JPH0524907B2 - - Google Patents

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JPH0524907B2
JPH0524907B2 JP60038217A JP3821785A JPH0524907B2 JP H0524907 B2 JPH0524907 B2 JP H0524907B2 JP 60038217 A JP60038217 A JP 60038217A JP 3821785 A JP3821785 A JP 3821785A JP H0524907 B2 JPH0524907 B2 JP H0524907B2
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JP
Japan
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carbon atoms
hydroxy
hydrogen
nitro
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Shuichi Seino
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KEMIPURO KASEI KK
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は紫外線吸収剤として有用な、下記一般
式で示される2−フエニルベンゾトリアゾール
類の製造法に関する。
一般式 (但しR1は水素又は塩素原子、炭素数1〜4
の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
し、R2は水素又は塩素原子、炭素数1〜4の低
級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキシ
ル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、炭素数
1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
キシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアルキル
基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又はア
ルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアルキル
基を表わし、R4は水素又は塩素原子、ヒドロキ
シル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基を表わ
し、R5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基
又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルア
ルキル基を表わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類は
プラスチツク、塗料、油等に添加される紫外線吸
収剤として知られている。
従来、これらの2−フエニルベンゾトリアゾー
ル類は一般式 (但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式に同
じ) で示されるo−ニトロアゾベンゼン誘導体を化学
的又は電解的に還元して製造されている。しかし
従来法は夫々一長一短があつて充分満足し得る方
法ではない。
例えば特公昭37−5934号公報及び米国特許第
3773751号明細書ではo−ニトロアゾベンゼン誘
導体をアルコール性水酸化ナトリウム溶液中、亜
鉛末で化学的に還元して相当する2−フエニルベ
ンゾトリアゾール類を良好な収率で得ているが、
この水酸化ナトリウム−亜鉛系は亜鉛スラツジを
生じる点で排水汚染の問題を含んでいる。
硫化アンモニウム、アルカリスルフイド、亜鉛
−アンモニア系、硫化水素−ナトリウム系及び亜
鉛−塩酸系も米国特許第2362988号明細書に開示
されるように前記還元反応の化学的還元剤として
使用されているが、この方法は多量の亜硫酸塩又
は亜鉛塩を生成するため、排水汚染の問題を生じ
るし、更に亜硫酸塩からは亜硫酸ガスが、また使
用した硫化系還元剤からは有毒な硫化水素が発生
するため、大気汚染の問題にもつながる。
特開昭51−138679号公報及び同51−138680号公
報には加圧水素の添加による還元法か、また特開
昭50−88072号公報にはヒドラジンによる還元法
が記載されているが、これらの方法は収率及び経
済の面で不満足であり、しかも反応中、副反応が
起こる等の理由で目的物を高純度で得ることは不
可能であり、特にこの傾向は塩素原子を含む目的
物を得る場合(この場合は脱塩素反応等の副反応
が起こる)に強い。
本発明の目的は以上の従来技術が内包していた
問題を全て解消し得る2−フエニルベンゾトリア
ゾール類の製造法を提供することである。
本発明者は従来の2−フエニルベンゾトリアゾ
ール類の製造法における前述のような問題を解消
するため、種々検討した結果、(1)一般式のo−
ニトロアゾベンゼン誘導体を水素移動触媒及び塩
基の存在下に糖類で還元するか、或いは(2)一般式
(但しR1,R2,R3,R4,R5は前述の通り) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N
