(a)で表される6−クロマン末端基などの環化末端基
を樹脂中のフェニレンエーテルユニットの100個に対
して平均0.05個以上含むことが必要である。
この環化末端基(a)について詳述する。
(a)弐において、R8−R9は、それぞれ水素、アル
キル基、置換アルキル基、ハロゲン基、アリール基、置
換アリール基である。
R6−R7は、夫々独立に、水素、アルキル基、置換ア
ルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、ハロゲン
基、アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、N−
ラクタム基、カルボン酸基、カルボン酸無水物基、カル
ボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、ニトリル基、
アシル基またはアシロキシ基である。なお、R1、R7
、R8及びR7は夫々独立に、その末端がフリーである
が或いはR6とR7、R8とR9は夫々独立に結合して
スピロ環状構造のようなリングを形成していてもよい。
R6−R7の定義において、アルキル基は炭素数1〜2
0、好ましくは1〜10のアルキルであり、更に好まし
くは低級アルキルである。置換アルキルの置換基として
は、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン;ヒドロキシル
基、アミノ基;低級アルコキシ基などを挙げることがで
きる。アルケニルは、エチレニル、3−プロペニルのヨ
ウな低級アルケニルが好ましい。置換アルケニルの代表
例は、1−ヒドロキシ−3−プロペニルでアル。
アリールは炭素6〜20のアリールである。置換アリー
ルの置換基としては、低級アルキル基;低級アルコギシ
基;フッ素、塩素、臭素などのハロゲン;ヒドロキシル
基;アミノ基;アミツメデル基のようなアミノアルキル
基を挙げることができる。アリール基は、広義の芳香環
基の意味であり、狭義のアリールに加えてピリジル基、
トリアジル基などの複素芳香環基も含まれる。N−ラク
タムの代表例は、N−2−ピロリドニル、N−εカプロ
ラフタモイルなどである。カルボン酸アミドの代表例と
しては、カルバモイル、フェニルカルバモイル、セリル
などが挙げられる。カルボン酸無水物の好ましい例は、
アセトキシカルボニル、ヘンゾイロキシ力ルボニルであ
る。カルボン酸エステルの代表例には、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、アリロキシカルボニルなど
がある。アシル基の代表例はアセチル、ヘンジイルなど
があり、アシロキシの好ましい例は、アセトキシ、ヘン
ゾイロキシなどである。
R6−R7は、その2〜3個が、特に3個が水素である
ことが安定性の面で好ましい。この際、他の基は、アリ
ール基、置換アリール基、カルボン酸基、カルボン酸無
水物基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミF基、
ニトリル基、N−ラクタム栽から選ぶことが好ましい。
特に、R8及びR7の少なくとも1つがアリール基又は
置換アリール基である場合が、熱酸化劣化に対する安定
性と後述する製法の観点から好ましい。
R6−R7の定義におけるアリールまたは置換アリール
基の代表例としては、フェニル、トリル、クロロフェニ
ル、ナフチル、4−ピリジル、3゜5−ジアミノ−(s
)−4リアジル基等である。
チル、硫酸エステル、亜硫酸エステル、リン酸エステル
、亜リン酸エステル等を含む。これらのエステルでポリ
フェニレンエーテルのフェノール末端を封鎖する方法は
、多数知られている。(例えば、特公昭41−4277
号公報には、カルボン酸エステル化による封鎖方法が記
載されており、特公昭49−48197号公報には、リ
ン酸エステル化及び炭酸エステル化による封鎖方法が記
載されており、特公昭46−8991号公報には、硫酸
エステル化による封鎖方法が記載されている。
これらの方法で生成するエステル化末端基はいずれも本
発明に用いることができる。
具体的には、以下の(n1〜(S)式で表される末端基
の1個又は2個以上を組合せて用いることができる。
エステル化末端基(b)について詳述する。
本発明におけるエステル化末端基は広義のエステルであ
り、カルボン酸エステルの他、炭酸ニス本発明のポリフ
ェニレンエーテル樹脂の製造方法は特に限定されるもの
ではないが、以下の方法で好適に製造することができる
第一の方法は、一般式(b)で表される末端基と一般式
(d)で表される末端基とを、樹脂を構成するフェニレ
ンエーテルユニットの100個に対してそれぞれ平均0
