JPH05165209A - 感光性組成物 - Google Patents
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- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ジアゾ樹脂、高分子バインダーを含む感光性
組成物において、該感光性組成物が、リンの酸素酸基を
1個以上有する化合物、スルホン酸基を1個以上有する
化合物及びカルボキシル基を2個以上有する化合物を含
有することを特徴とする感光性組成物。 【効果】 水性アルカリ現像液に対する現像性が優れ、
耐刷性が良く、高温高湿下に長期間置かれても現像性や
汚れ性の劣化がなく貯蔵安定性に優れている。
組成物において、該感光性組成物が、リンの酸素酸基を
1個以上有する化合物、スルホン酸基を1個以上有する
化合物及びカルボキシル基を2個以上有する化合物を含
有することを特徴とする感光性組成物。 【効果】 水性アルカリ現像液に対する現像性が優れ、
耐刷性が良く、高温高湿下に長期間置かれても現像性や
汚れ性の劣化がなく貯蔵安定性に優れている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性組成物に関し、特
に感光性平版印刷版に好適に使用される感光性組成物に
関するものである。更に詳しくは、水性アルカリ現像液
での現像性及び耐刷性が優れ、かつ貯蔵安定性が改善さ
れた感光性組成物に関するものである。
に感光性平版印刷版に好適に使用される感光性組成物に
関するものである。更に詳しくは、水性アルカリ現像液
での現像性及び耐刷性が優れ、かつ貯蔵安定性が改善さ
れた感光性組成物に関するものである。
【0002】
【従来技術】予め感光性を与えられた印刷材料の感光性
物質として使用されているものの大多数はジアゾニウム
化合物であり、その最も常用されているものにp−ジア
ゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表さ
れるジアゾ樹脂がある。このようなジアゾ樹脂を紙、プ
ラスチック又は金属等の適当な支持体上に塗布し、それ
を透明陰画を通して活性光線に露光した場合、露光され
た部分のジアゾ樹脂は分解を起して不溶性に変化するの
で、未露光部を適当な現像液で溶解除去することがで
き、これにより支持体表面を露呈させることができる。
予め親水化処理を施した表面を有する支持体を用いれ
ば、未露光部は現像により該親水層を露呈する。従って
オフセット印刷機上に於て、この部分は水を受付けてイ
ンキを反撥する。又、分解した部分のジアゾ樹脂は親油
性を呈し、水を反撥してインキを受付ける。つまりこの
ような印刷材料はいわゆるネガ−ポジ型の印刷版を与え
る。
物質として使用されているものの大多数はジアゾニウム
化合物であり、その最も常用されているものにp−ジア
ゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表さ
れるジアゾ樹脂がある。このようなジアゾ樹脂を紙、プ
ラスチック又は金属等の適当な支持体上に塗布し、それ
を透明陰画を通して活性光線に露光した場合、露光され
た部分のジアゾ樹脂は分解を起して不溶性に変化するの
で、未露光部を適当な現像液で溶解除去することがで
き、これにより支持体表面を露呈させることができる。
予め親水化処理を施した表面を有する支持体を用いれ
ば、未露光部は現像により該親水層を露呈する。従って
オフセット印刷機上に於て、この部分は水を受付けてイ
ンキを反撥する。又、分解した部分のジアゾ樹脂は親油
性を呈し、水を反撥してインキを受付ける。つまりこの
ような印刷材料はいわゆるネガ−ポジ型の印刷版を与え
る。
【0003】かかる感光性組成物は、その貯蔵安定性が
低いために、種々の安定剤の添加が試みられている。例
えば特開昭54−151023号公報に記載の亜リン
酸、特開昭50−36207号公報に記載のハロゲン含
有有機リン酸エステル化合物、英国特許第154834
4号に記載の蓚酸、特開昭56−107238号公報に
記載の高分子有機酸、特開昭60−262154号に記
載のリンゴ酸、などが挙げられ、若干の効果がみられる
ものもあるが、いずれも満足すべき結果を与えてはいな
い。
低いために、種々の安定剤の添加が試みられている。例
えば特開昭54−151023号公報に記載の亜リン
酸、特開昭50−36207号公報に記載のハロゲン含
有有機リン酸エステル化合物、英国特許第154834
4号に記載の蓚酸、特開昭56−107238号公報に
記載の高分子有機酸、特開昭60−262154号に記
載のリンゴ酸、などが挙げられ、若干の効果がみられる
ものもあるが、いずれも満足すべき結果を与えてはいな
い。
【0004】またジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版
の感光性層の組成物は、例えば米国特許第2,714,066 号
明細書に記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、
つまり結合剤を使用しないものと、例えば特開昭50−
30604号公報に記載されているように結合剤とジア
ゾ樹脂が混合されているものに分類することができる
が、近年ジアゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版
の多くのものは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム
化合物と結合剤となるポリマーよりなっている。このよ
うな感光層としては特公昭52−7364号公報に記載
されているように、未露光部が水性アルカリ現像液によ
って除去(現像)される所謂アルカリ現像型と、有機溶
剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型が知られ
ているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が注目され
ている。しかしながらアルカリ現像型の感光層は一般的
に耐刷性が不十分であり、アルカリ現像性と耐刷性を高
いレベルで両立させることが求められている。
の感光性層の組成物は、例えば米国特許第2,714,066 号
明細書に記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、
つまり結合剤を使用しないものと、例えば特開昭50−
30604号公報に記載されているように結合剤とジア
ゾ樹脂が混合されているものに分類することができる
が、近年ジアゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版
の多くのものは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム
化合物と結合剤となるポリマーよりなっている。このよ
うな感光層としては特公昭52−7364号公報に記載
されているように、未露光部が水性アルカリ現像液によ
って除去(現像)される所謂アルカリ現像型と、有機溶
剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型が知られ
ているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が注目され
ている。しかしながらアルカリ現像型の感光層は一般的
に耐刷性が不十分であり、アルカリ現像性と耐刷性を高
いレベルで両立させることが求められている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、アルカリ現像性と耐刷性を高いレベルで両立さ
せ、かつ高温高湿条件で長期間保存しても現像性、汚れ
の劣化のない貯蔵安定性に優れた感光性組成物を提供す
ることである。
的は、アルカリ現像性と耐刷性を高いレベルで両立さ
せ、かつ高温高湿条件で長期間保存しても現像性、汚れ
の劣化のない貯蔵安定性に優れた感光性組成物を提供す
ることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成するため鋭意検討した結果、ジアゾ樹脂、高分子バイ
ンダー、リンの酸素酸基を1個以上有する化合物、及び
スルホン酸基を1個以上有する化合物及びカルボキシル
基を2個以上有する化合物を含有する感光性組成物によ
って上記目的が達成できることを見出し本発明を完成す
るに至った。本発明に使用されるリンの酸素酸基を1個
以上有する化合物(以下本発明のリンの酸素酸化合物と
いう)とは、亜リン酸、次亜リン酸、リン酸、ホスホン
酸、ホスフィン酸及びこれらの母体構造のリン原子に結
合した水素原子を、置換されていてもよい炭化水素、ま
たは異節環状基で置換してできた化合物及びこれらのエ
ステルで少なくとも1個のP−OH基を有するものを含
み、具体例としては例えば以下のものが挙げられる。
成するため鋭意検討した結果、ジアゾ樹脂、高分子バイ
ンダー、リンの酸素酸基を1個以上有する化合物、及び
スルホン酸基を1個以上有する化合物及びカルボキシル
基を2個以上有する化合物を含有する感光性組成物によ
って上記目的が達成できることを見出し本発明を完成す
るに至った。本発明に使用されるリンの酸素酸基を1個
以上有する化合物(以下本発明のリンの酸素酸化合物と
いう)とは、亜リン酸、次亜リン酸、リン酸、ホスホン
酸、ホスフィン酸及びこれらの母体構造のリン原子に結
合した水素原子を、置換されていてもよい炭化水素、ま
たは異節環状基で置換してできた化合物及びこれらのエ
ステルで少なくとも1個のP−OH基を有するものを含
み、具体例としては例えば以下のものが挙げられる。
【0007】亜リン酸、亜リン酸メチル、亜リン酸エチ
ル、亜リン酸プロピル、亜リン酸ブチル、亜リン酸フェ
ニル、亜リン酸ベンジル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸
ジエチル、亜リン酸ジプロピル、亜リン酸ジブチル、亜
リン酸ジフェニル、亜リン酸ジベンジル、次亜リン酸、
メチル次亜リン酸、エチル次亜リン酸、プロピル次亜リ
ン酸、ブチル次亜リン酸、フェニル次亜リン酸、ベンジ
ル次亜リン酸、次亜リン酸メチル、次亜リン酸エチル、
次亜リン酸プロピル、次亜リン酸ブチル、次亜リン酸フ
ェニル、次亜リン酸ベンジル、メチル次亜リン酸エチ
ル;リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸プロ
ピル、リン酸ブチル、リン酸フェニル、リン酸ベンジ
ル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジプロピ
ル、メタリン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸、リ
ン酸ジブチル、リン酸ジフェニル、リン酸ジベンジル;
ホスホン酸、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、プ
ロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、フェニルホスホ
ン酸、p−クロロフェニルホスホン酸、p−ブロモフェ
ニルホスホン酸、o−トリルホスホン酸、m−トリルホ
スホン酸、p−トリルホスホン酸、フェニルホスホン酸
メチル、フェニルホスホン酸エチル、フェニルホスホン
酸プロピル、フェニルホスホン酸ブチル、アセチルホス
ホン酸;ホスフィン酸、メチルホスフィン酸、エチルホ
スフィン酸、プロピルホスフィン酸、ブチルホスフィン
酸、フェニルホスフィン酸、ベンジルホスフィン酸、ジ
メチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジプロピ
ルホスフィン酸、ジブチルホスフィン酸、ジフェニルホ
スフィン酸、エチルメチルホスフィン酸、2−フリルホ
スフィン酸;など、及びこれらのアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩、アンモニウム塩等。最も好ましいのは
亜リン酸、リン酸である。
ル、亜リン酸プロピル、亜リン酸ブチル、亜リン酸フェ
ニル、亜リン酸ベンジル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸
ジエチル、亜リン酸ジプロピル、亜リン酸ジブチル、亜
リン酸ジフェニル、亜リン酸ジベンジル、次亜リン酸、
メチル次亜リン酸、エチル次亜リン酸、プロピル次亜リ
ン酸、ブチル次亜リン酸、フェニル次亜リン酸、ベンジ
ル次亜リン酸、次亜リン酸メチル、次亜リン酸エチル、
次亜リン酸プロピル、次亜リン酸ブチル、次亜リン酸フ
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ル;リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸プロ
ピル、リン酸ブチル、リン酸フェニル、リン酸ベンジ
ル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジプロピ
ル、メタリン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸、リ
ン酸ジブチル、リン酸ジフェニル、リン酸ジベンジル;
ホスホン酸、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、プ
ロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、フェニルホスホ
ン酸、p−クロロフェニルホスホン酸、p−ブロモフェ
ニルホスホン酸、o−トリルホスホン酸、m−トリルホ
スホン酸、p−トリルホスホン酸、フェニルホスホン酸
メチル、フェニルホスホン酸エチル、フェニルホスホン
酸プロピル、フェニルホスホン酸ブチル、アセチルホス
ホン酸;ホスフィン酸、メチルホスフィン酸、エチルホ
スフィン酸、プロピルホスフィン酸、ブチルホスフィン
酸、フェニルホスフィン酸、ベンジルホスフィン酸、ジ
メチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジプロピ
ルホスフィン酸、ジブチルホスフィン酸、ジフェニルホ
スフィン酸、エチルメチルホスフィン酸、2−フリルホ
スフィン酸;など、及びこれらのアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩、アンモニウム塩等。最も好ましいのは
