JPH0513978B2

JPH0513978B2 -

Info

Publication number: JPH0513978B2
Application number: JP62067973A
Authority: JP
Inventors: Kinji Hasegawa; Hisashi Hamano; Norihiro Nomi; Hideo Kato
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1987-03-24
Filing date: 1987-03-24
Publication date: 1993-02-23
Also published as: JPS63235337A

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］本発明は二軸配向ポリエステルフイルムに関
し、更に詳しく特定の球状シリカ微粒子とこれよ
り小さい粒径の他の不活性無機粒子を含有し、滑
り性耐スクラツチ性及び耐削れ性に優れた二軸配
向ポリエステルフイルムに関する。［従来技術］ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表さ
れるポリエステルフイルムは、その優れた物理
的、化学的特性の故に、広い用途に用いられ、例
えば磁気テープ用、コンデンサー用、写真用、包
装用、OHP用等に用いられている。ポリエステルフイルムにおいてはその滑り性や
耐削れ性がフイルムの製造工程および各用途にお
ける加工工程の作業性の良否、さらにはその製品
品質の良否を左右する大きな要因となつている。
これらが不足すると、例えばポリエステルフイル
ム表面に磁性層を塗布し、磁気テープとして用い
る場合には、磁性層塗布時におけるコーテイング
ロールとフイルム表面との摩擦が激しく、またこ
れによるフイルム表面の摩耗も激しく、極端な場
合はフイルム表面へのしわ、擦り傷等が発生す
る。また磁性層塗布後のフイルムをスリツトして
オーデイオ、ビデオまたはコンピユーター用テー
プ等に加工した後でも、リールやカセツト等から
の引き出し、巻き上げその他の操作の際に、多く
のガイド部、再生ヘツド等との間で摩耗が著しく
生じ、擦り傷、歪の発生、さらにはポリエステル
フイルム表面の削れ等による白粉状物質を析出さ
せる結果、磁気記録信号の欠落、即ちドロツプア
ウトの大きな原因となることが多い。一般にフイルムの滑り性の改良には、フイルム
表面に凹凸を付与することによりガイドロール等
との間の接触面積を減少せしめる方法が採用され
ており、大別して(i)フイルム原料を用いる高分子
の接触残渣から不活性の微粒子を析出せしめる方
法と、(ii)不活性の微粒子を添加せしめる方法が用
いられている。これら原料高分子中の微粒子は、
その大きさが大きい程、滑り性の改良効果が大で
あるのが一般的であるが、磁気テープ、特にビデ
オ用のごとき精密用途には、その粒子が大きいこ
と自体がドロツプアウト等の欠点発生の原因とも
なり得るため、フイルム表面の凹凸は出来るだけ
微細である必要があり、これら相反する特性を同
時に満足すべき要求がなされているのが現状であ
る。また、上記不活性微粒子を含有するポリエステ
ルからなるフイルムは、通常二軸延伸によつて該
微粒子とポリエステルの境界に剥離が生じ、該微
粒子の囲りにボイド形成されている。このボイド
は、微粒子が大きいほど、形状が板状から粒状も
しくは塊状に近づくほど、また微粒子が単一粒子
で変形しにくいほど、そしてまた未延伸フイルム
を延伸する際に延伸面積倍率が大きいほど、また
低温で行うほど大きくなる。このボイドは、大き
くなればなる程突起の形状がゆるやかな形となり
摩擦係数を高くすると共に繰り返し使用時に生じ
た二軸配向ポリエステルフイルムのボイド上の小
さな傷（スクラツチ）によつても粒子の脱落が起
り、耐久性を低下させるとともに削れ粉発生の原
因となつている。不活性微粒子として例えば炭酸
カルシウム、酸化チタン、カオリン等の１種また
は２種以上（大粒子と小粒子の組合せ）を添加す
ることが従来から良く行われている（特開昭51−
34272、52−78953、52−78954、53−41355、53−
71154号）が、これらの微粒子は大きなボイドを
形成することから上述の問題を内在しており、ま
た耐スクラツチ性に劣つたフイルムとなり、この
改善も望まれている。［発明の目的］本発明者は、これら不都合を解消し、不活性微
粒子周辺のボイドが小さく且つフイルム表面が適
度に粗れることによつてフイルムの滑り性と耐削
り性が向上し、しかも各用途に適した表面特性の
二時配向ポリエステルフイルムを得るために鋭意
検討の結果、本発明に至つたものである。従つて、本発明の目的は、ボイドが小さく、滑
り性、耐削れ性及び耐スクラツチ性に優れた二軸