−オキシド類を同様に水素移動触媒及び塩基の存
在下に糖類で還元すれば、一般式の目的物が技
術的にも経済的にも有利に、また公害的にも問題
なく得られることを見出した。
本発明の(1)の方法は温度条件及び糖類の使用量
によつて下記1つ又は2つの工程を経て行なわれ
る。
1工程(下記工程a)の場合: この場合の温度条件は約60〜80℃が適当であ
る。糖類の使用量は式の化合物1モル分子当り
1〜2モル分子が適当である。
2工程(下記工程b及びc)の場合: この場合の温度条件は最初約20〜80℃、ついで
約60〜100℃が適当である。この方法は工程が2
つになるが、1工程の方法よりも品質及び収率の
面で有利になることがある。糖類の使用量は工程
bでは式の化合物1モル分子当り0.5〜0.8モル
分子、また工程Cでは式の化合物1モル分子当
り0.5〜1.5モル分子が適当である。
(なお最初の工程bは触媒の種類にもよるが、
急速、且つ発熱的にも進行する。) 本発明方法は(1)、(2)いずれの場合も反応を円滑
にするため、通常、水溶液又はアルコール類、ト
ルエン、アセトン、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリルのような不活性溶媒、或いは前記不活
性溶媒と水との混合物中で行なわれる。また必要
に応じて更に界面活性剤、相間移動触媒等を添加
してもよい。
本発明の(1)の方法で原料として用いられる一般
式の化合物の具体例としては下記のものが挙げ
られる。
2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t
−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル
−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′,4′−ジヒドロキシアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−4−クロル−2′,4′−ジヒドロキ
シアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−4′−メトキシア
ゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−アミル
アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−ジ−t−アミルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ(α,
α−ジメチルベンジル)アゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−(α,α−ジメチルベンジル)アゾ
ベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−α−メチル
ベンジル−5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−α−メチルベンジル−5′−メチルアゾベンゼ
ン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−n−ドデシ
ルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−n−ドデシルアゾベンゼン 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′−5′−ジ−t
−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
5′−t−オクチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−メチル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5−メチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−n−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4−t−ブチル−2′−ヒドロキシ
−3′−sec−ブチル−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−5′−t−ブチルアゾベンゼン 2−ニトロ−4,6−ジクロル−2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベン 2−ニトロ−4−カルボキシ−2′−ヒドロキシ
−5−メチルアゾベンゼン 本発明の(2)の方法で用いられる一般式の化合
物はたとえば前記一般式の化合物をN−オキシ
ドまで還元することにより得られるが、その具体
例としては次のものが挙げられる。
2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−
N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−アミ
ルフエニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)
ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフエ
ニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフエニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフエニル)ベンゾトリアゾール−N−オキ
シド 2−(2,4−ジヒドロキシフエニル)ベンゾ
トリアゾール−N−オキシド 2−(2,4−ジヒドロキシフエニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフエニル)
ベンゾトリアゾール−N−オキシド 2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ(α,α−
ジメチルベンジル)フエニル〕ベンゾトリアゾー
ル−N−オキシド 2−(2−ヒドロキシ−3−α−メチルベンジ
ル−5−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール−
N−オキシド なおこれら一般式のN−オキシド類は一般式
のo−ニトロアゾベンゼン誘導体を原料として
前記(1)の工程bの方法で作ることが好ましいが、
他の公知の方法で作ることも可能である。
本発明の還元剤、即ち水素原子供与体である糖
類の具体例としてはブドウ糖、果糖、庶糖、乳
糖、麦芽糖等が挙げられるが、中でもブドウ糖が
好ましい。これら糖類の使用量は前述のように(1)
の方法では式のo−ニトロアゾベンゼン誘導体
1モル分子当り1〜2モル分子が適当である。(2)
の方法では式のN−オキシド類1モル分子当り
0.5〜1.5モル分子が適当である。
水素移動触媒は還元剤の水素を受け入れて更に
被還元物質に水素を与えるか、或いは被還元物質
に水素を与え、次に還元剤により水素を受け取つ
て触媒的に作用する物質である。その具体例とし
ては2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノン;
1,4−ナフトキノン;1,2−ナフトキノン;
2,6−ナフトキノン;核にアルキル基又はアル
コキシル基を持つナフトキノン;1,4−ベンゾ
キノン;2−クロル−1,4−ベンゾキノン;
2,3−ジクロル−5,6−ジシアノベンゾキノ
ン;クロルアニル;テトラクロル−1,2−ベン
ゾキノン;4,4′−ジフエノキノン;3,3′,
5,5′−テトラクロル−4,4′−ジフエノキノ
ン;フエナントレンキノン;アントラキン;アル
キル基、アルコキシル基、ハロゲン原子、アミノ
基、カルボキシル基又はスルホン酸基で置換され
たアントラキノン;ベンゾフエノン;アルキル
基、アルコキシル基、ハロゲン原子又は水酸基で
置換されたベンゾフエノン;ベンズアントロン;
アントロン;9−フルオレノン;9−キサンテノ
ン、更には上記キノンに対応するハイドロキノン
(例えば2,3−ジクロル−1,4−ナフトキノ
ンの場合は2,3−ジクロル−1,4−ジオキシ
ナフタレン)等が挙げられるが、中でも2,3−
ジクロル−1,4−ナフトキノン、ベンゾキノ
ン、アントラキノン、9−フルオレノン、ベンズ
アントロン、ハイドロキノン、1,4−ジヒドロ
キシナフタレンが好ましい。以上の水素移動触媒
は2種以上混合して使用してもよく、むしろ好ま
しい場合がある。
以上のような(1)及び(2)の方法において水素移動
触媒の使用量は一般式のo−ニトロアゾベンゼ
ン誘導体の重量に対し0.2〜30%が適当であり、
好ましくは2〜20%である。また出発原料として
一般式のN−オキシド類を使用する場合もN−
オキシド類の重量に対し0.2〜30%、好ましくは
2〜20%である。
塩基としては水酸化ナトリウム又は水酸化カリ
ウムが好ましい。その使用量は一般式のo−ニ
トロアゾベンゼン誘導体又は一般式のN−オキ
シド類1モル分子に対し、各々1〜12モル分子が
適当であり、好ましくは2〜8モル分子である。
以下に本発明を実施例によつて説明する。
実施例 1 メタノール41g、水10g、97%苛性ソーダ11g
の混合物に2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,
5′−ジ−t−アミルアゾベンゼン12.8gを加え、
65℃で30分間撹拌後、9−フルオレノン2.0gに
ついで60〜65℃の温度でブドウ糖12gを4時間に
亘つて加え、更に沸点(70℃)で4時間撹拌反応
すると還元反応が終了した。
その後水50mlを加え、62%硫酸13gで中和し、
20℃に冷却、析出した結晶を過により分離、充
分水洗してからメタノールで洗浄して乾燥すると
9.9gの収量で2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
−t−アミルフエニル)ベンゾトリアゾールを得
た。
収率85.0% 融点77〜79℃ 実施例 2 メタノール100mlに97%苛性ソーダ9.6gを加
え、65℃で30分間撹拌後、50℃に冷却し、2−ニ
トロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブ
チル−5′−メチルアゾベンゼン11.6gを30分間に
亘つて加えた後、2,3−ジクロル−1,4−ナ
フトキノン0.7g及びついで40〜45℃の温度でブ
ドウ糖8gを1時間に亘つて加え、更に40〜45℃
で1時間撹拌すると、アゾベンゼンの殆んどが消
失して2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−
5−メチルフエニル)−5−クロルベンゾトリア
ゾール−N−オキシドが生成し、工程bの反応が
終了した。