亜リン酸、リン酸である。
【0008】本発明に使用されるスルホン酸基を1個以
上有する化合物(以下本発明のスルホン酸化合物とい
う)とは、置換されていてもよい炭化水素、または異節
環状基にスルホン酸基が1つ以上置換していてかつリン
の酸素酸基を有していない化合物であり、具体例として
は例えば以下のものがあげられる。メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、ベンジルスルホン酸、o−
トリルスルホン酸、m−トリルスルホン酸、p−トリル
スルホン酸、o−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、m−
ヒドロキシベンゼンスルホン酸、p−ヒドロキシベンゼ
ンスルホン酸、2,3−ジメチルベンゼンスルホン酸、
2,4−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,5−ジメチ
ルベンゼンスルホン酸、2,6−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、
2,4−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、2,5−ジ
ヒドロキシベンゼンスルホン酸、2,6−ジヒドロキシ
ベンゼンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、
m−ニトロベンゼンスルホン酸、o−ホルミルベンゼン
スルホン酸、2−ヒドロキシ−5−ホルミルベンゼンス
ルホン酸、2−スルホ安息香酸、3−スルホ安息香酸、
4−スルホ安息香酸、3−スルホフタル酸、4−スルホ
フタル酸、2−スルホテレフタル酸、5−スルホイソフ
タル酸、5−スルホサリチル酸、1,3−ベンゼンジス
ルホン酸、ピリジン−2−スルホン酸、2−ヒドロキシ
ピリジン−5−スルホン酸、4−スルホジフェニルアミ
ン、1−ナフタレンスルホン酸、2−ナフタレンスルホ
ン酸、1,6−ナフタレンジスルホン酸、アントラキノ
ン−1−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン
酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、プロ
ピルナフタレンスルホン酸、ジプロピルナフタレンスル
ホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸、など、およびこれらのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩など。最も好
ましいのは3−スルホフタル酸、4−スルホフタル酸、
2−スルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸等の
芳香族環に2つ以上のカルボキシル基と1つのスルホン
酸基を有する化合物、及び5−スルホサリチル酸のよう
に芳香族環にヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ
ン酸基を有する化合物、及び2−ヒドロキシ−4−メト
キシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸及びジブチル
ナフタレンスルホン酸である。
上有する化合物(以下本発明のスルホン酸化合物とい
う)とは、置換されていてもよい炭化水素、または異節
環状基にスルホン酸基が1つ以上置換していてかつリン
の酸素酸基を有していない化合物であり、具体例として
は例えば以下のものがあげられる。メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、ベンジルスルホン酸、o−
トリルスルホン酸、m−トリルスルホン酸、p−トリル
スルホン酸、o−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、m−
ヒドロキシベンゼンスルホン酸、p−ヒドロキシベンゼ
ンスルホン酸、2,3−ジメチルベンゼンスルホン酸、
2,4−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,5−ジメチ
ルベンゼンスルホン酸、2,6−ジメチルベンゼンスル
ホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、
2,4−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、2,5−ジ
ヒドロキシベンゼンスルホン酸、2,6−ジヒドロキシ
ベンゼンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、
m−ニトロベンゼンスルホン酸、o−ホルミルベンゼン
スルホン酸、2−ヒドロキシ−5−ホルミルベンゼンス
ルホン酸、2−スルホ安息香酸、3−スルホ安息香酸、
4−スルホ安息香酸、3−スルホフタル酸、4−スルホ
フタル酸、2−スルホテレフタル酸、5−スルホイソフ
タル酸、5−スルホサリチル酸、1,3−ベンゼンジス
ルホン酸、ピリジン−2−スルホン酸、2−ヒドロキシ
ピリジン−5−スルホン酸、4−スルホジフェニルアミ
ン、1−ナフタレンスルホン酸、2−ナフタレンスルホ
ン酸、1,6−ナフタレンジスルホン酸、アントラキノ
ン−1−スルホン酸、アントラキノン−2−スルホン
酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、プロ
ピルナフタレンスルホン酸、ジプロピルナフタレンスル
ホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸、など、およびこれらのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩など。最も好
ましいのは3−スルホフタル酸、4−スルホフタル酸、
2−スルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸等の
芳香族環に2つ以上のカルボキシル基と1つのスルホン
酸基を有する化合物、及び5−スルホサリチル酸のよう
に芳香族環にヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ
ン酸基を有する化合物、及び2−ヒドロキシ−4−メト
キシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸及びジブチル
ナフタレンスルホン酸である。
【0009】本発明に使用されるカルボキシル基を2個
以上有する化合物(以下本発明のカルボン酸化合物とい
う)とは、置換されていてもよい炭化水素、または異節
環状基にカルボキシル基が2つ以上置換していてかつリ
ンの酸素酸基及びスルホン酸基を有していない化合物で
あり、具体例としては例えば、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、酒石酸、
リンゴ酸、ジピコリン酸、くえん酸、等があげられる。
特に好ましいものはシュウ酸、酒石酸、リンゴ酸、ジピ
コリン酸である。
以上有する化合物(以下本発明のカルボン酸化合物とい
う)とは、置換されていてもよい炭化水素、または異節
環状基にカルボキシル基が2つ以上置換していてかつリ
ンの酸素酸基及びスルホン酸基を有していない化合物で
あり、具体例としては例えば、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、酒石酸、
リンゴ酸、ジピコリン酸、くえん酸、等があげられる。
特に好ましいものはシュウ酸、酒石酸、リンゴ酸、ジピ
コリン酸である。
【0010】また、下記具体例で例示されるような3個
以上のカルボキシル基を有し、炭素、水素以外の元素を
含む他の官能基を有さない低分子の有機化合物も特に好
ましい、これらの具体例としては例えば、プロパン−
1,2,3−トリカルボン酸、ブタン−1,2,3−ト
リカルボン酸、ブタン−1,2,4−トリカルボン酸、
ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、2−カル
ボキシメチルプロパン−1,3−ジカルボン酸、ペンタ
ン−1,2,3−トリカルボン酸、ペンタン−1,2,
4−トリカルボン酸、ペンタン−1,2,5−トリカル
ボン酸、ペンタン−1,3,4−トリカルボン酸、ペン
タン−2,3,4−トリカルボン酸、ペンタン−1,
2,3,4−テトラカルボン酸、ペンタン−1,2,
3,5−テトラカルボン酸、2−カルボキシメチルブタ
ン−1,3−ジカルボン酸、2−カルボキシメチルブタ
ン−1,4−ジカルボン酸、3−カルボキシメチルブタ
ン−1,2−ジカルボン酸、3−カルボキシメチルブタ
ン−1,2,4−トリカルボン酸、2,2−ジカルボキ
シメチルプロパン−1,3−ジカルボン酸、1,2,
3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、ヘミメリッ
ト酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット
酸、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸等
があげられる。特に好ましいものは炭素数が5以下のア
ルキル基に3個以上のカルボキシル基がついたものであ
り、最も好ましいものはプロパン−1,2,3−トリカ
ルボン酸である。
以上のカルボキシル基を有し、炭素、水素以外の元素を
含む他の官能基を有さない低分子の有機化合物も特に好
ましい、これらの具体例としては例えば、プロパン−
1,2,3−トリカルボン酸、ブタン−1,2,3−ト
リカルボン酸、ブタン−1,2,4−トリカルボン酸、
ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、2−カル
ボキシメチルプロパン−1,3−ジカルボン酸、ペンタ
ン−1,2,3−トリカルボン酸、ペンタン−1,2,
4−トリカルボン酸、ペンタン−1,2,5−トリカル
ボン酸、ペンタン−1,3,4−トリカルボン酸、ペン
タン−2,3,4−トリカルボン酸、ペンタン−1,
2,3,4−テトラカルボン酸、ペンタン−1,2,
3,5−テトラカルボン酸、2−カルボキシメチルブタ
ン−1,3−ジカルボン酸、2−カルボキシメチルブタ
ン−1,4−ジカルボン酸、3−カルボキシメチルブタ
ン−1,2−ジカルボン酸、3−カルボキシメチルブタ
ン−1,2,4−トリカルボン酸、2,2−ジカルボキ
シメチルプロパン−1,3−ジカルボン酸、1,2,
3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、ヘミメリッ
ト酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット
酸、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸等
があげられる。特に好ましいものは炭素数が5以下のア
ルキル基に3個以上のカルボキシル基がついたものであ
り、最も好ましいものはプロパン−1,2,3−トリカ
ルボン酸である。
【0011】本発明のリンの酸素酸化合物、スルホン酸
化合物、カルボン酸化合物の感光性組成物中の添加量
は、それぞれ全固形分に対して0.01〜10重量%、好
ましくは0.1〜5重量%である。0.01重量%より少な
い場合は貯蔵安定性が低くなり、10重量%を超える場
合は耐刷性が劣化する。更に本発明のリンの酸素酸化合
物、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物の合計の添加
量は感光性組成物中の全固形分に対して15重量%をこ
えないことが好ましい。15重量%をこえると耐刷性が
劣化する。
化合物、カルボン酸化合物の感光性組成物中の添加量
は、それぞれ全固形分に対して0.01〜10重量%、好
ましくは0.1〜5重量%である。0.01重量%より少な
い場合は貯蔵安定性が低くなり、10重量%を超える場
合は耐刷性が劣化する。更に本発明のリンの酸素酸化合
物、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物の合計の添加
量は感光性組成物中の全固形分に対して15重量%をこ
えないことが好ましい。15重量%をこえると耐刷性が
劣化する。
【0012】本発明に使用されるジアゾ樹脂としては、
例えばp−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒド
またはアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリ
ン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反
応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米国特許第3,30
0,309 号明細書に記載されているような、前記縮合物と
スルホン酸類例えばパラトルエンスルホン酸またはその
塩、ホスフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸または
その塩、ヒドロキシル基含有化合物例えば、2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン−5−スルホン酸またはその塩等と
の反応生成物さらに特開昭58−209733号公報、
同62−175731号公報、同63−26264号公
報に記載されている長鎖のアルキル基を有するスルホン
酸との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂、さ
らに特公昭49−48001号公報に記載された芳香族
化合物との共縮合ジアゾ樹脂も好ましい。さらにまた特
願平3−110293号、同3−120380号明細書
に記載されたエポキシ樹脂との開環重合反応及び特開昭
58−187925号公報に記載のオレフィン性不飽和
化合物による反応により合成されたジアジ樹脂も好まし
く用いられる。
例えばp−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒド
またはアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリ
