JPH0513976B2

JPH0513976B2 -

Info

Publication number: JPH0513976B2
Application number: JP62065797A
Authority: JP
Inventors: Hideo Kato; Hisashi Hamano; Kinji Hasegawa; Norihiro Nomi
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1987-03-23
Filing date: 1987-03-23
Publication date: 1993-02-23
Also published as: JPS63234038A

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］本発明は二軸配向ポリエステルフイルムに関
し、更に詳しく特定の球状シリカ微粒子を含有
し、耐削れ性に優れ、更に滑り性、耐クラツチ
性、加工時の作業性等の改善された二軸配向ポリ
エステルフイルムに関する。［従来技術］ポリスチレンテレフタレートフイルムに代表さ
れるポリエステルフイルムは、その優れた物理
的、化学的特性の故に、広い用途に用いられ、例
えば磁気テープ用、コンデンサー用、写真用、包
装用、OHP用等に用いられている。ポリエステルフイルムにおいてはその滑り性や
耐削れ性がフイルムの製造工程および各用途にお
ける加工工程の作業性の良否、さらにはその製品
品質の良否を左右する大きな要因となつている。
これらが不足すると、例えばポリエステルフイル
ム表面に磁性層を塗布し、磁気テープとして用い
る場合には、磁性層塗布時におけるコーテイング
ロールとフイルム表面との摩擦が激しく、またこ
れによるフイルム表面の摩擦も激しく、極端な場
合にはフイルム表面へのしわ、擦り傷等が発生す
る。また磁性層塗布後のフイルムをスリツトして
オーデイオ、ビデオまたはコンピユーター用テー
プ等に加工した後でも、リールやカセツト等から
の引き出し、巻き上げその他の操作の際に、多く
のガイド部、再生ヘツド等との間で摩擦が著しく
生じ、擦り傷、歪の発生、さらにはポリエステル
フイルム表面削れ等による白粉状物質を検出させ
る結果、磁気記録信号の欠落、即ちドロツプアウ
トの大きな原因となることが多い。一般にフイルムの滑り性の改良には、フイルム
表面凹凸を付与することによりガイドロール等と
の間の接触面積を減少せしめる方法が採用されて
おり、大別して(i)フイルム原料を用いる高分子の
接触残渣から不活性の微粒子を析出せしめる方法
と、(ii)不活性の無機微粒子を添加せしめる方法が
用いられている。これら原料高分子中の微粒子
は、その大きさが大きい程、滑り性の改良効果が
大であるのが一般的であるが、磁気テープ、特に
ビデオ用のごとき精密用途には、その粒子が大き
いこと自体がドロツプアウト等の欠点発生の原因
ともなり得るため、フイルム表面の凹凸は出来る
だけ微細である必要があり、これらを相反する特
性を同時に満足すべき要求がなされているのが現
状である。また、上記不活性微粒子を含有するポリエステ
ルからなるフイルムは、通常二軸延伸によつて該
微粒子とポリエステルの境界に剥離が生じ、該微
粒子の囲りにボイドが形成されている。このボイ
ドは、微粒子が大きいほど、形状が板状から粒状
もしくは塊状に近づくほど、また微粒子が単一粒
子で変形しにくいほど、そしてまた未延伸フイル
ムを延伸する際に延伸面積倍率、縦方向延伸倍率
が大きいほど、また低温で行うほど大きくなる。
このボイドは、大きくなればなる程突起の形状が
ゆるやかな形となり摩擦係数を高くすると共に繰
り返し使用時に生じた二軸配向ポリエステルフイ
ルムのボイド上の小さな傷（スクラツチ）によつ
ても粒子の脱落が起り、耐久性を低下させるとと
もに削れ粉発生の原因となつている。不活性微粒
子として炭酸カルシウム、酸化チタン、カオリン
等を添加することが従来から良く行なわれている
が、これら微粒子は大きなボイドを形成すること
から上述の問題を内在しており、この改善も望ま
れている。［発明の目的］本発明者は、これら不都合を解消し、不活性微
粒子周辺のボイドが小さく且つフイルム表面が適
度に粗れることによつてフイルムの滑り性と耐削
れ性が向上し、しかも各用途に適した表面性の二
軸配向ポリエステルフイルムを得るために鋭意検
討の結果、本発明に至つたものである。従つて、本発明の目的は、ボイドが小さく、フ
イルム表面の粗れが均一で表面凹凸がそろつてお
り、滑り性、耐削れ性、耐スクラツチ性及び加工
時における作業性に優れた二軸配向ホリエステル