配向ポリエステルフイルムを提供することにあ
る。［発明の構成・効果］本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステ
ル中に、第１成分として平均粒径が0.4〜3μｍで
あり、粒径比（長径／短径）が1.0〜1.2でありか
つ下記式で表わされる相対標準偏差が0.5以下で
ある球状シリカ粒子を0.005〜２重量％の割合で
含有し、かつ第２成分として平均粒径が第１成分
より小さいが0.05〜2.9μｍの範囲にある他の不活
性無機微粒子を0.5重量％より多く２重量％以下
の割合で含有することを特徴とする二軸配向ポリ
エステルフイルムによつて達成される。［ここで、 Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ）：面積円相当径の平均値｛＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ｝（μｍ）ｎ：粒子の個数を表わす。］ここで、球状シリカ粒子の長径、短径、面積円
相当径は粒子表面に金属を蒸着してのち電子顕微
鏡にて例えば１万〜３万倍に拡大した像から求
め、平均粒径、粒径比を次式で求める。平均粒径＝測定粒子の面積円相当径の総和／測
定粒子の数粒径比＝シリカ粒子の平均長径／該粒子の平均
短径本発明におけるポリエステルとは芳香族ジカル
ボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを
主たるグリコール成分とするポリエステルであ
る。かかるポリエステルは実質的に線状であり、
そしてフイルム形成性特に溶融成形によるフイル
ム形成性を有する。芳香族ジカルボン酸として
は、例えばテレフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、イソフタル酸、ジフエニルエンタンジカルボ
ン酸、ジフエニルジカルボン酸、ジフエニルエー
テルジカルボン酸、ジフエニルスルホンジカルボ
ン酸、ジフエニルケトンジカルボン酸、アンスラ
センジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪
族グリコールとしては、例えばエチレングリコー
ル、トリメチレングリコール、テトラメチレグリ
コール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール、デカメチレングリコール等の如
き炭素数２〜10のアルキレングリコール、ポリエ
チレングリコールあるいはシクロヘキサンジメタ
ノールの如き脂環族ジオール等を挙げることがで
きる。本発明において、ポリエステルとしては例えば
アルキレンテレフタレート及び／又はアルキレン
ナフタレートを主たる構成成分とするものが好ま
しく用いられる。かかるポリエステルのうちでも、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−
ナフタレートはもちろんのこと、例えば全ジカル
ボン酸成分の80モル％以上がテレフタル酸及び／
又は２，６−ナフタレンジカルボン酸であり、全
グリコール成分の80オル以上がエチレングリコー
ルである共重合体が好ましい。その際全酸成分の
20モル％以下はテレフタル酸及び／又はナフタレ
ンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸で
あることができ、また例えばアジピン酸、セバチ
ン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シクロヘキサ
ン−１，４−ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボ
ン酸等であることができる。また、全グリコール
成分の20モ％以下は、エチレングリコール以外の
上記グリコールであることができ、あるいは例え
ばハイドロキノン、レゾルシン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフエニル）プロパンの如は芳香
族ジオール；１，４−ジヒドロキシメチルベンゼ
ンの如き芳香環を含む脂肪族ジオール；ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコールの如きポリアルキレ
ングリコール（ポリオキシアルキレングリコー
ル）等であることもできる。また、本発明で用いるポリエステルには、例え
ばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸；ω
−ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等
のオキシカルボン酸に由来する成分を、ジカルボ