ン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反
応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米国特許第3,30
0,309 号明細書に記載されているような、前記縮合物と
スルホン酸類例えばパラトルエンスルホン酸またはその
塩、ホスフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸または
その塩、ヒドロキシル基含有化合物例えば、2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン−5−スルホン酸またはその塩等と
の反応生成物さらに特開昭58−209733号公報、
同62−175731号公報、同63−26264号公
報に記載されている長鎖のアルキル基を有するスルホン
酸との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂、さ
らに特公昭49−48001号公報に記載された芳香族
化合物との共縮合ジアゾ樹脂も好ましい。さらにまた特
願平3−110293号、同3−120380号明細書
に記載されたエポキシ樹脂との開環重合反応及び特開昭
58−187925号公報に記載のオレフィン性不飽和
化合物による反応により合成されたジアジ樹脂も好まし
く用いられる。
【0013】本発明において、好適に用いることができ
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの基(以下酸基と略す)を有する
芳香族化合物と、芳香族ジアゾニウム化合物とを構造単
位として含む共縮合ジアゾ樹脂である。好ましい酸基を
有する芳香族化合物の例は、特開平2−29650号公
報、特願平2−40690号明細書、特開昭3−253
857号公報に記載されており、とりわけ4−メトキシ
安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、フェノキシ酢酸、
フェニルリン酸である。芳香族ジアゾ化合物としては特
公昭49−48001号公報に記載された芳香族ジアゾ
化合物があげられるが、特に好ましくは、3−メトキシ
−4−アミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジ
フェニルアミンから誘導されるジアゾ化合物である。
る他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、
スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基
のうち少なくとも一つの基(以下酸基と略す)を有する
芳香族化合物と、芳香族ジアゾニウム化合物とを構造単
位として含む共縮合ジアゾ樹脂である。好ましい酸基を
有する芳香族化合物の例は、特開平2−29650号公
報、特願平2−40690号明細書、特開昭3−253
857号公報に記載されており、とりわけ4−メトキシ
安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、フェノキシ酢酸、
フェニルリン酸である。芳香族ジアゾ化合物としては特
公昭49−48001号公報に記載された芳香族ジアゾ
化合物があげられるが、特に好ましくは、3−メトキシ
−4−アミノ−4−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジ
フェニルアミンから誘導されるジアゾ化合物である。
【0014】上記共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631 号、同第2,679,49
8 号、特公昭49−45322号公報、同49−453
23号公報各明細書記載の方法を用いて合成することが
できる。酸基のうち少なくとも一つを有する芳香族化合
物と芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜
0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より好まし
くは1:1〜0.2:1である。また、ジアゾ樹脂へ酸基
を導入するのに上記の酸基を有する芳香族化合物との共
縮合以外の方法として、特願平1−130493号明細
書、特開昭3−163551号公報、及び特開昭3−2
53857号公報に記載された様に酸基を含有するアル
デヒドまたはそのアセタール化合物で縮合する方法があ
るがこのジアゾ樹脂も同様に好ましく用いることができ
る。
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631 号、同第2,679,49
8 号、特公昭49−45322号公報、同49−453
23号公報各明細書記載の方法を用いて合成することが
できる。酸基のうち少なくとも一つを有する芳香族化合
物と芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜
0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より好まし
くは1:1〜0.2:1である。また、ジアゾ樹脂へ酸基
を導入するのに上記の酸基を有する芳香族化合物との共
縮合以外の方法として、特願平1−130493号明細
書、特開昭3−163551号公報、及び特開昭3−2
53857号公報に記載された様に酸基を含有するアル
デヒドまたはそのアセタール化合物で縮合する方法があ
るがこのジアゾ樹脂も同様に好ましく用いることができ
る。
【0015】上記ジアゾ樹脂の対アニオンとしては、該
ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒
に可溶となすアニオンが好ましい。これらは、特開平2
−219060号公報、特願平1−130493号、特
願平2−299552号明細書に記載されており、とり
わけ好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジ
ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。ジアゾ
樹脂は、合成時の反応条件を種々変えることにより、そ
の分子量は任意の値として得ることができるが、本発明
の目的とする使途に有効に供するためには分子量が約4
00乃至100,000のもの、好ましくは、約800乃
至20,000のものが適当である。なお上記ジアゾ樹脂
は単独で用いても良いし2種類以上の混合物でもよい。
ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒
に可溶となすアニオンが好ましい。これらは、特開平2
−219060号公報、特願平1−130493号、特
願平2−299552号明細書に記載されており、とり
わけ好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジ
ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。ジアゾ
樹脂は、合成時の反応条件を種々変えることにより、そ
の分子量は任意の値として得ることができるが、本発明
の目的とする使途に有効に供するためには分子量が約4
00乃至100,000のもの、好ましくは、約800乃
至20,000のものが適当である。なお上記ジアゾ樹脂
は単独で用いても良いし2種類以上の混合物でもよい。
【0016】さらに、本発明に用いられる高分子バイン
ダーとしてはアルカリ水溶液系現像液に溶解または膨潤
することができかつ前記の感光性ジアゾ樹脂によって光
硬化するものであればよい。特に好適な有機高分子バイ
ンダーとしてはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸
またはマレイン酸を必須成分として含む共重合体、例え
ば特公昭52−7364号公報に記載されている様な2
−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、アクリロニトリルまたはメタク
リロニトリル、アクリル酸またはメタクリル酸および必
要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合
体、特開昭53−120903号公報に記載されている
様な末端がヒドロキシ基であり、かつジカルボン酸エス
テル残基を含む基でエステル化されたアクリル酸または
メタクリル酸、アクリル酸、またはメタクリル酸および
必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合
体、特公昭57−43890号公報に記載されている様
な芳香族性水酸基を末端に有する単量体(例えばN−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、
アクリル酸またはメタクリル酸および必要に応じて他の
共重合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭56−
4144号公報に記載されている様なアルキルアクリレ
ート、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル及び
不飽和カルボン酸よりなる多元共重合体、特開昭61−
267042号、同61−128123号、同62−5
8242号に記載されているような変性ポリビニルアセ
タール樹脂などをあげることができる。
ダーとしてはアルカリ水溶液系現像液に溶解または膨潤
することができかつ前記の感光性ジアゾ樹脂によって光
硬化するものであればよい。特に好適な有機高分子バイ
ンダーとしてはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸
またはマレイン酸を必須成分として含む共重合体、例え
ば特公昭52−7364号公報に記載されている様な2
−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、アクリロニトリルまたはメタク
リロニトリル、アクリル酸またはメタクリル酸および必
要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合
体、特開昭53−120903号公報に記載されている
様な末端がヒドロキシ基であり、かつジカルボン酸エス
テル残基を含む基でエステル化されたアクリル酸または
メタクリル酸、アクリル酸、またはメタクリル酸および
必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共重合
体、特公昭57−43890号公報に記載されている様
な芳香族性水酸基を末端に有する単量体(例えばN−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、
アクリル酸またはメタクリル酸および必要に応じて他の
共重合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭56−
4144号公報に記載されている様なアルキルアクリレ
ート、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル及び
不飽和カルボン酸よりなる多元共重合体、特開昭61−
267042号、同61−128123号、同62−5
8242号に記載されているような変性ポリビニルアセ
タール樹脂などをあげることができる。
【0017】特開昭62−123452号、同62−1
23453号、特開昭63−113450号、特開昭6
3−261350号、特開昭63−287946号、特
開昭63−287947号、特開平1−134354
号、特開平2−146042、特開平2−77748号
などに記載されているような酸性水素原子を持つ置換基
を有するポリウレタン樹脂も有用であり、本発明の化合
物による貯蔵安定性改良効果がきわだって大きく、組合
せる高分子バインダーとしては最も好ましい。ここで酸
性水素原子を持つ置換基とは、その水中での酸解離定数
( pKa )が7以下のものを指し、例えば−COOH、−SO
2NHCOO−、−CONHSO2 −、−CONHSO2NH −、−NHCONHSO
2 −などが含まれる。特に好適なものは−COOHである。
またこの他酸性ポリビニルアルコール誘導体や酸性セル
ロース誘導体も有用である。またポリビニルアセタール
をアルカリ可溶化した英国特許第1370316号記載
の高分子化合物も有用である。
23453号、特開昭63−113450号、特開昭6
3−261350号、特開昭63−287946号、特
開昭63−287947号、特開平1−134354
号、特開平2−146042、特開平2−77748号
などに記載されているような酸性水素原子を持つ置換基
を有するポリウレタン樹脂も有用であり、本発明の化合
物による貯蔵安定性改良効果がきわだって大きく、組合
せる高分子バインダーとしては最も好ましい。ここで酸
性水素原子を持つ置換基とは、その水中での酸解離定数
( pKa )が7以下のものを指し、例えば−COOH、−SO
2NHCOO−、−CONHSO2 −、−CONHSO2NH −、−NHCONHSO
2 −などが含まれる。特に好適なものは−COOHである。
またこの他酸性ポリビニルアルコール誘導体や酸性セル
ロース誘導体も有用である。またポリビニルアセタール
をアルカリ可溶化した英国特許第1370316号記載
の高分子化合物も有用である。
【0018】感光性組成物におけるこれらの感光性ジア
ゾ樹脂と高分子バインダーの含有量は、これら両者の総
量を基準にしてジアゾ樹脂3〜40重量%、高分子バイ
ンダーは97〜60重量%であることが適当である。ジ
アゾ樹脂の含有量は少ない方が感度は高いが、3重量%
より低下すると結合剤を光硬化させるためには不十分と
なり、現像時に光硬化膜が現像液によって膨潤し膜が弱
くなる傾向がある。逆にジアゾ樹脂の含有量が40重量
より多くなると感度が低くなり実用上難点が出てくる。
従って、より好ましい範囲は感光性ジアゾ樹脂5〜30
重量%で高分子バインダー95〜70重量%である。
ゾ樹脂と高分子バインダーの含有量は、これら両者の総
量を基準にしてジアゾ樹脂3〜40重量%、高分子バイ
ンダーは97〜60重量%であることが適当である。ジ