.05個以上を有し、一般式(C)で表される末端基を
樹脂を構成するフェニレンエーテルユニットの100個
に対して平均0. 50(flit以下含有し、数平均
分子量がi、ooo〜100000の範囲にあるポリフ
ェニレンエーテル樹脂と、一般式(elで表される炭素
−炭素二重結合を有する化合物とをラジカル発生剤無添
加の状態でポIJ フェニレンエーテルのガラス転移温
度以上の温度まで加熱する方法である。
この場合の原料ポリフェニレンエーテル樹脂は、−形式
(C)で表される末端基を樹脂を構成するフェニレンエ
ーテルユニットの100個に対して平均0.05個以上
0.50個以下含有し、一般式(d)で表される末端基
を樹脂を構成するフエニレンエーテルユニットの100
個に対して平均0,05個以上含有し、数平均分子量が
1,000〜1oo、oooの範囲にあるポリフェニレ
ンエーテル樹脂を予め公知のいずれかの方法でエステル
化して調製する。
第二の方法は、一般式(C)で表される末端基を樹脂を
構成するフェニレンエーテルユニットの100個に対し
て平均0.05個以−ヒ0.50個以下含有し、一般式
(d)で表される末端基を樹脂を構成するフェニレンエ
ーテルユニットの100個に対して平均0.05個以上
含有し、数平均分子量が1.000〜100.’000
の範囲にあるポリフェニレンエーテル樹脂と、一般式(
e)で表される炭素−炭素二重結合を有する化合物と、
エステル化剤と、必要に応して触媒とを、ラジカル発生
剤無添加の状態で、ポリフェニレンエーテルのガラス転
移温度以上の温度まで加熱する方法である。
この場合、エステル化剤と触媒は、前述のとおり、フェ
ノール性水酸基をエステル化することが知られている任
意のものが用い得る。なかでも、カルボン酸無水物と塩
基性物質の組合せが好ましい。なお、驚くべきことに、
特定の炭素−炭素重結合を有する化合物とエステル化剤
の組合せでは、特に触媒を配合しなくとも高収率でエス
テル化が進行することが判明したので、触媒は必ずしも
必要でない。
不飽和化合物(e)の好ましい具体例としては、スチレ
ン、α−メチルスチレン、クロルスチレン、メチルスチ
レン、スチルヘン、ケイ皮アルコール、ベンザルアセト
ン、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸ニトリル、4−ビニルピ
リジン、2−ビニル−35−ジアミノ−(S)−トリア
ジン等が挙げられる。また、不飽和化合物(d)として
、芳香環を含まないものを用いることもできる。そのよ
うな不飽和化合物(e)の具体例としては、アクリル酸
;アクリル酸のメチル、エチル、プロピル、ブチル、イ
ソブチル、t−ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル
、イソデシル、ラウリル、ラウリル−トリデシル、トリ
デシル、セチル−ステアリル、ステアリル、シクロヘキ
シル、ヘンシルエステル等のアクリル酸エステル類;ア
クリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸;メタ
クリル酸のメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブ
チル、tブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、イソ
デシル、ラウリル、ラウリル−トリデシル、トリデシル
、セチル−ステアリル、ステアリル、シクロヘキシル、
ヘンシルエステル等のメタクリル酸エステル類;メタリ
ルアミド、メタクリロニトリル、イタコン酸;イタコン
酸のジメチル、ジエチル ジプチル、ジ2−エチルヘキ
シル、ジノリル、ジオクチルエステル等のイタコン酸ジ
エステル頻;イタコン酸のモノメチル、モノエチル、モ
ノブチル、モノ2−エチルヘキシル、モノノリル、モノ
オクチルエステル等のイタコン酸のモノエステル類;イ
タコン酸無水物;N−ビニルピロリドン等のN−ビニル
化合物;ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類等
が挙げられる。
本発明のポリフェニレンエーテル樹脂は、ポリスチレン
系樹脂と高い相溶性を有し、これらとブレンドすると耐
熱酸化劣化性が改良された成形性の良好な樹脂組成物が
得られる。
すなわち、本発明によれば、本発明の安定化ポリフェニ
レンエーテル樹脂1〜99重量部とポリスチレン系樹脂
99〜1重量部とを含有する樹脂組成物が提供される。
このポリスチレン系樹脂としては、一般に、ポリフェニ
レンエーテル樹脂とともに通常用いられるものであって