フイルムを提供することにある。［発明の構成・効果］本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステ
ル中に平均粒径が0.3〜4μｍであり、粒径比（長
径／短径）が1.0〜1.2でありかつ下記式で表わさ
れる相対標準偏差が0.5以下である球状シリカ粒
子を１重量％より多く４重量％以下の割合で分散
含有させ、二軸配向フイルムが面積延伸倍率10倍
以上、縦方向の延伸倍率3.6倍以上で延伸配向さ
れていることを特徴とする二軸配向ポリエステル
フイルムによつて達成される。ここで Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ）：面積円相当径の平均値｛＝_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ｝（μｍ）ｎ：粒子の個数を表わす。ここで、球状シリカ粒子の長径、短径、面積円
相当径は、粒子表面に金薄膜層を蒸着したのち走
査型電子顕微鏡にて例えば１万〜３万倍に拡大し
た像から求め、平均粒径、粒径比を次式で求め
る。平均粒径＝測定粒子の面積円相当形の総和／測
定粒子数粒径比＝シリカ粒子の平均長径／該粒子の平均
短径本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカ
ルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪酸グリコール
を主たるグリコール成分とするポリエステルであ
る。かかるポリエステルは実質的に線状であり、
そしてフイルム形成性特に溶融成形によるフイル
ム形成性を有する。芳香族ジカルボン酸として
は、例えばテレフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、イソフタル酸、ジフエノキシエタンジカルボ
ン酸、ジフエニルジカルボン酸、ジフエニルエー
テルジカルボン酸、ジフエニルスルホンジカルボ
ン酸、ジフエニルケトンジカルボン酸、アンスラ
センジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪
酸グリコールとしては、例えばエチレングリコー
ル、トリメチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール、デカメチレグリコール等の如
き炭素数２〜10のポリメチレングリコールあるい
はシクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオ
ール等を挙げることができる。本発明において、ポリエステルとしては例えば
アルキレンテレフタレート及び／又はアルキレン
ナフタレートの主たる構成成分とするものが好ま
しく用いられる。かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレートはもちろんのこと、例えば全ジカルボ
ン酸成分の80モル％以上がテレフタル酸及び／又
は２，６−ナフタレンジカルボン酸であり、全グ
リコール成分の80モル％以上がエチレングリコー
ルである共重合体が好ましい。その際全酸成分の
20モル％以下はテレフタル酸及び／又は２，６−
ナフタレンジカルホン酸以外の上記芳香族ジカル
ボン酸であることができ、また例えばアジピン
酸、セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シ
クロヘキサン−１，４−ジカルボン酸の如き指環
族ジカルボン酸等であることができる。また、全
グリコール成分の20モル％以下は、エチレングリ
コール以外の上記グリコールであることができ、
あるいは例えばハイドロキノン、レゾルシン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパ
ン等の如き芳香族ジオール；１，４−ジヒドロキ
シメチルベンゼンの如き芳香環を含む脂肪族ジオ
ール；ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリテトラメチレングリコール等の
如きポリアルキレングリコール（ポリオキシアル
キレングリコール）等であることもできる。また、本発明で用いるポリエステルには、例え
ばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸；ω
−ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等
のオキシカルボン酸に由来する成分を、ジカルボ
ン酸成分およびオキシカルボン酸成分の総量に対