アゾ樹脂の含有量は少ない方が感度は高いが、3重量%
より低下すると結合剤を光硬化させるためには不十分と
なり、現像時に光硬化膜が現像液によって膨潤し膜が弱
くなる傾向がある。逆にジアゾ樹脂の含有量が40重量
より多くなると感度が低くなり実用上難点が出てくる。
従って、より好ましい範囲は感光性ジアゾ樹脂5〜30
重量%で高分子バインダー95〜70重量%である。
【0019】本発明の感光性組成物には、さらに色素を
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して色調を変化するものが好ましく使用で
きる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の
色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調
への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩
を形成して色調を変化するものである。例えば、ビクト
リアピュアブルーBOH〔保土谷化学社製〕及びそのナ
フタレンスルホン酸塩、オイルブルー#603(オリエ
ント化学工業社製)、パテントピュアブルー〔住友三国
化学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグ
リーン、エチルバイオレト、メチルバイオレット、メチ
ルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マ
ラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパー
プル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルア
ミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系また
はアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異な
る有色の色調へ変化する変化剤の例として挙げられる。
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して色調を変化するものが好ましく使用で
きる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の
色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調
への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩
を形成して色調を変化するものである。例えば、ビクト
リアピュアブルーBOH〔保土谷化学社製〕及びそのナ
フタレンスルホン酸塩、オイルブルー#603(オリエ
ント化学工業社製)、パテントピュアブルー〔住友三国
化学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグ
リーン、エチルバイオレト、メチルバイオレット、メチ
ルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マ
ラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパー
プル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルア
ミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系また
はアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異な
る有色の色調へ変化する変化剤の例として挙げられる。
【0020】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くはトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素が
有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタン
系色素であり、特にビクトリアピュアブルーBOH及び
そのナフタレンスルホン酸塩である。上記色素は、感光
性組成物中に全固形分に対して通常、好ましくは約0.5
〜約10重量%、より好ましくは約1〜5重量%含有さ
せる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好まし
くはトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素が
有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタン
系色素であり、特にビクトリアピュアブルーBOH及び
そのナフタレンスルホン酸塩である。上記色素は、感光
性組成物中に全固形分に対して通常、好ましくは約0.5
〜約10重量%、より好ましくは約1〜5重量%含有さ
せる。
【0021】本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類、ノニオン
系界面活性剤(特に特開昭62−170950号、同6
2−226143号、米国特許第3,787,351号に記
載されているようなフッ素系界面活性剤(例えばメガフ
ァックF−171,173,177,ディフェンサMC
F300,312,313〔以上大日本インキ化学工業
(株)製〕、モディパーF−100,102,110
〔以上日本油脂(株)製〕)、塗膜の柔軟性、耐磨耗性
を付与するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリ
エチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタ
ル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフル
フリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及び
ポリマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、現像促進剤(例えば高級アルコール、酸無水物、
アニオン界面活性剤等)、画像部の感脂性を向上させる
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、フッ素系
界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの脂肪酸エステル
等)、等が好ましく用いられる。これらの添加剤の添加
量はその使用対象、目的によって異なるが、一般には全
固形分に対して、0.01〜30重量%である。
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類、ノニオン
系界面活性剤(特に特開昭62−170950号、同6
2−226143号、米国特許第3,787,351号に記
載されているようなフッ素系界面活性剤(例えばメガフ
ァックF−171,173,177,ディフェンサMC
F300,312,313〔以上大日本インキ化学工業
(株)製〕、モディパーF−100,102,110
〔以上日本油脂(株)製〕)、塗膜の柔軟性、耐磨耗性
を付与するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリ
エチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタ
ル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフル
フリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及び
ポリマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、現像促進剤(例えば高級アルコール、酸無水物、
アニオン界面活性剤等)、画像部の感脂性を向上させる
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、フッ素系
界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの脂肪酸エステル
等)、等が好ましく用いられる。これらの添加剤の添加
量はその使用対象、目的によって異なるが、一般には全
固形分に対して、0.01〜30重量%である。
【0022】このような感光性組成物を、適当な支持体
上に塗設して感光性平版印刷版とする。このような支持
体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)ラミネート
紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、
銅などのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチッ
クのフィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸
着された紙もしくはプラスチックフィルム、アルミニウ
ムもしくはクロームメッキが施された鋼板などがあげら
れ、これらのうち特に、アルミニウム及びアルミニウム
被覆された複合支持体が好ましい。
上に塗設して感光性平版印刷版とする。このような支持
体としては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)ラミネート
紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、
銅などのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチッ
クのフィルム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸
着された紙もしくはプラスチックフィルム、アルミニウ
ムもしくはクロームメッキが施された鋼板などがあげら
れ、これらのうち特に、アルミニウム及びアルミニウム
被覆された複合支持体が好ましい。
【0023】またアルミニウム材としては1S材が好ま
しい。また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め、
感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されてい
ることが望ましい。たとえば、粗面化方法として、一般
に公知のブラシ研摩法、ボール研摩法、電解エッチン
グ、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラス
ト等の方法及びこれらの組合せがあげられ、好ましくは
ブラシ研摩法、電解エッチング、化学的エッチング及び
液体ホーニングがあげられ、これらのうちで、特に電解
エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さら
に、特開昭54−63902号に記載されているように
ブラシ研摩した後電解エッチングする方法も好ましい。
また、電解エッチングの際に用いられる電解浴として
は、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あるい
は有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これらのうちで
特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電解液が好まし
い。さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、
必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット
処理される。こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法があげられる。
しい。また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め、
感光層との密着性を向上させる目的で表面処理されてい
ることが望ましい。たとえば、粗面化方法として、一般
に公知のブラシ研摩法、ボール研摩法、電解エッチン
グ、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラス
ト等の方法及びこれらの組合せがあげられ、好ましくは
ブラシ研摩法、電解エッチング、化学的エッチング及び
液体ホーニングがあげられ、これらのうちで、特に電解
エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。さら
に、特開昭54−63902号に記載されているように
ブラシ研摩した後電解エッチングする方法も好ましい。
また、電解エッチングの際に用いられる電解浴として
は、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液あるい
は有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これらのうちで
特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電解液が好まし
い。さらに、粗面化処理の施されたアルミニウム板は、
必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット
処理される。こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法があげられる。
【0024】また、更に必要に応じて米国特許第2,714,
066 号明細書や米国特許第3,181,461 号明細書に記載さ
れている珪酸塩処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム)、米国特許第2,946,638 号明細書に記載されている
弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,24