、当業界においてよ(知られているものを用いることが
できる。例えば、スチレンの単独重合体の他、相溶性を
損なわない範囲で他のエチレン性不飽和モノマーとの共
重合体が挙げられる。
具体的なコモノマーの例としては、α−メチルスチレン
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸
エステル類、メタクリル酸エステル類、無水マレイン酸
、N−アルキルマレイミド類、N−アリールマレイミド
類、ビニルオキサプリン等がある。
更に、ポリスチレン系重合体であってゴム状弾外体を含
有するものをブレンドして用いれば、ポリフェニレンエ
ーテル樹脂の別の短所である耐衝撃性の低さも改善され
る。具体的には、耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、
ABS樹脂等である。
また、スチレン−ブタジェン系ブロンクコポリマー、ス
チレン−イソプレン系ブロックコポリマー等も含まれる
。この場合にも、従来の同様な組成物に比べて熱酸化劣
化に対する安定性の著しく改善された組成物を得ること
ができる。
ゴム分として不飽和結合の一部または全部が水素添加さ
れたものを用いると、−層顕著な効果が認められる。ま
た、これらのスチレン−ブタジェン系ブロックコポリマ
ー、スチレン−イソプレン系ブロックコポリマー及びそ
れらの水素添加物を無水マレイン酸等で変性したものも
用い得る。
これらのゴム状ブロック共重合体は架橋粒子状のものも
用い得る。
本発明の安定化されたポリフェニレンエーテル樹脂は、
ポリスチレン系樹脂といかなる量比でブレンドしてもよ
(、前者が1〜99重量部でもよい。好ましくは99〜
50重量部である。
また、ポリスチレン系樹脂との組成物化は、本発明の安
定化ポリフェニレンエーテル樹脂を製造する際、又は製
造後に行ってもよい。例えば、末端基(a)〜(C)及
び/または(d)を有するポリフェニレンエーテル系重
合体、ポリスチレン樹脂及び(e)式の不飽和化合物を
トライブレンドした後、ロールミル、二軸押出機等で溶
融混練することにより目的の組成物を得ることができる
本発明のポリフェニレンエーテル樹脂またはそれを含む
組成物には、この他にガラス繊維等の無機フィラー、各
種の安定剤、可塑剤、難燃剤、顔料等を公知の方法に従
い適宜添加して用いることができる。
(実施例) 以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの例によって限定されるものではない。
なお、各測定は以下の条件によって行った。
■ ポリマーの粘度は、0.5%クロロホルム溶液を3
0°Cの条件下でウベローデ粘度管を用いて測定し、η
s p / cで表した。
■ Δη/ηは、溶融成形前後のηSp/cの差を成形
前のηSp/cで除した値で、溶融成形時の粘度変化の
指標である。
■ I)l−核磁気共鳴スペクトルは日本電子■製のG
X−270及びGX−400でCDCl、lを溶媒とし
て測定し、テトラメチルシランを基準として用いた。
■ 赤外線吸収スペクトルは、日本分光■製のFT/I
R−7000を用いてフィルムを透過法で測定した。
■ ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(以下G
PC)は、東洋曹達工業■製HL−802RTSで測定
し、標準ポリスチレンで較正した。
■ ポリマー中の遊離のフェノール性OH基は、EHU
D  5HCHORI等の方法〔ジャーナル・オブ・ア
プライド・ポリマー・サイエンス;アプライド・ポリマ
ー・シンポジウム、34.103〜117頁、(197
8)に記載〕に従って測定した。
■ ポリマーの熱重量減少は、成形体をトルエンの5重
量%溶液として、同量のメタノールを加えて沈澱させ、
濾過、洗浄、乾燥して得たパウダーについて、空気中3
50°C160分の条件で測定し、減少量の重量%値で
表した。
■ ポリマーの耐熱酸化劣化性は、成形体を圧延法また
はクロロホルム溶液からのキャスト法によって作製した
フィルムを、150“Cまたは180°Cの空気循環式
恒温槽に7時間放置した後、赤外分光光度計で1695
cnr”の吸収の増分を測定し、相対値で表した。この
吸収は(1)式で表される主な繰り返し単位のメチル基
が、酸化されてできるアルデヒド基や、カルボキシル基
に対応し、酸化劣化の程度の指標となる。
■ アイゾツト衝撃強度は、ASTM  D256に従
ってノツチ付き試験片について測定した。
参考例I 原料のポリフェニレンエーテルは、特願昭62−775
70号に記載されている方法に従って、ジブチルアミン
の存在下に、2.6−キシレノールを酸化力・ンプリン