し20モル％以下で共重合或いは結合するものも包
含される。さらに本発明におけるポリエステルには、実質
的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し
２モル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン
酸又はポリヒドロキシ化合物、例えばトリメリツ
ト酸、ペンタエリンリトール等を共重合したもの
も包含される。上記ポリエステルは、それ自体公知であり、且
つそれ自体公知の方法で製造することができる。上記ポリエステルとしては、ｏ−クロロフエノ
ール中の溶液として35℃で測定して求めた固有粘
度が約0.4〜0.9のものが好ましい。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムはその
フイルム表面に多数の微細な突起を有している。
それらの多数の微細な突起は、本発明によればポ
リエステル中に分散して含有される多数の球状シ
リカ粒子に由来する。球状シリカ粒子を分散含有するポリエステル
は、通常ポリエステルを形成するための反応時、
例えばエステル交換法による場合のエステル交換
反応中あるいは重縮合反応中の任意の時期、又は
直接重合法による場合の任意の時期に、球状シリ
カ粒子（好ましくはグリコール中のスリラーとし
て）を反応系中に添加することにより製造するこ
とができる。好ましくは、重縮合反応の初期例え
ば固有粘度が約0.3に至るまでの間に、球状シリ
カ粒子を反応系中に添加するのが好ましい。本発明においてポリエステル中に分散含有させ
る球状シリカ粒子は平均粒径が0.3〜4μｍであり
かつは粒径比（長径／短径）が1.0〜1.2である球
状シリカ粒子である。この球状シリカ粒子は個々
の形状が極めて真球に近い球状であつて、従来か
ら滑剤として知られているシリカ粒子が10ｍμｍ
程度の超微細な塊状粒子か、これらが凝集して
0.5μｍ程度の凝集物（凝集粒子）を形成している
のとは著しく異なる点に特徴がある。球状シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは0.3
〜3μｍ、更に好ましくは0.3〜2μｍである。この平均粒径が4μｍ超えると、フイルム表面
が粗れすぎて好ましくない。また球状シリカ粒子
の粒径比は、好ましくは1.0〜1.15、更に好まし
くは1.0〜1.1である。また球状シリカ粒子は粒径分布がシヤープであ
ることが必要で、分布の急峻度を表わす相対標準
偏差が0.5以下であことが必要であり、更に好ま
しくは0.3以下、特に0.12以下であることが好ま
しい。この相対標準偏差は次式で表わされる。ここで、 Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ）：面積円相当径の平均値｛＝_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ｝（μｍ）ｎ：粒子の測定個数を表わす。相対標準偏差が0.5以下の球状シリカ粒子を用
いると、該粒子が球状で且つ粒度分布が極めて急
峻であることから、フイルム表面突起の高さが極
めて均一となり、同じ突起の数であつても従来の
ものに比して、滑り性が極めて良好となる。球状シリカ粒子は、上述の条件を満たせば、そ
の製法、その他に何ら限定されるものではない。例えば、球状シリカ粒子は、オルトケイ酸エチ
ル［Si（OC₂H₅）₄］の加水分解から含水シリカ
［Si（OH）₄］単分散球をつくり、更にこの含水シ
リカ単分解球を脱水化処理してシリカ結合［≡Si
−Ｏ−Si≡］を三次元的に成長させることで製造
できる。（日本化学会誌′81、No.９、Ｐ、1503）。 Si（OC₂H₅）₄＋4H₂O →Si（OH）₄＋4C₂H₅OH ≡Si−OH＋HO−Si≡ →≡Si−Ｏ−Si≡＋H₂O 本発明において球状シリカ粒子の添加量は、ポ
リエステルに対して１重量％より多く４重合％以
下とする必要があり、好ましくは１重量％より多
く３重量％以下、更に好ましくは１重量％より２
重量％以下である。添加量が４重量％を超えると
耐削れ性が低下し、好ましくない。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは従来
から蓄積された二軸配向フイルムの製造法に順じ
て製造できる。例えば、球状シリカ粒子を含有す
るポリエステルを溶融製膜して非晶質の未延伸フ
イルムとし、次いで該未延伸フイルムを二軸方向
に延伸し、熱固定し、必要であれば弛緩熱処理す
ることによつて製造される。その際、フイルム表
面特性は、球状シリカ粒子の粒径、量等によつ
て、また延伸条件によつて変化するので従来の延