ン酸成分およびオキシカルボン酸性分の総量に対
し20モル％以下で共重合或は結合するものも包含
される。さらに本発明におけるポリエステルには実質的
に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し２
モル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン酸
又はポリヒドロキシ化合物、例えばトリメリツト
酸、ペンタエリンリトール等を共重合したものも
包含される。上記ポリエステルは、それ自体公知であり、且
つそれ自体公知の方法で製造することができる。上記ポリエステルとしては、ｏ−クロロフエノ
ール中の溶液として35℃で測定して求めた固有粘
度が約0.4〜約0.9のものが好ましい。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、そ
のフイルム表面に多数の微細な突起を有してい
る。それらの多数の微細な突起は本厚名によれば
ポリエステル中に分散して含有される多数の球状
シリカ粒子（第１成分）とこれより小粒形の他の
不活性無機微粒子（第２成分）に由来する。これら不活性粒子を分散含有するポリエステル
は、通常ポリエステルを形成するための反応時、
例えばエステル交換法による場合のエステル交換
反応中あるいは重縮合反応中の任意の時期、又は
直接重合法による場合の任意の時期に、球状シリ
カ粒子と他の不活性無機微粒子をそれぞれまたは
一緒に（好ましくはグリコール中のスラリーとし
て）反応系中に添加するとこにより製造すること
ができる。好ましくは、重縮合反応の初期例えば
固有粘度が約0.3に至るまでの間に、これら不活
性微粒子を反応系中に添加するのが好ましい。本発明のおいてポリエステル中に分散含有させ
る第成分としての球状シリカ粒子は平均粒径が
0.4〜3μｍでありかつ粒径比（長径／短径）が1.0
〜1.2であるシリカ粒子である。この球状シリカ
粒子は個々の形状が極めて真球に近い球状であつ
て、従来から滑剤として知られているシリカ粒子
が10ｍμ程度の超微細な塊状粒子か、これらが凝
集して0.5μｍ程度の凝集物（凝集粒子）を形成し
ているのとは著しく異なる点に特徴がある。球状
シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは0.5〜2.0μ
ｍ、更に好ましくは0.6〜1.5μｍである。この平
均粒径が0.4μｍ未満では滑り性や、耐削れ背、耐
スクラツチ性の向上効果が不充分であり、好まし
くない。また平均粒径が3μｍを越えると、フイ
ルム表面が粗れすぎて好ましくない。また球状シ
リカ粒子の粒径比は、好ましくは1.0〜1.15、更
に好ましくは1.0〜1.1である。また、球状シリカ粒子は粒径分布がシヤープで
あることが必要で、分布の急峻度を表わす相対標
準偏差が0.5以下であることが必要であり、0.3以
下、特に0.12以下であることが好ましい。この相
対標準偏差は次式で表わされる。ここで、 Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ）：面積円相当径の平均値｛＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ｝（μｍ）ｎ：粒子の測定個数を表わす。相対標準偏差が0.5以下の球状シリカ粒子を用
いると、該粒子が球状で且つ粒度分布が極めて急
峻であることから、フイルム表面の大突起いの高
さが極めて均一となり、更にフイルム表面の個々
の大突起は、滑剤周辺のボイドが小さいために、
突起形状が非常にシヤープであり、従つて、同じ
大突起の数であつても他の滑剤によるものに比し
て滑り性が極めて良好となる。球状シリカ粒子は、上述の条件を満たせば、そ
の製法その他に何ら限定されるものではない。例
えば、球状シリカ粒子は、オルトケイ酸エチル
［Si（OC₂H₅）₄］の加水分解から含水シリカ［Si
（OH）₄］単分散球をつくり、更にこの含水シリ
カ単分散球を脱水化処理してシリカ結合［≡Si−
Ｏ−Si≡］を三次元的に成長させることで製造で
きる（日本化学会誌、81、No.９、P.1503）。 Si（OC₂H₅）₄＋4H₂O →Si（OH）₄＋4C₂H₅OH ≡Si−OH＋HO−Si≡ →≡Si−Ｏ−Si≡＋H₂O 本発明において第１成分としての球状シリカ粒
子の添加量は、ポリエステルに対して0.005〜２
重量％の割合とする必要があり、好ましくは0.01
〜１重量％、更に好ましくは0.02〜0.5重量％で
ある。添加量が0.005重量％未満では、滑り性や
耐削れ性の向上効果が不充分となり、一方２重量
％を越えるとフイルムの切断が多発し、好ましく
ない。本発明においてポリエステル中に分散含有させ
る第２成分としての他の不活性無機微粒子は、平