グ重合して製造した。
得られるポリフェニレンエーテルの粘度は0゜548で
あり、IH−核磁気共鳴スペクトルで分析した結果、(
IJ)式の末端基が、主な繰り返し単位(1)の100
個につき0.35個存在することが確認された。また、
遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返し単位(
1)の100個につき0.20個存在することが確認さ
れた。
参考例2 参考例1で得られたポリフェニレンエーテルの100重
量部を5重量%のトルエン溶液とし、1重量部の無水酢
酸と0.85重量部のピリジンを加えた。この溶液を1
0時間、40°Cに保った後、トルエンと同量のメタノ
ールを加えてポリマーを回収し、洗浄乾燥した。このポ
リマーを赤外線吸収スペクトルで分析した結果、に)式
の末端基構造が、主な繰り返し単位(1)の100個に
つき0.+8個存在することが1766■1付近の吸収
の面積値から確認された。また、遊離のフェノール性水
酸基の量は、主な繰り返し単位(1)の100個につき
0.03個存在することが確認された。また、粘度は0
.550、数平均分子量は25,000であった。
実施例1 参考例2で得られたポリフェニレンエーテル樹脂の10
0重量部にスチレン10重量部を添加してヘンシェルミ
キサーで均一にブレンドした後、30mmφの二軸押出
機中300°Cで溶融混練し、水槽を通してペレット化
した。このようにして得られたペレットをIH−核磁気
共鳴スペクトルで分析した結果、(ロ)式の末端基構造
が、主な繰り返し単位(1)の100個につき0.31
個生成していることが5.O2ppmのシグナルの面積
値から、また(f)式の転位構造が主な繰り返し単位(
1)の 100個につき0.03個生成している事が3
.86ppmのシグナルの面積値から確認された。また
、遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返し単位
(11)の100個につき0.12個存在しており、粘
度は0.552、分子量は25,500であった。
参考例3 参考例1で得られたポリフェニレンエーテルの100重
量部を5重量%のトルエン溶液とし、1重量部の安息香
酸塩化物と0.85重量部のトリエチルアミンを加えた
。この溶液を10時間80°C保った後、室温まで放冷
し、トルエンと同量のメタノールを加えてポリマーを回
収し、洗浄乾燥した。このポリマーをIH−核磁気共鳴
スペクトル及び赤外線吸収スペクトルで分析した結果、
(0)式の末端基構造が、主な繰り返し単位(1)の1
00個につき0.35個存在する事が8.22ppm付
近のシグナル及び、1740cm−’付近の吸収の面積
値から確認された。
また、遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返し
単位(1)の100個につき0.02個存在することが
確認された。また、粘度は0.547であった。
実施例2 参考例3で得たポリフェニレンエーテル樹脂を用いた以
外は実施例1と同様にして、ベレット及び試験片を得た
ベレットをI H−核磁気共鳴スペクトルで分析した結
果、(ロ)弐の末端基構造が、主な繰り返し単位に)の
100個につき0.26個生成していることが5.O2
ppm付近のシグナルの面積値から確認された。また、
げ)式の転位構造が主な繰り返し単位(1)の100個
につき0.03個生成していることが確認された。また
、遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返し単位
(1)の100個につき0.07個存在しており、粘度
は0.560、数平均分子量は26,500であった。
実施例3 参考例1のポリフェニレンエーテル100重量部に対し
て、スチレン10重量部及び無水酢酸0゜5重量部を加
えて、ヘンシェルミキザーでよく混合し、実施例1と同
様に押出、射出成形を行った。
ベレット分析した結果、(ロ)式の末端基構造は、主な
繰り返し単位(1)の100個につき0.26個生成し
ており、また、(f)式の転位構造は主な繰り返し単位
(tlの100個につき0.04個生成していた。また
、遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返し単位
(1)の100個につき0.09個存在しており、粘度
は0.558、数平均分子量は26.000であった。
比較例1 参考例1で得たポリフェニレンエーテルを単独で、実施
例1と同条件で押出し、ベレットを得た。
このベレットには、(f)弐の転位構造が主な繰り返し
単位(1)の100個に・つき0.48個生成していた