次に工程cの反応を行なうため、昇温して64〜
67℃で2時間撹拌すると、N−オキシドが消失
し、工程cの反応が終了した。その後、反応液に
水50mlを加え、62%硫酸11gで中和し、析出した
結晶を過により分離し、60〜70℃の温水で充
分、洗浄後、更に少量のメタノールで洗浄して乾
燥すると、9.4gの収量で2−(2−ヒドロキシ−
3−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5−ク
ロルベンゾトリアゾールを得た。収率89.5%、融
点138〜140℃。
実施例 3 2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−
3′−t−ブチル−5′−メチルアゾベンゼン11.6g
の代りに(イ)2−ニトロ−4−クロル−2′−ヒドロ
キシ−3′,5′−ジ−t−ブチルアゾベンゼン13.0
g及び(ロ)2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−3′,5′−
ジ−t−アミルアゾベンゼン12.8gを夫々使用し
た他は実施例2と同じ方法を繰返し、夫々下記結
果を得た。
(イ) 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブ
チルフエニル)−5−クロルベンゾトリアゾー
ル:収量10.5g、収率88.0%、融点154〜155.5
℃。
(ロ) 2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ア
ミルフエニル)ベンゾトリアゾール:収量10.1
g、収率86.0%、融点77〜79℃ 実施例 4 メタノール60ml及び水20mlの混合物に97%苛性
ソーダ8.2gを加えて溶解後、50〜60℃で2−ニ
トロ−4−クロル−2′−ヒドロキシ−3′−t−ブ
チル−5′−メチルアゾベンゼン11.6gを撹拌下に
30分間に亘つて加え、更に2,3−ジクロル−
1,4−ナフトキノン0.3g及び9−フルオレノ
ン0.4gを加えた後、40〜50℃の温度でブドウ糖
8gを2時間に亘つて加え、同温度で1時間撹拌
すると、アゾベンゼンの殆んどが消失して2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロルベンゾトリアゾール−N
−オキシドが生成し、工程bの反応が終了した。
次に工程cの反応を行なうため昇温して66〜68
℃(沸点)で5時間撹拌すると、N−オキシドが
殆んど消失して工程cの反応が終了した。反応液
に水50mlを加え、62%硫酸10gで中和し、析出し
た結晶を過により分離し、60〜70℃の温水で充
分洗浄後、更に少量のメタノールで洗浄し、乾燥
すると、8.7gの収量で2−(2−ヒドロキシ−3
−t−ブチル−5−メチルフエニル)−5−クロ
ルベンゾトリアゾールを得た。収率82.9%、融点
138〜140℃。
実施例 5 水70ml、97%苛性ソーダ5.2g、2−ニトロ−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾベンゼン12.9g
及びトルエン10mlを混合して60℃に昇温、撹拌
後、ハイドロキノン0.6gを加えてから、40〜45
℃の温度でブドウ糖5.0gを1時間で加え、更に
2時間撹拌すると、アゾベンゼンが消失し、工程
bの反応が終了した。反応液62%硫酸5.8gで中
和し、20℃に冷却し析出した結晶を過により分
離し、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニ
ル)ベンゾトリアゾール−N−オキシドの湿潤品
12g(乾燥品で10.8g、収率90.0%、融点138〜
140℃)を得た。
次にこの湿潤品12gにメタノール60ml、水30
ml、97%苛性ソーダ13.0g及び9−フルオレノン
0.5gを加え、更に50〜55℃で撹拌下にブドウ糖
5.5gを1時間に亘つて加えた後、75℃(沸点)
で5時間撹拌して反応させると、N−オキシドが
消失し、工程cの反応が終了した。反応液を62%
硫酸19.8gで中和(PH8)し、析出した結晶を
過により分離し、充分水洗後、更にメタノールで
洗浄乾燥すると、9.4gの収量で2−(2−ヒドロ
キシ−5−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール
を得た。収率92.8%、融点128〜130℃。
実施例 6 9−フルオレノン0.5gの代りに(イ)ベンズアン
トロン1.0g、(ロ)ベンゾフエノン1.5g及び(ハ)アン
トロン1.0gを夫々用いた他は実施例5と同じ方
法を繰返し、夫々下記収量で2−(2−ヒドロキ
シ−5−メチルフエニル)ベンゾトリアゾールを
得た。
(イ) 9.0g、収率88.8%、融点128〜130℃ (ロ) 8.0g、収率78.9%、融点127.5〜130℃。
(ハ) 8.2g、収率80.9%、融点128〜130℃。
実施例 7 メタノール72ml及び水36mlの混合物に97%苛性
ソーダ14.4g加えた後、2−ニトロ−2′−ヒドロ
キシ−5′−t−ブチルアゾベンゼン15.0gを加
え、45〜50℃に昇温し、ハイドロキノン0.4g及
びついでブドウ糖5.0gを撹拌下に30分間に亘つ
て加え、更に1時間撹拌すると、アゾベンゼンが
消失して2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチル
フエニル)ベンゾトリアゾール−N−オキシドが