均粒径が第１成分より小さいが0.05〜2.9μｍの範
囲にあるものであれば特に限定されない。この他
の不活性無機微粒子は、例えば炭酸カルシウム、
炭酸マグネシウム、カオリン、クレー、ベントナ
イト、酸化チタン、多孔質シリカ、硫酸バリウ
ム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、ホ
タル石、クロム酸バリウム、ガラスビーズ等が挙
げられる。これらは１種または２種以上を用いる
ことができる。かかる不活性無機微粒子の平均粒径は0.1〜
1.9μｍ更には0.1〜1.4μであることが好ましい。所
定の平均粒径の粒子を得るためには従来から知ら
れている粒子調整法を用いることができ、例えば
粉砕処理、分級操作等を施して所定の平均粒径、
粒度分布にすることが好ましい。本発明において第２成分としての不活性無機微
粒子の含有量は、ポリエステルに対して0.5重量
％より多く２重量％以下の割合とする必要があ
り、好ましくは0.5重量％より多く1.5重量％以
下、更に0.6重量％〜１重量％である。この含有
量が0.005重量％未満では滑り性や耐削れ性の向
上効果が不充分となり、一方２重量％越えるとフ
イルムの断絶が多発し、好ましくない。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは従来
から蓄積された二軸配向フイルムの製造法に順じ
製造される。例えば、球状シリカ粒子及び他の不
活性無機微粒子を含有するポリエステルを溶融製
膜して非晶質の未延伸フイルムとし、次いで該未
延伸フイルムを二軸方向に延伸し、熱固定し、必
要であれば弛緩熱処理することによつて製造され
る。その際、フイルム表面特性は、球状シリカ粒
子や他の不活性微粒子の粒径、量等によつて、ま
た延伸条件によつて変化するので従来の延伸条件
から適宜選択する。また密度、熱収縮率等も延
伸、熱処理時の温度、倍率、速度等によつて変化
するので、これらの特性を同時に満足する条件を
定める。例えば、延伸温度は１段目延伸温度（例
えば縦芳香延伸温度：T₁）が（Tg−10）〜（Tg
＋45）℃の範囲（但し、Tg：ポリエステルのガ
ラス転移温度）から、２段目延伸温度（例えば横
方向延伸温度：T₂）が（T₁＋５）〜（T₁＋40）
℃の範囲から選択するとよい。また、延伸倍率は
一軸方向の延伸倍率が2.5以上、特に３倍以上で
かつ面積倍率が８倍以上、特に10倍以上となる範
囲から選択するとよい。更にまた、熱固定温度は
180〜250℃、更には200〜230℃の範囲から選択す
るとよい。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは従来
のものに比してボイドの小さいフイルムである
が、特に球状シリカ粒子の周辺におけるボイドが
小さい特徴がある。この球状シリカ粒子周辺のボ
イドが小さい理由は球状シリカ粒子のポリエステ
ルへの親和性の良さと、更に粒子そのものが極め
て真球に近いことから、延伸において滑剤周辺の
応力が均等に伝播し、ポレエステルと滑剤の界面
の一部に応力が集中しないことによると推測され
る。本発明においては、その粒径分布が極めてシヤ
ープである球状シリカ粒子の添加によるポリエス
テルフイルムの表面に形成された大突起の分布は
極めて均一性が高く、突起の高さのそろつたポリ
エステルフイルムが得られる。そしてこのフイル
ムに不活性無機微粒子を更に含有させることによ
つて削れ性を保持したまま、滑り性をより一層向
上させることが可能となつている。本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、均
一な凹凸表面特性、すぐれた滑り性及び耐削れ性
を有し、すりきず、白粉等の発生量が著しく少な
いという特徴を有する。この二軸配向ポリエステ
ルフイルムはこれらの特徴を活かして各種の用途
に広く用いることができる。例えば、磁気記録用
例えばビデオ用、オーデイオ用、コンピユーター
用などのベースフイルムとして用いると、優れた
電磁変換特性、滑り性、走行耐久性等が得られ
る。またコンデンサー用途に用いると、低い摩擦
係数、すぐれた巻回性、低いつぶれ荷重、高い透
明性等が得られる。上述のように、この二軸配向
ポリエステルフイルムは磁気記録媒体のベースフ
イルム特に磁気テープのベースフイルムに用いる
のが好ましいが、これに限定されるものでなく、
電気用途、包装用途および蒸着用フイルム等の他
の分野へも広く適用する事が出来る。更に、二軸
配向ポリエステルはこの片面または両面に易接着
処理（例えば易接着層コーテイング、コロナ処理
等）の表面処理が施されていてもよく、また帯電
防止剤、紫外線吸収剤、着色剤などの第３成分を
含んでいてもよい。［実施例］以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。