。また、遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返
し単位(t)の100個につき0.72個存在しており
、粘度は0.685、数平均分子量は36.500であ
った。
実施例1〜3及び比較例1のベレ・ントを射出成形して
試験片を得た。また、この試験片をクロロホルム溶液に
してキャストしてフィルムを得た。
試験片の分析結果評価結果及びキャストフィルムの18
0°C17時間エージングの結果を表−1に記す。
表1から明らかなように、実施例1の樹脂は射出成形時
の粘度、分子量、化学構造の変化が比較例の樹脂に比べ
て格段に少なく、優れた加工安定性を有するものである
ことが分かる。さらに、高温の空気に曝された時の劣化
も極めて少ない安定な樹脂である。
実施例4 実施例2で製造した安定化ポリフェニレンエーテル樹脂
ベレット75重量部と耐衝撃性ポリスチレン(旭化成工
業■製:商品名スタイロン492)25重量部をよく混
合し、二軸押出機で300°Cの条件で溶融ブレンドし
てベレクイズした。
得られたベレットを300 ’Cで3分間プレスして圧
延フィルムとした。得られたフィルムを150℃で7時
間熱暴露を行い、酸化劣化の進行度を1695cm−’
の吸収で調べた。また同じベレットを300℃で射出成
形して試験片を作成し、同じ条件で熱暴露を行い、アイ
ゾツト衝撃値の保持率を測定した。その結果は表−2に
記載する。
比較例2 比較例1で製造したポリフェニレンエーテル樹脂のペレ
ットを使用した以外は、実施例4と同様にして圧延フィ
ルム及び試験片を得た。得られたフィルムおよび試験片
を150 ’Cで7時間熱暴露を行ない、酸化劣化の進
行度よびアイゾツト衝撃値の保持率を調べた。その結果
は表−2に記載する。
表−2 参考例4 参考例1で得たポリフェニレンエーテルの100重量部
を5重量%のトルエン溶液とし、2重量部の塩化リン酸
ジェニルと0.62重量部のピリジンを加えた。この溶
液を10時間、40°Cに保った後、トルエンと同量の
メタノールを加えてポリマーを回収し、洗浄乾燥した。
このポリマーを’ H及び31pの各磁気共鳴スペクト
ルで分析した結果、(r1式の末端基が主な繰り返し単
位(1)の100個につき0.31個生成している事が
確認された。尚、末端基(Ll)は大部分未反応であっ
た。
遊離のフェノール性水酸基の量は、主な繰り返し単位(
11の100個につき0.05個であり、粘度は0.5
52であった。
実施例5 参考例4で得たポリフェニレンエーテル樹脂5gに対し
て0.5gのスチレンを含浸させ、320°Cで3分間
加熱圧縮成形した。得られた試験片を分析した結果、(
r)式及び(ロ)式の末端基が主な繰り返し単位(1)
の100個につき、それぞれ0. 28個及び0.22
個存在していることが確認された。遊離のフェノール性
水酸基の量は、主な繰り返し単位(1)の100個につ
き0.08個であり、粘度は0.556であった。
実施例6 実施例2で製造した安定化ポリフェニレンニーチル樹脂
97重量部とスチレン−ブタジェン−ブロック共重合体
の水素添加物(旭化成工業■製:商品名タフチックH−
1051)3重量部をよく混合し、二軸押出機で300
°Cの条件で熔融ブレンドしてペレタイズした。得られ
たベレットを330°Cで射出成形して試験片を作成し
、アイゾツト衝撃値さを測定したところ16 kg−c
+++/cmであった。
(発明の効果) 本発明の安定化ポリフェニレンエーテル樹脂は、従来の
ポリフェニレンエーテルに比べて可塑化等の問題を起こ
すことなく、溶融成形時の劣化および粘度上昇が大幅に
改善され、且つ耐熱酸化劣化が改善された成形物が容易
に成形できるという優れた特性を有する成形材料である
手続補正書 平成2年9月10目

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式(a)で表される末端基及び一般式(b)
    で表される末端基を、樹脂を構成するフェニレンエーテ
    ルユニットの100個に対してそれぞれ平均0.05個
    以上含有し、一般式(c)で表される末端基を樹脂を構
    成するフェニレンエーテルユニットの100個に対して
    平均0.50個以下含有し、数平均分子量が1,000
    〜100,000の範囲にあることを特徴とする、ポリ
    フェニレンエーテル樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(a) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(b) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(c) (式中、R_1〜R_5は、夫々独立に、水素、アルキ