7 号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1,108,559 号に記載されているアルキルチタ
ネート処理、独国特許第1,091,433 号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明
細書や英国特許第1,230,447 号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公
報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,
951 号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭
58−16893号や特開昭58−18291号の各公
報に記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金
属との塩による処理、特開昭59−101651号公報
に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の
下塗りによって親水化処理を行ったもの、特開昭60−
64352号公報に記載されている酸性染料による着色
を行なったものは特に好ましい。その他の親水化処理方
法としては米国特許第3,658,662 号明細書に記載されて
いるシリケート電着をも挙げることが出来る。
066 号明細書や米国特許第3,181,461 号明細書に記載さ
れている珪酸塩処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム)、米国特許第2,946,638 号明細書に記載されている
弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,24
7 号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1,108,559 号に記載されているアルキルチタ
ネート処理、独国特許第1,091,433 号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明
細書や英国特許第1,230,447 号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公
報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,
951 号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭
58−16893号や特開昭58−18291号の各公
報に記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金
属との塩による処理、特開昭59−101651号公報
に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の
下塗りによって親水化処理を行ったもの、特開昭60−
64352号公報に記載されている酸性染料による着色
を行なったものは特に好ましい。その他の親水化処理方
法としては米国特許第3,658,662 号明細書に記載されて
いるシリケート電着をも挙げることが出来る。
【0025】また、砂目立て処理及び陽極酸化後、封孔
処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及
び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに水
蒸気浴などによって行われる。本発明に用いられるのに
適した支持体についてさらに詳しく言うと、まず鉄を0.
1〜0.5%、ケイ素を0.03〜0.3%、銅を0.003〜
0.03%さらにチタンを0.01%〜0.1%含有するIS
アルミニウム板をアルカリ好ましくは1〜30%の水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸
ナトリウム等の水溶液に、20〜80℃の温度で5秒〜
250秒間浸漬して、エッチングする。エッチング浴に
は、アルミニウムをアルカリの1/5程度加えてもよ
い。次いで、10〜30%硝酸又は硫酸水溶液に20〜
70℃の温度で5秒〜250秒間浸漬して、アルカリエ
ッチング後の中和およびスマット除去を行なう。このア
ルミニウム合金板の表面清浄化後、以下に示す粗面化処
理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ研摩又は/
および電解エッチング処理が適している。電解液の温度
は、通常10〜60℃である。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相および三相交流電流を用いる
ことができる。また電流密度は、5〜100A/dm
2 で、10〜300秒間処理することが望ましい。
処理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及
び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに水
蒸気浴などによって行われる。本発明に用いられるのに
適した支持体についてさらに詳しく言うと、まず鉄を0.
1〜0.5%、ケイ素を0.03〜0.3%、銅を0.003〜
0.03%さらにチタンを0.01%〜0.1%含有するIS
アルミニウム板をアルカリ好ましくは1〜30%の水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸
ナトリウム等の水溶液に、20〜80℃の温度で5秒〜
250秒間浸漬して、エッチングする。エッチング浴に
は、アルミニウムをアルカリの1/5程度加えてもよ
い。次いで、10〜30%硝酸又は硫酸水溶液に20〜
70℃の温度で5秒〜250秒間浸漬して、アルカリエ
ッチング後の中和およびスマット除去を行なう。このア
ルミニウム合金板の表面清浄化後、以下に示す粗面化処
理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ研摩又は/
および電解エッチング処理が適している。電解液の温度
は、通常10〜60℃である。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相および三相交流電流を用いる
ことができる。また電流密度は、5〜100A/dm
2 で、10〜300秒間処理することが望ましい。
【0026】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したスマッ
トが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した場合
は、引続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬し
て中和する。表面のスマット除去を行なった後、陽極酸
化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知ら
れている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用
な電解液として用いられる。それについで、リン酸もま
た有用な電解液である。さらに特開昭55−28400
号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用
である。硫酸法は通常直流電流で処理が行なわれるが、
交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜30
%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒
間電解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸化皮膜
が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオンが
含まれている方が好ましい。さらにこのときの電流密度
は1〜20A/dm2 が好ましい。リン酸法の場合には、
5〜50%の濃度、30〜60℃の温度で、10〜30
0秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で、処理される。
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したスマッ
トが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した場合
は、引続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬し
て中和する。表面のスマット除去を行なった後、陽極酸
化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知ら
れている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用
な電解液として用いられる。それについで、リン酸もま
た有用な電解液である。さらに特開昭55−28400
号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用
である。硫酸法は通常直流電流で処理が行なわれるが、
交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜30
%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒
間電解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸化皮膜
が設けられる。この電解液には、アルミニウムイオンが
含まれている方が好ましい。さらにこのときの電流密度
は1〜20A/dm2 が好ましい。リン酸法の場合には、
5〜50%の濃度、30〜60℃の温度で、10〜30
0秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で、処理される。
【0027】このようにして、処理されたアルミニウム
支持体にはさらに米国特許第2,714,066号明細
書に記載されたようなシリケート類による表面処理を行
うのが望ましい。また支持体上には特開昭59−101
651号に記載されているような下塗層が設けられてい
るものを用いることもできる。上述の感光性組成物を支
持体上に設けるには、感光性ジアゾ樹脂、高分子バイン
ダー、本発明のリンの酸素酸化合物、スルホン酸化合
物、カルボン酸化合物および必要に応じて種々の添加剤
の所定量を適当な溶媒(メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコール−ジメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、メチルセロソ
ルブアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジクロライド、
ジメチルスルホキシド、水等)中に溶解させ感光性組成
物の塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥すれ
ばよい。用いられる溶媒は単独でもよいが、メチルセロ
ソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メチル
のような高沸点溶媒とメタノール、メチルエチルケトン
のような低沸点溶媒との混合物とすると更に好ましい。
塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜50重量
%の範囲とすることが望ましい。この場合、感光性組成
物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m2 (乾燥重
量)程度とすればよく、さらに好ましくは0.5〜3g/
m2 とするとよい。
支持体にはさらに米国特許第2,714,066号明細
書に記載されたようなシリケート類による表面処理を行
うのが望ましい。また支持体上には特開昭59−101
651号に記載されているような下塗層が設けられてい
るものを用いることもできる。上述の感光性組成物を支
持体上に設けるには、感光性ジアゾ樹脂、高分子バイン
ダー、本発明のリンの酸素酸化合物、スルホン酸化合
物、カルボン酸化合物および必要に応じて種々の添加剤
の所定量を適当な溶媒(メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコール−ジメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、メチルセロソ
ルブアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジクロライド、
ジメチルスルホキシド、水等)中に溶解させ感光性組成
物の塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥すれ
ばよい。用いられる溶媒は単独でもよいが、メチルセロ
ソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メチル
のような高沸点溶媒とメタノール、メチルエチルケトン
のような低沸点溶媒との混合物とすると更に好ましい。
塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜50重量
%の範囲とすることが望ましい。この場合、感光性組成
物の塗布量は、おおむね、0.2〜10g/m2 (乾燥重
量)程度とすればよく、さらに好ましくは0.5〜3g/
m2 とするとよい。
【0028】感光層上には相互に独立して設けられた突
起物により構成されるマット層があるのが好ましい。マ
ット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィルムと感
光性平版印刷版との真空密着性を改良することにより、
真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露光時の
微小網点のつぶれを防止することである。マット層の塗
布方法としては、特開昭55−12974号に記載され