なお本発明における種々の物性値および特性は以
下の如く測定されたものである。 (1) 球状シリカ粒子の粒径粒子粒径の測定には次の状態がある。１）粉体から、平均粒径、粒径比等を求める
場合２）フイルム中の平均粒径、粒径比等を求め
る場合。１）粉体からの場合電顕試料台上に粉体を個々の粒子ができるだ
け重らないように散在せしめ、金スパツター
装置により、この表面に金薄膜蒸着層を厚み
200Å〜300Åで形成せしめ、走査型電子顕微
鏡にて例えば10000〜30000倍で観察し、日本
レギユレーター(株)製ルーゼツクス500にて、
少なくとも100個の粒子の長径（Dli）、短径
（Dsi）及び面積円相当径（Di）を求める。
そして、これらの次式で表わされる数平均値
をもつて、シリカ粒子の長径（Dl）、短径
（Ds）、平均粒径（）を表わす。 Du＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Dli）／ｎ、 Ds＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Dsi）／ｎ＝_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ２）フイルム中の粒子の場合試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用試
料台に固定し、日本電子(株)製スパツターリン
グ装置（JFC−1100型イオンスパツターリン
グ装置）を用いてフイルム表面に下記条件に
てイオンエツチング処理を施す。条件はベル
ジヤー内に試料を設置し、約10^-3Torrの真
空状態まで真空度を上げ、電圧0.25KV、電
流1.25ｍＡにて約10分間イオンエツチングを
実施する。更に同装置にてフイルム表面に金
スパツターを施し、走査型電子顕微鏡にて例
えば10000〜30000倍で観察し、日本レギユレ
ーター(株)製ルーゼツスク500にて少なくとも
100個の粒子の長径（Dli）、短径（Dsi）及び
面積円相当径（Di）を求める。以下、上記
(1)と同様に行なう。 (2) シリカ粒子以外の無機粒子の粒径等１）平均粒径島津製作所製CP−50型セントリフユグル
パーテイクルサイズアナライザー
（Centrifugal Particls Size Analyser）を
用いて測定し、得られた遠心沈降曲線を基に
算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、50マスパーセントに相当する粒径
を読み取り、この値を上記平均粒径とする
（Book「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、
1975年、頁242〜247参照）。２）粒径比フイルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形
し、ミクロトームにて約600Åの厚みの超薄
切片（フイルムの流れ方向に平行に切断す
る。）を作成する。この試料を透過型電子顕
微鏡（日立製作所製：Ｈ−800型）にてフイ
ルム中の滑剤（粒子）の断面形状を観察し、
滑剤の長軸と短軸の比で表わす。３）相対標準偏差値１項の積算曲線より差分粒度分布を求め、
相対標準偏差の下記定義式にもとづいて、相
対標準偏差を算出する。ここで Di：１）項で求めた各々の粒径：１）項で求めた平均径ｎ：１）項で積算曲線を求めたときの分割数 φ₁：各粒径の粒子の存在確率（マスパーセント）を表わす。 (3) フイルム表面粗さ（Ra）中心線平均粗さ（Ra）としてJIS−B0601で
定義される値であり、本発明では(株)小坂研究所
の触針式表面粗さ計（SURFCORDER SE−
30C）を用いて測定する。測定条件等は次の通
りである。 (a) 触針先端半径：2μｍ (b) 測定圧力：30mg (c) カツトオフ：0.25mm (d) 測定長：0.5mm (e) データーのまとめ方同一試料について５回繰返し測定し、最も
大きい値を１つ除き、残り４つのデーターの
平均値の小数点以下４桁目を四捨五入し、少
数点以下３桁目まで表示する。 (4) ボイド比上記(1)−２）の方法に従つてフイルム中（表
面）の滑剤周辺を暴露し、少なくとも50子の固
定微粒子と長径とボイドの長径を測定し、次式ボイド比＝ボイドの長径／固体微粒子の長径で
求めるボイド比の数平均値で表わす。 (5) フイルムの摩擦係数（μk）温度20℃、湿度60％の環境で、巾1/2インチ
に裁断したフイルムを固定棒（表面粗さ0.2μ
ｍ）に角度θ＝（152/180）πラジアン（152°）
で接触させて毎分200cmの速さで移動（摩擦）
させる。入口テンシヨンT₁が35ｇとなるよう
にテンシヨンコントローラーを調整した時の出