生成し、工程bの反応が終了した。
次に反応液に9−フルオレノン0.7gを加え、
55〜60℃に昇温した後、ブドウ糖6.0gを30分間
に亘つて加え、75℃(沸点)で6時反応させる
と、N−オキシドが消失して工程cの反応が終了
した。次に62%硫酸19.0gで反応液のPHを8と
し、析出した結晶を過により分離し、水洗後、
メタノールで充分、洗浄し、乾燥すると、2−
(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフエニル)ベ
ンゾトリアゾールが11.6gの収量で得られた。
実施例 8 2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチル
アゾベンゼン15.0gの代りに2−ニトロ−2′−ヒ
ドロキシ−5′−t−オクチルアゾベンゼン17.7g
を用いた他は実施例7と同じ方法を繰返し、2−
(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフエニル)
ベンゾトリアゾールが13.7gの収量で得られた。
収率85.0%、融点103〜105℃。
実施例 9 メタノール60ml、水30ml、97%苛性ソーダ12.4
g及び2−ニトロ−2′−ヒドロキシ−5′−メチル
アゾベンゼン12.9gの混合物を45〜50℃に昇温撹
拌し、9−フルオレノン1.0gを加え、引続きブ
ドウ糖5.5gを30分間に亘つて加え、更に75℃
(沸点)で7時間撹拌反応させると、アゾベンゼ
ンが消失し、工程bの反応が終了した。
次に反応液にブドウ糖6gを30分間で加え、更
に6時間75℃(沸点)で反応させると、N−オキ
シドが消失し、工程cの反応が終了した。反応液
に水50mlを加え、62%硫酸15gで中和し、析出し
た結晶を過により分離し、充分水洗した後、メ
タノールで洗浄し乾燥すると、2−(2′−ヒドロ
キシ−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール
が9.6gの収量で得られた。収率85.0%、融点128
〜130℃。
なお、比較のため実施例5のブドウ糖に代え、
イソプロピルアルコール(比較例1)、エタノー
ル(比較例2)及びヒドラジノヒドラート(比較
例3)を用いて同様に実施した例を次に挙げる。
比較例 1 水70ml及び苛性ソーダ5.2g、2−ニトロ−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾベンゼン12.9g
とトルエン10mlを混合して60℃に昇温撹拌後、ハ
イドロキノン0.6gを加え、温度を40〜45℃とし
てから、イソプロピルアルコール60mlを1時間か
けて加え、更に2時間撹拌反応後、水50mlを加
え、62%硫酸5.8gで中和し、20℃に冷却し析出
した結晶を吸引濾過し、洗浄乾燥して9.5gの2
−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル)ベン
ゾトリアゾール−N−オキシドを得た。収率79.2
%、融点138〜140℃であつた。
次に上記反応で得た2−(2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール−N−
オキシド9.5gに、メタノール60ml、水30ml、97
%苛性ソーダ43.0g及び9−フルオレノン0.5g
を加え、50〜55℃で撹拌下イソプロピルアルコー
ル60mlを1時間かけて加えた後、75℃で5時間、
撹拌反応後、62%硫酸でPH8に中和し、析出した
結晶を濾過分離、水洗後更にメタオールで洗浄乾
燥して、2(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニ
ル)ベンゾトリアゾール9.2gを得た。収率90.8
%、融点128〜130℃であつた。
総合収率は71.9%である。
比較例 2 水70ml及び98%苛性ソーダ5.2g、2−ニトロ
−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾベンゼン12.9
gとトルエン10mlを混合して60℃に昇温撹拌後、
ハイドロキノン0.6gを加え、温度を40〜45℃と
してから、エタノール60mlを1時間かけて加え、
更に2時間撹拌反応後、水50mlを加え、62%硫酸
5.8gで中和し、20℃に冷却し析出した結晶を吸
引濾過分離、洗浄乾燥して9.9gの2−(2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾー
ル−N−オキシドを得た。収率82.5%、融点138
〜140℃であつた。
次に上記反応で得た2−(2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール−N−
オキシド9.9gに、メタノール60ml、水30ml、97
%苛性ソーダ13.0g及び9−フルオレノン0.5g
を加え、50〜55℃で撹拌下エタノール60mlを1時
間かけて加えた後、75℃で5時間、撹拌反応後、
62%硫酸でPH8に中和し、析出した結晶を濾過分
離、水洗後更にメタオールで洗浄乾燥して、2−
(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル)ベンゾ
トリアゾール8.9gを得た。収率87.9%、融点128
〜130℃であつた。
総合収率は72.5%である。
比較例 3 水70ml及び97%苛性ソーダ5.2g、2−ニトロ
−2′−ヒドロキシ−5′−メチルアゾベンゼン12.9