伸条件から適宜選択する。また密度、熱収縮率等
も延伸、熱処理時の温度、倍率、速度等によつて
変化するので、これらの特性を同時に満足する条
件を定める。ただし、延伸倍率は縦方向（長手方
向）の延伸倍率が3.6倍以上でかつ面積倍率が10
倍以上となる範囲から選択する。この延伸倍率を
とることで、球状シリカ粒子のボイド低減の効果
がより顕著となる。例えば、延伸温度は１段目延
伸温度（例えば縦方向延伸温度：T₁）が（Tg−
10）〜（Tg＋45）℃の範囲（但し、Tg：ポリエ
ステルのガラス移転温度）から、２段目延伸温度
（例えば横方向延伸温度：T₂）が（T₁＋５）〜
（T₁＋40）℃の範囲から選択するとよい。延伸倍
率は、上述のように、縦方向の延伸倍率が3.6倍
以上でかつ面積倍率が10倍以上となる範囲から選
択する。更にまた、熱固定温度は180〜250℃、更
には200〜230℃の範囲から選択するとよい。本発明における二軸配向ポリエステルフイルム
は、従来のものに比してボイドの極めて小さいフ
イルムであるが、このボイドが小さい理由は、球
状シリカ粒子のポリエステルへの親和性の良さ
と、更に粒子そのものが極めて真球に近いことか
ら、延伸において滑剤周辺の応力が均等に伝播
し、ポリエステルと滑剤の界面の一部に応力が集
中しないことによると推測される。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、均
一の凹凸表面特性、すぐれた滑り性及び耐削れ性
を有し、すりきず、白粉等の発生量が著しく少な
く、また、加工時の作業性にすぐれるという特徴
を有する。この二軸配向ポリエステルフイルム
は、これらの特性を活かして各種の用途に広く用
いることができる。例えば、磁気記録用例えばビ
デオ用、オーデイオ用、コンピユーター用などの
ベースフイルムとして用いると、すぐた電磁交換
特性、滑り性、走行耐久性等が得られる。またコ
ンデンサー用途に用いると、低い摩擦係数、すぐ
れた巻回性、低いつぶれ荷重、高い透明性等が得
られる。上述のように、この二軸配向ポリエステ
ルフイルムは磁気記録媒体のベースフイルム特に
磁気テープのベースフイルムに用いるのが好まし
いが、これに限定されるものでなく、電気用途、
包装用途および蒸着用フイルム等の他の分野へも
広く適用する事が出来る。［実施例］以下、実施例を揚げて本発明を更に説明する。
なお本発明における種々の物性値および特性は以
下の如く測定されたものである。 (1) シリカ粒子の粒径粒子粒径の測定には次の状態がある。 (1) シリカ粉体から、平均粒径、粒径比等を求
める場合 (2) フイルム中のシリカ粒子の平均粒径、粒径
比等を求める場合。 (1) シリカ粉体からの場合：電顕試料台上にシリカ粉体を個々の粒子
ができるだけ重ならないように散在せし
め、金スパツター装置により、この表面に
金薄膜蒸着層を厚み200Å〜300Åで形成せ
しめ、走査型電子顕微鏡にて例えば10000
〜30000倍で観察し、日本レギユレーター
(株)製ルーゼツクス500にて少なくとも100個
の粒子の長径（Dli）、短径（Dsi）及び面
積円相当径（Di）を求める。そして、こ
れらの次式で表わされる数平均値をもつ
て、シリカ粒子の長径（Dl）、短径（Ds）、
平均粒径（）を表わす。
D1＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Dli）／ｎ， Ds＝_o 〓ⁱ⁼¹ Dsi／ｎ＝_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ (2) フイルム中のシリカ粒子の場合：試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用
試料台に固定し、日本電子(株)製スパツター
リング装置（JFC−1100型イオンスパツタ
ーリング装置）を用いてフイルム表面に下
記条件にてイオンエツチング処理を施す。
条件はベルジヤー内に試料を設置し、約
10^-3Torrの真空状態まで真空度を上げ、
電圧0.25KV、電流1.25ｍＡにて約10分間
イオンエツチングを実施する。更に同装置
にてフイルム表面に金スパツターを施し、
走査型電子顕微鏡にて例えば10000〜30000
倍で観察し、日本レギユレーター(株)製ルー
ゼツスク500にて少なくとも100個の粒子の
長径（Dli）、短径（Dsi）及び面積円相当
径（Di）を求める。以下、上記(1)と同様
に行なう。 (2) シリカ粒子以外の粒子の粒径比等 (1) 平均粒径島津製作所製CP−50型セントリフエグル
パーテイクルサイズアナライザー