    ル基、置換アルキル基、ハロゲン基、アリール基又は置
    換アリール基であり、R_6〜R_9は、夫々独立に水
    素、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換
    アルケニル基、ハロゲン基、アリール基、置換アリール
    基、水酸基、アルコキシ基、N−ラクタム基、カルボン
    酸基、カルボン酸無水物基、カルボン酸エステル基、カ
    ルボン酸アミド基、ニトリル基、アシロキシ基又はアシ
    ル基である。 なお、R_6とR_7R_8とR_9は、夫々独立に結
    合してスピロ環状構造のリングを形成していてもよい。 また、Xは、式量1,000までのエステル基を表す。 )
  2. (2)請求項(1)記載のポリフェニレンエーテル樹脂
    1〜99重量部とポリスチレン系樹脂99〜1重量部と
    を含有することを特徴とする、樹脂組成物。
  3. (3)一般式(b)で表される末端基と一般式(d)で
    表される末端基とを、樹脂を構成するフェニレンエーテ
    ルユニットの100個に対してそれぞれ平均0.05個
    以上含有し、一般式(c)で表される末端基を樹脂を構
    成するフェニレンエーテルユニットの100個に対して
    平均0.50個以下含有し、数平均分子量が1,000
    〜100,000の範囲にあるポリフェニレンエーテル
    樹脂と、 一般式(e)で表される炭素−炭素二重結合を有する化
    合物とをラジカル発生剤無添加の状態で、ポリフェニレ
    ンエーテルのガラス転移温度以上の温度まで加熱するこ
    とを特徴とする、請求項(1)記載のポリフェニレンエ
    ーテル樹脂の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(d) (式中、R_1_0、R_1_1は、夫々独立に、水素
    、アルキル基、置換アルキル基を表すが、同時に水素で
    あることはない。) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(e) (式中、R_6〜R_9は、式(a)で定義したものと
    同じである。)
  4. (4)一般式(c)で示される末端基を樹脂を構成する
    フェニレンエーテルユニットの100個に対して平均0
    .05個以上0.50個以下含有し、一般式(d)で表
    される末端基を樹脂を構成するフェニレンエーテルユニ
    ットの100個に対して平均0.05個以上含有し、数
    平均分子量が1,000〜100,000の範囲にある
    ポリフェニレンエーテル樹脂と、 一般式(e)で表される炭素−炭素二重結合を有する化
    合物と、エステル化剤と、必要に応じて触媒を、ラジカ
    ル発生剤無添加の状態で、ポリフェニレンエーテルのガ
    ラス転移温度以上の温度まで加熱することを特徴とする
    、請求項(1)記載のポリフェニレンエーテル樹脂の製
    造方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002121377A (ja) * 2000-08-08 2002-04-23 Asahi Kasei Corp 耐衝撃性に優れた樹脂組成物及び成形体
JP2016176072A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 旭化成株式会社 光反射部品及び自動車ランプ反射部品
WO2017077683A1 (ja) * 2015-11-06 2017-05-11 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系難燃性樹脂組成物
WO2017119017A1 (ja) * 2016-01-08 2017-07-13 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル及び樹脂組成物
JP2018059090A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 旭化成株式会社 難燃性樹脂組成物
JP2018058982A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
JP2018058983A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