gとトルエン10mlを混合して60℃に昇温、撹拌
後、ハイドロキノン0.6gを加え、温度を40〜45
℃としてから、80%ヒドラジツト2gを1時間か
けて加え、更に1時間撹拌反応後、水50mlを加
え、62%硫酸5.8gで中和し、20℃に冷却し析出
した結晶を濾過分離、乾燥して2−(2′−ヒドロ
キシ−5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール
−N−オキシド10.5gを得た。収率87.5%、融点
138〜140℃であつた。
次に上記反応で得た2−(2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール−N−
オキシド10.5gに、メタノール60ml、水30ml、97
%苛性ソーダ13.0g及び9−フルオレノン0.5g
を加え、50〜55℃で撹拌下80%ヒドラジツトヒド
ラート2gを1時間かけて加えた後、75℃で5時
間、撹拌反応後、62%硫酸でPH8に中和し、析出
した結晶を濾過分離、水洗後更にメタノールで洗
浄乾燥して、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチル
フエニル)ベンゾトリアゾール8.9gを得た。収
率87.9%、融点128〜130℃であつた。
総合収率は76.7%である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (但しR1は水素又は塩素原子、炭素数1〜4
    の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
    シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
    し、R2は水素又は塩素原子、炭素数1〜4の低
    級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキシ
    ル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、炭素数
    1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
    キシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアルキル
    基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又はア
    ルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアルキル
    基を表わし、R4は水素又は塩素原子、ヒドロキ
    シル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基を表わ
    し、R5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基
    又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルア
    ルキル基を表わす。) で示されるo−ニトロアゾベンゼン誘導体を水素
    移動触媒及び塩基の存在下、糖類で還元すること
    を特徴とする一般式 (但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式に同
    じ) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類の
    製造法。 2 一般式 (但しR1は水素又は塩素原子、炭素数1〜4
    の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アルコキ
    シル基、カルボキシル基又はスルホン酸基を表わ
    し、R2は水素又は塩素原子、炭素数1〜4の低
    級アルキル基又は炭素数1〜4の低級アルコキシ
    ル基を表わし、R3は水素又は塩素原子、炭素数
    1〜12のアルキル基、炭素数1〜4の低級アルコ
    キシル基、フエニル基、炭素数1〜8のアルキル
    基で置換されたフエニル基、フエノキシ基又はア
    ルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルアルキル
    基を表わし、R4は水素又は塩素原子、ヒドロキ
    シル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基を表わ
    し、R5は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基
    又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフエニルア
    ルキル基を表わす。) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール−N
    −オキシド類を水素移動触媒及び塩基の存在下、
    糖類で還元することを特徴とする一般式 (但しR1,R2,R3,R4,R5は一般式に同
    じ) で示される2−フエニルベンゾトリアゾール類の
    製造法。
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