（Centrifugal Particle Size Analyser）を
用いて測定し、得られた遠心沈降曲線を基に
算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、50マスパーセントに相当する粒径
を読み取り、この値を上記平均粒径とする
（Book「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、
1975年、頁242〜247参照）。 (2) 粒径比フイルム小片をエポキシ樹脂にて固定整形
し、ミクロトームにて約600Åの厚みの超薄
切片（フイルムの流れ方向に平行に切断す
る。）を作成する。この試料を透過型電子顕
微鏡（日立製作所製：Ｈ−800型）にてフイ
ルム中の滑剤（粒子）の断面形状を観察し、
滑剤の長軸と短軸の比で表わす。 (3) 相対標準偏差値シリカ粒子の場合と同様にて測定を行な
い、球状以外の粒子はフイルム厚み方向につ
いて粒子の粒径比から体積を算出し、等価球
としたときの直径をもつて粒径とし、相対標
準偏差値を算出する。 (3) フイルム表面粗さ（Ra）中心線平均粗さ（Ra）としてLIS−B0601で定
義される値であり、本発明では(株)小坂研究所の触
針式表面粗さ計（SURFCORDER SE−30C）を
用いて測定する。測定条件等は次の通りである。 (a) 触針先端半径：2μｍ (b) 測定圧力：30mg (c) カツトオフ：0.25mm (d) 測定長：0.5mm (e) データのまとめ方同一試料について５回繰返し測定し、最も
大きい値を１つ除き、残り４つのデーターの
平均値の小数点以下４桁目を四捨五入し、小
数点以下３桁目まで表示する。 (4) ボイド比上記(1)−(2)の方法に従つてフイルム中（表
面）の滑剤周辺を暴露し、少なくとも50個の固
体微粒子の長径とボイドの長径を測定し、次式ボイド比＝ボイドの長径／固体微粒子の
長径で求めるボイド比の数平均値で表わす。 (5) フイルムの摩擦係数（μk）温度20℃、湿度60％の環境で、巾1/2インチ
に裁断したフイルムを固定棒（表面粗さ0.3μ
ｍ）に角度θ＝（152／180）πラジアン（152゜）
で接触させて毎分200cmの速さで移動（摩擦）
させる。入口テンシヨンT₁が35ｇとなるよう
にテンシヨンコントローラーを調整した時の出
口テンシヨン（T₂：ｇ）をフイルムが90ｍ送
行したのちに出口テンシヨン検出機で検出し、
次式で走行摩擦係数μkを算出する。 μk＝（2.303／θ）log（T₂／T₁）＝0.868 log（T₂／35） (6) ダクトフアブリツク削れ性温度20℃、湿度60％の環境で、巾1/2インチ
に裁断したフイルムを、固定棒（角度60゜のコ
ーナーを持つ）上に巻付けたクリーニングテイ
シユ角度θ＝（10／180）πラジアンで接触させ
て毎分100ｍの速さで移動させる。入口テンシ
ヨンT₁が50grとなるようにテンシヨンコント
ローラーを調整しつつ、全長100ｍ走行させた
時点でのクリーニングテイシユに付着する汚れ
状態をもつて下記基準でベースフイルムの削れ
性を評価する。＜４段階判定＞ ◎：テイシユ上の汚れを全くなし ○：テイシユ上の汚れははとんどない ×：テイシユ上に汚れがうつすら見える。 ××：テイシユ上に汚れが線状に明確に見え
る。 (7) ヘーズ（曇り度） JIS−K674に準じ、日本精密光学社製積分球
式HTRメータによるフイルムのヘーズを求め
る。 (8) スクラツチ判定磁気コーテングテープ（1/2インチ巾）を上
記(3)の摩擦係数測定装置を用いて、テープのベ
ースフイルム面が固定棒に152゜の角度で接触す
る様にかけ、５cm／sec速度で20ｍ走行させ、
これを30回繰返した後の1/2インチ巾ベースフ
イルムの表面に入つたスクラツチの太さ、深
さ、数を総合して嗣の５段階で判定する。＜５段階判定＞ ◎1/2インチ巾ベースフイルムに全くクラツチ
が認められない ○1/2インチ巾ベースフイルムにほとんどスク
ラツチが認められない △1/2インチ巾ベースフイルムにスクラツチか
認められる（何本か） ×1/2インチ巾ベースフイルムに太いスクラツ
チが何本が認められる ××1/2インチ巾ベースフイルムに太く深いス
クラツチが多数全面に認められる (9) 静摩擦係数（フイルム／フイルム摩擦）重ね合せた２枚のフイルムの下側に固定した
ガラス板を置き、重ね合せたフイルム下側（ガ
ラス板と接しているフイルム）のフイルムを定
速ロールにて引取り（約10〜15cm／分）、上側
のフイルムの一端（下側フイルムの引取り方向
と逆端）に検出器を固定してフイルム／フイル
ム間の引張力を検出する。尚、その時に用いる
スレツドは重さ１〜５Kg、下面面積10〜100cm²