ているパウダリングされた固体粉末を熱融着する方法、
特開昭58−182636号に記載されているポリマー
含有水をスプレーし乾燥させる方法などがあり、どの方
法でもよいが、マット層自体がアルカリ現像液に溶解す
るか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
起物により構成されるマット層があるのが好ましい。マ
ット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィルムと感
光性平版印刷版との真空密着性を改良することにより、
真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露光時の
微小網点のつぶれを防止することである。マット層の塗
布方法としては、特開昭55−12974号に記載され
ているパウダリングされた固体粉末を熱融着する方法、
特開昭58−182636号に記載されているポリマー
含有水をスプレーし乾燥させる方法などがあり、どの方
法でもよいが、マット層自体がアルカリ現像液に溶解す
るか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
【0029】支持体上に塗布された本発明の感光性組成
物は線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光
し、次いで水性アルカリ現像液で現像することにより、
原画に対してネガのレリーフ像を与える。露光に好適な
光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンラ
ンプ、メタルハライドランプ、ストロボ、紫外線、レー
ザー光線などが挙げられる。
物は線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露光
し、次いで水性アルカリ現像液で現像することにより、
原画に対してネガのレリーフ像を与える。露光に好適な
光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンラ
ンプ、メタルハライドランプ、ストロボ、紫外線、レー
ザー光線などが挙げられる。
【0030】本発明に係る感光性平版印刷版の現像処理
に用いられる現像液は公知のいずれであってもよいが、
好ましくは以下のものがよい。例えば、現像液は少なく
とも1種のアルカリ剤と、水とを必須成分として含有す
る。現像液中に必須成分として含有されるアルカリ剤と
しては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第三
リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ
剤、モノ、ジ、又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はト
リエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モ
ノ、ジ又はトリイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジイミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。これらのアルカリ剤の現像液中における含有量は
0.05〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量%であ
る。0.05重量%より少ないと現像が不良となり、10
重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能に悪影響
を及ぼす。
に用いられる現像液は公知のいずれであってもよいが、
好ましくは以下のものがよい。例えば、現像液は少なく
とも1種のアルカリ剤と、水とを必須成分として含有す
る。現像液中に必須成分として含有されるアルカリ剤と
しては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第三
リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ
剤、モノ、ジ、又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はト
リエチルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モ
ノ、ジ又はトリイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジイミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。これらのアルカリ剤の現像液中における含有量は
0.05〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量%であ
る。0.05重量%より少ないと現像が不良となり、10
重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能に悪影響
を及ぼす。
【0031】本発明に係わる感光性平版印刷版を現像す
る現像液は、必要に応じて、特定の有機溶媒を含有して
いてもよい。このような有機溶媒としては、現像液中に
含有せしめたとき上述の感光性組成物層の非露光部(非
画像部)を溶解または膨潤することができ、しかも常温
(20℃)において水に対する溶解度が10重量%以下
の有機溶媒が適当である。具体例としては、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸
ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステ
ル;エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンのようなケトン類;エチレングリコール
モノブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエー
テル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベン
ジルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−ア
ミルアルコール、メチルアミルアルコールのようなアル
コール類;キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水
素;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがあ
る。これらの有機溶媒は単独で用いても二種以上を組み
合わせて用いてもよい。これら有機溶媒の中では、エチ
レングリコールモノフェニルエーテルとベンジルアルコ
ールが特に有効である。また、これら有機溶媒の現像液
中における含有量は、概ね0〜20重量%であり、特に
2〜10重量%のとき、より好ましい結果を得る。
る現像液は、必要に応じて、特定の有機溶媒を含有して
いてもよい。このような有機溶媒としては、現像液中に
含有せしめたとき上述の感光性組成物層の非露光部(非
画像部)を溶解または膨潤することができ、しかも常温
(20℃)において水に対する溶解度が10重量%以下
の有機溶媒が適当である。具体例としては、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸
ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステ
ル;エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンのようなケトン類;エチレングリコール
モノブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエー
テル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベン
ジルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−ア
ミルアルコール、メチルアミルアルコールのようなアル
コール類;キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水
素;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがあ
る。これらの有機溶媒は単独で用いても二種以上を組み
合わせて用いてもよい。これら有機溶媒の中では、エチ
レングリコールモノフェニルエーテルとベンジルアルコ
ールが特に有効である。また、これら有機溶媒の現像液
中における含有量は、概ね0〜20重量%であり、特に
2〜10重量%のとき、より好ましい結果を得る。
【0032】また、本発明に係わる感光性平版印刷版を
現像する現像液は、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を含有
していてもよい。このような水溶性亜硫酸塩としては、
亜硫酸のアルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、
例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチ
ウム、亜硫酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸
塩の現像液組成物における含有量は0〜4重量%で、好
ましくは0.1〜1重量%である。また、上記水溶性亜硫
酸塩の代わりにアルカリ可溶性ピラゾロン化合物、アル
カリ可溶性チオール化合物、又はメチルレゾルシン等の
ようなヒドロキシ芳香族化合物を含有させてもよい。勿
論、これらの化合物と水溶性亜硫酸塩を併用することも
できる。また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化
剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化
剤としては例えば、ポリ燐酸塩やアミノポリカルボン酸
類を挙げることができる。このような硬水軟化剤は使用
される硬水の硬度およびその使用量に応じて最適量が変
化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液中
に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.5重量
%の範囲で含有させられる。
現像する現像液は、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を含有
していてもよい。このような水溶性亜硫酸塩としては、
亜硫酸のアルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、
例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチ
ウム、亜硫酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸
塩の現像液組成物における含有量は0〜4重量%で、好
ましくは0.1〜1重量%である。また、上記水溶性亜硫
酸塩の代わりにアルカリ可溶性ピラゾロン化合物、アル
カリ可溶性チオール化合物、又はメチルレゾルシン等の
ようなヒドロキシ芳香族化合物を含有させてもよい。勿
論、これらの化合物と水溶性亜硫酸塩を併用することも
できる。また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化
剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化
剤としては例えば、ポリ燐酸塩やアミノポリカルボン酸
類を挙げることができる。このような硬水軟化剤は使用
される硬水の硬度およびその使用量に応じて最適量が変
化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液中
に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.5重量
%の範囲で含有させられる。
【0033】また、上述の有機溶媒の水への溶解を助け
るために一定の可溶化剤を含有させることもできる。こ
のような可溶化剤としては、本発明所定の効果を実現す
るため、用いる有機溶媒より水易溶性で、低分子のアル
コール、ケトン類を用いるのがよい。また、アニオン界
面活性剤、両性界面活性剤等も用いる事が出来る。この
ようなアルコール、ケトン類としては、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノーアル、ブタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
メトキシブタノール、エトキシブタノール、4−メトキ
シ−4−メチルブタノール、N−メチルピロリドンなど
を用いることが好ましい。また、界面活性剤としては例
えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、n
−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチル
−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサ
ルフェートナトリウム塩等が好ましい。これらアルコー
ル、ケトン等の可溶化剤の使用量は、一般に現像液全体
に対し約30重量%以下とすることが好ましい。
るために一定の可溶化剤を含有させることもできる。こ
のような可溶化剤としては、本発明所定の効果を実現す
るため、用いる有機溶媒より水易溶性で、低分子のアル
コール、ケトン類を用いるのがよい。また、アニオン界
面活性剤、両性界面活性剤等も用いる事が出来る。この
ようなアルコール、ケトン類としては、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノーアル、ブタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
メトキシブタノール、エトキシブタノール、4−メトキ
シ−4−メチルブタノール、N−メチルピロリドンなど
を用いることが好ましい。また、界面活性剤としては例
えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、n
−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチル
−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサ
ルフェートナトリウム塩等が好ましい。これらアルコー
ル、ケトン等の可溶化剤の使用量は、一般に現像液全体
に対し約30重量%以下とすることが好ましい。
【0034】しかし、有機溶剤等を含有すると、作業時
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安
全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公
害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有
機溶媒を含まないものがさらに好ましい。尚、「実質上
有機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛生、安全性、
作業性等の点からみて不都合を生じる程度までは有機溶
媒を含有しない、の意であり、本発明においては該物質
の組成物中に占める割合が2重量%以下である事を言
い、好ましくは1重量%以下である。このような、実質
上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液として例えば
特開昭59−84241号、特開昭57−192952
号および特開昭62−24263号公報等に記載されて
いる、ポジ型平版印刷版を画像露光後、現像する際に用
いられる現像液組成物を使用することができる。
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安
全性の問題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公
害等の問題、コストの問題等が発生するため、実質上有
機溶媒を含まないものがさらに好ましい。尚、「実質上
有機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛生、安全性、
作業性等の点からみて不都合を生じる程度までは有機溶
媒を含有しない、の意であり、本発明においては該物質
の組成物中に占める割合が2重量%以下である事を言
い、好ましくは1重量%以下である。このような、実質
上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液として例えば
特開昭59−84241号、特開昭57−192952
号および特開昭62−24263号公報等に記載されて
いる、ポジ型平版印刷版を画像露光後、現像する際に用
いられる現像液組成物を使用することができる。
【0035】本発明の感光性組成物を用いた感光性平版
印刷版は、特開昭54−8002号、同55−1150
45号、特開昭59−58431号の各公報に記載され
ている方法で製版処理してもよいことは言うまでもな
い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、ま
たはそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での
処理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施
してもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では、処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されア
ルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時
間運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため
処理能力が低下するが、その際、特開昭54−6200
4号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させ
てもよい。この場合、米国特許第4,882,246 号に記載さ
れている方法で補充することが好ましい。また、上記の
ような製版処理は、特開平2−7054号、同2−32
357号に記載されているような自動現像機で行なうこ
とが好ましい。なお、製版工程の最終工程で所望により
塗布される不感脂化ガムとしては、特公昭62−168
34号、同62−25118号、同63−52600
号、特開昭62−7595号、同62−11693号、
同62−83194号の各公報に記載されているものが
好ましい。
印刷版は、特開昭54−8002号、同55−1150
45号、特開昭59−58431号の各公報に記載され
ている方法で製版処理してもよいことは言うまでもな
い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、ま
たはそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での
処理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施
してもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では、処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されア
ルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時
間運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため
処理能力が低下するが、その際、特開昭54−6200
4号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させ
てもよい。この場合、米国特許第4,882,246 号に記載さ
れている方法で補充することが好ましい。また、上記の
ような製版処理は、特開平2−7054号、同2−32
357号に記載されているような自動現像機で行なうこ
とが好ましい。なお、製版工程の最終工程で所望により
塗布される不感脂化ガムとしては、特公昭62−168
34号、同62−25118号、同63−52600
号、特開昭62−7595号、同62−11693号、
同62−83194号の各公報に記載されているものが
好ましい。
【0036】
【発明の効果】本発明の感光性組成物は、水性アルカリ
現像液に対する現像性が優れ、耐刷性が良く、高温高湿
下に長期間置かれても現像性や汚れ性の劣化がなく貯蔵
安定性に優れている。
現像液に対する現像性が優れ、耐刷性が良く、高温高湿
下に長期間置かれても現像性や汚れ性の劣化がなく貯蔵
安定性に優れている。
【0037】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。 実施例1 99.5%アルミニウムに、銅を0.01%、チタンを0.0
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窯業製)の20重量%水懸
濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)とを
用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウ
ム5重量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が5
g/m2 になるようにエッチングした後、流水で水洗し
た。さらに、1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝
酸水溶液(アルミニウムイオンとして0.5%含有)中
で、陰極時電圧9.3ボルト、陽極時電圧10.5ボルトの
矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−
5796号公報実施例に記載されている電流波形)を用
いて160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化
処理を行った。水洗後、40℃の10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g
/m2 になるようにエッチングした後、水洗した。次に
50℃30%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした
後、水洗した。さらに、35℃20重量%硫酸水溶液
(アルミニウムイオンとして0.8%含有)中で、直流を
用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち
電流密度13A/dm2 で電解を行い、電解時間を調節し
て陽極酸化皮膜重量2.0g/m2 の基板を作った。水洗
後、70℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に30秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。 実施例1 99.5%アルミニウムに、銅を0.01%、チタンを0.0
3%、鉄を0.3%、ケイ素を0.1%含有するJISA1
050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板を、400
メッシュのパミストン(共立窯業製)の20重量%水懸
濁液と、回転ナイロンブラシ(6−10ナイロン)とを
用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。
これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウ
ム5重量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が5
g/m2 になるようにエッチングした後、流水で水洗し
た。さらに、1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝
酸水溶液(アルミニウムイオンとして0.5%含有)中
で、陰極時電圧9.3ボルト、陽極時電圧10.5ボルトの
矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−
5796号公報実施例に記載されている電流波形)を用
いて160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化
処理を行った。水洗後、40℃の10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g
/m2 になるようにエッチングした後、水洗した。次に
50℃30%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした
後、水洗した。さらに、35℃20重量%硫酸水溶液
(アルミニウムイオンとして0.8%含有)中で、直流を
用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち
電流密度13A/dm2 で電解を行い、電解時間を調節し
て陽極酸化皮膜重量2.0g/m2 の基板を作った。水洗
後、70℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に30秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。
【0038】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.5μであった。次
に下記に示す方法でカルボキシル基を導入したポリウレ
タン樹脂(a) を合成した。コンデンサー、かくはん機を
備えた500ml の3つ口丸底フラスコに、2,2−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸11.5g(0.08
60mole) 、ジエチレングリコール7.26g(0.068
4mole)および1,4−ブタンジオール4.11g(0.0
456mole)を加え、N,N−ジメチルアセトアミド1
18gに溶解した。これに、4,4′−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート30.8g(0.123mole)、ヘキサ
メチレンジイソシアネート13.8g(0.0819mole)
および触媒としてジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ0.1
gを添加し、攪拌下、90℃、7時間加熱した。この反
応液に、N,N−ジメチルアセトアミド100ml 、メ
タノール50ml および酢酸50ml を加え、攪拌した
後に、これを水4リットル中に攪拌しながら投入し、白
色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水
にて洗浄後、減圧乾燥させることにより、62gのポリ
マー(ポリウレタン樹脂(a) )を得た。ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定
したところ、重量平均(ポリスチレン標準)で7000
0であった。又滴定によりカルボキシル基含量を測定し
たところ1.12meq /gであった。
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度は0.28で、中心線平均粗さは0.5μであった。次
に下記に示す方法でカルボキシル基を導入したポリウレ
タン樹脂(a) を合成した。コンデンサー、かくはん機を
備えた500ml の3つ口丸底フラスコに、2,2−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸11.5g(0.08
60mole) 、ジエチレングリコール7.26g(0.068
4mole)および1,4−ブタンジオール4.11g(0.0
456mole)を加え、N,N−ジメチルアセトアミド1