CN107915981A (zh) * 2016-10-05 2018-04-17 旭化成株式会社 层积成型体
JPWO2018066530A1 (ja) * 2016-10-04 2019-04-18 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
WO2022196340A1 (ja) * 2021-03-18 2022-09-22 東洋紡株式会社 ポリフェニレンエーテルペレット、及び、その製造方法
WO2025205641A1 (ja) * 2024-03-28 2025-10-02 東洋紡エムシー株式会社 ポリフェニレンエーテル溶融押出成形体及びその製造方法

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002121377A (ja) * 2000-08-08 2002-04-23 Asahi Kasei Corp 耐衝撃性に優れた樹脂組成物及び成形体
JP2016176072A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 旭化成株式会社 光反射部品及び自動車ランプ反射部品
US10696843B2 (en) 2015-11-06 2020-06-30 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Polyphenylene ether flame-retardant resin composition
CN108350267A (zh) * 2015-11-06 2018-07-31 旭化成株式会社 聚苯醚系阻燃性树脂组合物
WO2017077683A1 (ja) * 2015-11-06 2017-05-11 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系難燃性樹脂組成物
CN108431083B (zh) * 2016-01-08 2020-10-30 旭化成株式会社 聚苯醚和树脂组合物
WO2017119017A1 (ja) * 2016-01-08 2017-07-13 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル及び樹脂組成物
JPWO2017119017A1 (ja) * 2016-01-08 2018-08-02 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル及び樹脂組成物
CN108431083A (zh) * 2016-01-08 2018-08-21 旭化成株式会社 聚苯醚和树脂组合物
US10723840B2 (en) 2016-01-08 2020-07-28 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Polyphenylene ether and resin composition
JP2018059090A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 旭化成株式会社 難燃性樹脂組成物
JP2018058982A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
JP2018058983A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
JPWO2018066530A1 (ja) * 2016-10-04 2019-04-18 旭化成株式会社 ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
CN107915981A (zh) * 2016-10-05 2018-04-17 旭化成株式会社 层积成型体
CN107915981B (zh) * 2016-10-05 2020-11-24 旭化成株式会社 层积成型体
WO2022196340A1 (ja) * 2021-03-18 2022-09-22 東洋紡株式会社 ポリフェニレンエーテルペレット、及び、その製造方法
JPWO2022196340A1 (ja) * 2021-03-18 2022-09-22
WO2025205641A1 (ja) * 2024-03-28 2025-10-02 東洋紡エムシー株式会社 ポリフェニレンエーテル溶融押出成形体及びその製造方法

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