のものを使用する。比較例１ジメチルテレフタレートとエチレングリコール
とを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、
重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤とし
て亜隣酸を、更に滑剤として平均粒径1.2μｍ、粒
径比10.0のカオリンを用いて常法により重合し、
固有粘度（オルソクロロフエノール、35℃）0.62
のポリエチレンテレフタレートを得た。このポリエチレンテレフタレートのペレツトを
170℃、３時間乾燥後押出機ホツパーに供給し、
溶融温度280〜300℃で溶融し、この溶融ポリマー
を１mmのスリツト状ダイを通して表面仕上げ0.3S
程度、表面温度20℃の回転冷却ドラム上に押出
し、400μｍの未延伸フイルムを得た。このようにして得られた未延伸フイルムを75℃
にて予熱し、更に低速、高速のロールで15mm上方
より900℃の表面温度のIRヒーター１本にて加熱
して3.6倍に延伸し、急冷し、続いてステンター
に供給し105℃にて横方向に3.7倍に延伸した。得
られた二軸配向フイルムを205℃の温度で５秒間
熱固定し、厚み30μｍの熱固定二軸配向フイルム
を得た。得られたフイルムはボイド比1.7であり、且つ
カレンダーでは白粉が付着し、不満足なものであ
つた。更にこのフイルムの特性を第１表に示す。比較例２カオリンの代りに平均粒径0.8μｍ、粒径比1.5
の炭酸カルシウムを用いる以外は比較例１と同様
にして、ポリエチレンテレフタレートのペレツト
を得た。このペレツトを用いて、比較例１と同様にして
厚み30μｍの二軸配向フイルムを得た。このフイ
ルムはボイド比2.0であり、走行性は良いものの、
ダストフアブリツク処理にて白粉が発生した。更
にこのフイルムの特性を第１表に示す。比較例３カオリンの代りに平均粒径0.4μｍ、粒径比2.0
の酸化チタンを用いる以外は比較例と同様にして
ポリエチレンテレフタレートのペレツトを得た。このペレツトを用いて、比較例１と同様にして
厚み30μｍの二軸配向フイルムを得た。このフイ
ルムのボイド比は1.8であり、フイルム間摩擦が
高く、作業性が悪い。また走行性が悪く、Ｄ／Ｆ
処理工程や走行系で白粉が発生し、このままの状
態ではテープとして利用出来ないため裏面への易
滑層塗布処理を余儀なくされた。このフイルムの
特性を第１表に示す。

【表】実施例１〜５及び比較例４カオリンの代り第２表に示す平均粒径及び粒子
粒径比に調整されたシリカ微粒子を用いる以外は
比較例１と同様に行つてポリエチレンテレフタレ
ートのペレツトを得た。このペレツトを用いる以外は比較例１と同様に
行つて厚み30μｍの熱固定二軸配向ポリエステル
フイルムを得た。このフイルムの特性を第１表に
示す。実施例で得た二軸配向フイルムはいずれも優れ
た滑り性、耐スクラツチ性を示すとともにＤ／Ｆ
処理工程でも耐削れ性も極めて良好であり、更に
フイルム〜フイルム間摩擦も小さく、作業性も良
好でいずれも優れた品質のものであつた。一方、比較例４で示す様な、球状シリカの粒径
が4μｍを越える場合、ダストフアブリツク処理
で白粉が発生し耐削れ性が劣る。実施例６、７実施例１、２における延伸倍率を縦方向4.5倍、
横方向に3.6倍に変更する以外は実施例３、４と
同様に行つて、二軸配向ポリエステルフイルムを
得た。このフイルムの特性を第２表に示す。

【表】実施例８カオリンの代りに第３表に示すシリカ微粒子を
用いる以外は比較例１と同様に行つて二軸配向ポ
リエステルフイルムを得た。このフイルムは優れ
た滑り性，耐スクラツチ性，耐ダストフアブリツ
ク削れ性を示すが、とりわけフイルム〜フイルム
摩擦が箸しく小さく、作業性に優れたものであつ
た。これらの特性を第３表に示す。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１ポリエステル中に平均粒径が0.3〜4μｍであ
り、粒径比（長径／短径）が1.0〜1.2でありかつ
下記式で表わされる相対標準偏差が0.5以下であ
る球状シリカ粒子を１重量％より多く４重量％以
下の割合で分割含有させ、二軸配向フイルムが面
積延伸倍率10倍以上、縦方向の延伸倍率3.6倍以
上で延伸配向されていることを特徴とする二軸配
向ポリエステルフイルム。ここで Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ）：面積円相当径の平均値｛＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ｝（μｍ）ｎ：粒子の個数を表わす。