18gに溶解した。これに、4,4′−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート30.8g(0.123mole)、ヘキサ
メチレンジイソシアネート13.8g(0.0819mole)
および触媒としてジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ0.1
gを添加し、攪拌下、90℃、7時間加熱した。この反
応液に、N,N−ジメチルアセトアミド100ml 、メ
タノール50ml および酢酸50ml を加え、攪拌した
後に、これを水4リットル中に攪拌しながら投入し、白
色のポリマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水
にて洗浄後、減圧乾燥させることにより、62gのポリ
マー(ポリウレタン樹脂(a) )を得た。ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定
したところ、重量平均(ポリスチレン標準)で7000
0であった。又滴定によりカルボキシル基含量を測定し
たところ1.12meq /gであった。
【0039】次に、下記感光液1をバーコーターを用い
て塗布し、120℃で30秒間乾燥させた。乾燥塗布量
は1.2g/m2であった。 (感光液1) ポリウレタン樹脂(a) 5g 特開昭63-262643 号公報合成例1の高分子量ジアゾ化合物 1g 亜リン酸(本発明のリンの酸素酸化合物) 0.05g 4−スルホフタル酸(本発明のスルホン酸化合物) 0.05g プロパン-1,2,3−トリカルボン酸(本発明のカルホ゛ン酸化合物) 0.05g リン酸トリクレジル 0.25g スチレン−無水マレイン酸共重合体の4−メチル−2− 0.1g ペンタノールによるハーフエステル 下記構造のフッ素化合物 0.03g (C8F17CH2CH2O)1.7PO(OH)1.3 N-ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチル 0.05g アクリレート/ポリオキシプロピレンアクリレート (40/60重量比)共重合体(分子量15,000) 下記構造の化合物 0.5g HOCH2CH2OCONH(CH2)6NHCOOCH2CH2OH 1−メトキシ−2−プロパノール 20g メタノール 40g メチルエチルケトン 40g H2O 1g
て塗布し、120℃で30秒間乾燥させた。乾燥塗布量
は1.2g/m2であった。 (感光液1) ポリウレタン樹脂(a) 5g 特開昭63-262643 号公報合成例1の高分子量ジアゾ化合物 1g 亜リン酸(本発明のリンの酸素酸化合物) 0.05g 4−スルホフタル酸(本発明のスルホン酸化合物) 0.05g プロパン-1,2,3−トリカルボン酸(本発明のカルホ゛ン酸化合物) 0.05g リン酸トリクレジル 0.25g スチレン−無水マレイン酸共重合体の4−メチル−2− 0.1g ペンタノールによるハーフエステル 下記構造のフッ素化合物 0.03g (C8F17CH2CH2O)1.7PO(OH)1.3 N-ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチル 0.05g アクリレート/ポリオキシプロピレンアクリレート (40/60重量比)共重合体(分子量15,000) 下記構造の化合物 0.5g HOCH2CH2OCONH(CH2)6NHCOOCH2CH2OH 1−メトキシ−2−プロパノール 20g メタノール 40g メチルエチルケトン 40g H2O 1g
【0040】感光層塗布後表面に下記組成の液を静電ス
プレーにて塗布し、80℃の雰囲気中に5秒間さらして
乾燥させることにより表面にマット加工を施した。 (スプレー液) メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2− 0.5g アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸 ナトリウム(60/25/15モル比)共重合体 タートラジン 0.01g H2O 100g 各マットの高さは2−6μ、幅は20−150μであ
り、マット全体としては約100個/m2 の数があり、
塗布量0.1g/m2 であった。このようにして得られた
感光性平版印刷版を(1A)とする。比較のため亜リン
酸、4−スルホフタル酸、プロパン−1,2,3−トリ
カルボン酸を感光液から除いた以外は全く同様にして感
光性平版印刷版(1B)を得た。
プレーにて塗布し、80℃の雰囲気中に5秒間さらして
乾燥させることにより表面にマット加工を施した。 (スプレー液) メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2− 0.5g アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸 ナトリウム(60/25/15モル比)共重合体 タートラジン 0.01g H2O 100g 各マットの高さは2−6μ、幅は20−150μであ
り、マット全体としては約100個/m2 の数があり、
塗布量0.1g/m2 であった。このようにして得られた
感光性平版印刷版を(1A)とする。比較のため亜リン
酸、4−スルホフタル酸、プロパン−1,2,3−トリ
カルボン酸を感光液から除いた以外は全く同様にして感
光性平版印刷版(1B)を得た。
【0041】このようにして得られた感光性平版印刷版
(1A)、(1B)を60℃のオーブンに一定期間保存
した後、富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの
距離から1分間画像露光した。さらに次に示す条件で現
像処理を行った。すなわちまず富士写真フィルム(株)
製自現機スタブロン900Nに下記現像液−1と富士写
真フィルム(株)製フィニシャーFN−2をそれぞれ仕
込み、現像液温25℃、現像時間20秒の条件にて現像
処理を行った。 現像液−1 ベンジルアルコール 30g トリエタノールアミン 10g 亜硫酸ナトリウム 5g イソプロピルナフタレンスルホン酸 ナトリウム 10g 水 1000g 得られた平版印刷版(1A)、(1B)をハイデルベル
グ社製印刷機SORにかけて、汚れテスト、耐刷テスト
を行った。結果を表1に示す。ただし汚れテストの結果
は、60℃のオーブンに何日間以上保存した場合に地汚
れが発生したかが表示されており、この日数が長い程貯
蔵安定性が優れていると言える。
(1A)、(1B)を60℃のオーブンに一定期間保存
した後、富士写真フィルム(株)製PSライトで1mの
距離から1分間画像露光した。さらに次に示す条件で現
像処理を行った。すなわちまず富士写真フィルム(株)
製自現機スタブロン900Nに下記現像液−1と富士写
真フィルム(株)製フィニシャーFN−2をそれぞれ仕
込み、現像液温25℃、現像時間20秒の条件にて現像
処理を行った。 現像液−1 ベンジルアルコール 30g トリエタノールアミン 10g 亜硫酸ナトリウム 5g イソプロピルナフタレンスルホン酸 ナトリウム 10g 水 1000g 得られた平版印刷版(1A)、(1B)をハイデルベル
グ社製印刷機SORにかけて、汚れテスト、耐刷テスト
を行った。結果を表1に示す。ただし汚れテストの結果
は、60℃のオーブンに何日間以上保存した場合に地汚
れが発生したかが表示されており、この日数が長い程貯
蔵安定性が優れていると言える。
【0042】
【表1】 表1より本発明の感光性組成物はアルカリ現像可能で
高耐刷力である上に貯蔵安定性が格段に向上しているこ
とがわかる。
高耐刷力である上に貯蔵安定性が格段に向上しているこ
とがわかる。
【0043】実施例2〜6 実施例1のポリウレタン樹脂(a) のかわりに、表2に示
したジイソシアネート、ジオール化合物を用いて、実施
例1と同様にして合成したポリウレタン樹脂(b) 〜(f)
を用い、また亜リン酸、4−スルホフタル酸、プロパン
−1,2,3−トリカルボン酸のかわりに表3に示した
本発明のリンの酸素酸化合物、スルホン酸化合物、カル
ボン酸化合物を用いた以外は実施例1と同様にして感光
性平版印刷版を作成した。ただしアルミニウム支持体に
は、感光液を塗布する前に下記に示す下塗り液を塗布
し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥重量は2mg/m2で
あった。 下塗り液 メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2− 0.02g アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸 ナトリウム(60/25/15モル比)共重合体 メタノール 100g このようにして得られた感光性平版印刷版を実施例1と
同様に現像処理、印刷してテストした結果を表3に示
す。
したジイソシアネート、ジオール化合物を用いて、実施
例1と同様にして合成したポリウレタン樹脂(b) 〜(f)
を用い、また亜リン酸、4−スルホフタル酸、プロパン
−1,2,3−トリカルボン酸のかわりに表3に示した
本発明のリンの酸素酸化合物、スルホン酸化合物、カル
ボン酸化合物を用いた以外は実施例1と同様にして感光
性平版印刷版を作成した。ただしアルミニウム支持体に
は、感光液を塗布する前に下記に示す下塗り液を塗布
し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥重量は2mg/m2で
あった。 下塗り液 メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2− 0.02g アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸 ナトリウム(60/25/15モル比)共重合体 メタノール 100g このようにして得られた感光性平版印刷版を実施例1と
同様に現像処理、印刷してテストした結果を表3に示
す。
【0044】
【表2】
【0045】
【表3】 実施例 リンの酸素酸 スルホン酸化合物 カルホ゛ン酸化合物 汚れ(保 耐 刷 化合物 存日数) 2 リン酸 5-スルホサリチル酸 シュウ酸 5日 6万枚 3 亜リン酸 2-スルホテレフタル酸 酒石酸 5日 7万枚 4 リン酸 4-スルホフタル酸 フ゜ロハ゜ン-1,2,3- 5日以上 8万枚トリカルホ゛ン酸 5 亜リン酸 5-スルホイソフタル酸 リンゴ酸 5日以上 7万枚 6 フェニルホスホン酸 フ゛チルナフタレンスルホン酸 ジピコリン酸 5日 6万枚 以上より本発明の感光性組成物は、アルカリ現像性と耐
刷性を高いレベルで両立させ、かつ貯蔵安定性の改善さ
れたものであることがわかる。
刷性を高いレベルで両立させ、かつ貯蔵安定性の改善さ
れたものであることがわかる。
Claims (1)
- 【請求項1】 ジアゾ樹脂、高分子バインダーを含む感
光性組成物において、該感光性組成物が、リンの酸素酸
基を1個以上有する化合物、及びスルホン酸基を1個以
上有する化合物及びカルボキシル基を2個以上有する化
合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33235191A JPH05165209A (ja) | 1991-12-17 | 1991-12-17 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33235191A JPH05165209A (ja) | 1991-12-17 | 1991-12-17 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05165209A true JPH05165209A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18253994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33235191A Pending JPH05165209A (ja) | 1991-12-17 | 1991-12-17 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05165209A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998038550A1 (fr) * | 1997-02-27 | 1998-09-03 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Solution revelatrice pour plaque de resine photosensible |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59222842A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
| JPS603632A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPS61248037A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
-
1991
- 1991-12-17 JP JP33235191A patent/JPH05165209A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59222842A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
| JPS603632A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPS61248037A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998038550A1 (fr) * | 1997-02-27 | 1998-09-03 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Solution revelatrice pour plaque de resine photosensible |
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