口テンシヨン（T₂：ｇ）をフイルムが90ｍ走
行したのちに出口テンシヨン検出機で検出し、
次式で走行摩耗係数μkを算出する。 μk＝（2.303／θ）log（T₂／T₁）＝0.868log（T₂／35） (6) 削れ性ベースフイルムの走行面の削れ性を５段のミ
ニスーパーカレンダーを使用して評価する。カ
レンダーはナイロンロールとスチールロールの
５段カレンダーであり、処理温度は80℃、フイ
ルムにかかる線圧は200Kg／cm、フイルムスピ
ードは50ｍ／分で走行させる。走行フイルムは
全長2000ｍ走行させた時点でカレンダーのトツ
プローラーに付着する汚れで、ベースフイルム
の削れ性を評価する。＜４段階判定＞ ◎：ナイロンロールの汚れ全くなし ○：ナイロンロールの汚れはほとんどなし ×：ナイロンロールが汚れる ××：ナイロンロールがひどく汚れる (6) スクラツチ判定巾1/2インチに裁断したフイルムを、上記(5)
の摩擦係数測定装置を用いて、固定棒に152°の
角度で接触する様にかけ、20cm／sec速度で10
ｍ走行させ、これを50回繰返した後の1/2イン
チ巾ベースフイルムの表面に入つたスクラツチ
の太さ、深さ、数を総合して次の５段階で判定
する。＜５段階判定＞ ◎ 1/2インチ巾ベースフイルムに全くスクラ
ツチが認められない ○ 1/2インチ巾ベースフイルムにほとんどス
クラツチが認められない △ 1/2インチ巾ベースフイルムにスクラツチ
か認められる（何本か） × 1/2インチ巾ベースフイルムに太いスクラ
ツチが何本か認められる ×× 1/2インチ巾ベースフイルムに太く深い
スクラツチが多数全面に認められる比較例１〜６ジメチルテレフタレートとエチレングリコール
とを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、
重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤とし
て亜燐酸を、更に滑剤として第１表に示す無機微
粒子を用いて常法により重合し、固有年度（オル
ソクロロフエノール、35℃）0.62のポリエチレン
テレフタレートを得た。このポリエチレンテレフタレートのペレツトを
170℃、３時間乾燥後押出機ホツパーに供給し、
溶融温度280〜300℃で溶融し、この溶融ポリマー
を１mmのスリツト状ダイを通して表面仕上げ0.3S
程度、表面温度20℃の回転冷却ドラム上に押出
し、290μｍの未延伸フイルムを得た。このようにして得られた未延伸フイルムを75℃
にて予熱し、更に低速、高速のロール間で15mm上
方より900℃の表面温度のIRヒーター１本にて加
熱して3.6倍に延伸し、急冷し、続いてステンタ
ーに供給し105℃にて横方向に3.7倍に延伸した。
得られた二軸配向フイルムを205℃の温度で５秒
間熱固定し、厚み15μｍの熱固定二軸配向フイル
ムを得た。これらのフイルムの特性を第１表に示す。

【表】

【表】実施例１〜８及び比較例７カオリンの代りに第２表に示す第１成分として
の球状シリカ（日本触媒化学工業(株)製）及び第２
成分としての他の不活性無機微粒子を用いる以外
は比較例１と同様に行つて二軸配向ポリエステル
フイルムを得た。これらのフイルムの特性を第２表に示す。第２表により、第１成分として球状シリカ粒子
を用いることで第２成分の高濃度添加フイルムの
耐スクラツチ製を向上させ、走行性、耐削れ性、
耐スクラツチ性に優れたフイルムが得られること
が判る。

【表】

【表】実施例９カオリンの代りに第３表に示す滑剤を用いる以
外は比較例１と同様に行つて二軸配向ポリエステ
ルフイルムを得た。このフイルムは、滑り性、耐
削れ性及び耐スクラツチ性に特に優れたものであ
つた。これらの特性を第３表に示す。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１ポリエステル中に第１成分として平均粒径が
0.4〜3μｍであり、粒径比（長径／短径）が1.0〜
1.2でありかつ下記式で表わされる相対標準偏差
が0.5以下である球状シリカ粒子を0.005〜２重量
％の割合で含有し、かつ第２成分として平均粒径
が第１成分より小さいが0.05〜2.9μｍの範囲にあ
る他の不活性無機微粒子を0.5重量％より多く２
重量％以下の割合で含有することを特徴とする二
軸配向ポリエステルフイルム。ここで Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ）：面積円相当径の平均値｛＝（_o 〓ⁱ⁼¹ Di）／ｎ｝（μｍ）ｎ：粒子の個数を表わす。２他の不活性無機微粒子がカオリン、ベントナ
イト、酸化チタン、炭酸カルシウム及び多孔質シ
リカよりなる群から選ばれる少くとも一種である
特許請求の範囲第１項記載の二軸配向ポリエステ
ルフイルム。