JPH052696B2 - - Google Patents

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JPH052696B2
JPH052696B2 JP59098363A JP9836384A JPH052696B2 JP H052696 B2 JPH052696 B2 JP H052696B2 JP 59098363 A JP59098363 A JP 59098363A JP 9836384 A JP9836384 A JP 9836384A JP H052696 B2 JPH052696 B2 JP H052696B2
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stabilizer
carbon atoms
group
acid
compound
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Manji Sasaki
Haruki Okamura
Chineto Ebina
Tamaki Ishii
Shinichi Yago
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication of JPH052696B2 publication Critical patent/JPH052696B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37Thiols
    • C08K5/372Sulfides, e.g. R-(S)x-R'
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13Phenols; Phenolates
    • C08K5/134Phenols containing ester groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37Thiols
    • C08K5/378Thiols containing heterocyclic rings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は高分子に対してすぐれた安定性を付与
する高分子用安定剤に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレ
フイン、ポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン、
ABSなどのスチレン系合成樹脂、ポリアセター
ル、ポリアミドなどのエンジニヤリングプラスチ
ツク、さらにはポリウレタンなどの各種の高分子
は各種の分野において広く使用されているが、こ
れらの高分子をそれ単独で用いる時は、加工時ま
たは使用時において熱、光および酸素の作用によ
り劣化し、軟化、脆化、表面亀裂または変色など
の現象を伴つてその機械的物性が著しく低下する
等その安定性に問題があることはよく知られてい
る。 このような問題を解消する目的で、従来より各
種のフエノール系、リン系、イオウ系などの酸化
防止剤を高分子の製造、加工工程中に添加し、使
用することもよく知られており、例えば、2,6
−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノール、2,
2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フエノール)、4,4′−ブチリデンビス(3−メ
チル−6−t−ブチルフエノール)、n−オクタ
デシル、3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフエニル)プロピオネート、1,1,3
−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t
−ブチルフエニル)ブタン、ペンタエリスリトー
ル、テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネート)、
および3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロパノールとテレフタール酸
とのエステルなどのフエノール系酸化防止剤を単
独で用いたり、これらのフエノール系酸化防止剤
とトリス(ノニルフエニル)ホスフアイト、ジス
テアリルペンタエリスリトールジホスフアイトな
どのリン系酸化防止剤とを併用したり、あるいは
前記のフエノール系酸化防止剤とジラウリルチオ
ジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオ
ネート、ジステアリルチオジプロピオネートなど
のイオウ系酸化防止剤とを併用する方法などが知
られている。 しかし、これらの方法は熱および酸化安定性、
耐熱変色性および蒸散性などの点でまだ十分満足
すべきものではない。 また、プタエリスリトール テトラキス(3−
(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシフエニル)
プロピオネート)とペンタエリスリトール テト
ラキス(3−アルキルチオプロピオネート)とか
らなる安定剤が提案(特開昭59−20337号公報)
されているが、この安定剤は、従来のものと比べ
るとかなり優れてはいるが、熱および酸化安定
性、耐熱変色性などの点で、必ずしも十分満足さ
れるものではなく、より高性能の安定剤の出現が
望まれていた。 本発明者らは、これらの点に解決を与えるべく
鋭意検討の結果、特定のフエノール系化合物と特
定のイオウ系化合物の特定の割合からなる混合物
が、高分子に対して今までの酸化防止剤同志の組
み合せ技術からは予測できない優れた熱および酸
化安定性を付与することを見い出し、本発明を完
成した。 すなわち本発明は、一般式() (式中、R1は炭素数1〜9のアルキル基を、R2
は炭素数1〜3のアルキル基を、R3は水素原子
またはメチル基を示し、xは2〜6の整数を、y
は1〜10の整数を示し、Aはxが2の場合は単な
る結合であつても良い2〜6価のカルボン酸残基
を示す。) で示されるフエノール系化合物の少なくとも1種
と、一般式(−1) (式中、R4は炭素数4〜20のアルキル基を示
す。) および一般式(−2) (式中、R5は炭素数3〜18のアルキル基を、R6
およびR7は各々独立に水素原子または炭素数1
〜6のアルキル基を示す。) で示される化合物から選ばれる少なくとも1種の
イオウ系化合物()が():()=1:0.5〜
15(重量比)の割合からなる混合物を有効成分と
する高分子用安定剤を提供するものである。 本発明の一般式()で示されるフエノール系
化合物は下記の一般式() (式中、R1、R2、R3およびyは前記と同じ意味
を示す。) で示されるヒドロキシフエニルアルカノール類と
一般式() (式中、x、Aは前記と同じ意味を示す。) で示される多価のカルボン酸類、もしくはその酸
ハロゲン化物、酸無水物あるいは混合酸無水物等
との通常のエステル化反応で製造するか、あるい
はその低級アルキルエステルとの通常のエステル
交換反応によつて製造することができ、その場合
は特公昭45−38416号公報、特開昭47−7313号公
報、特開昭50−134987号公報などに記載の方法を
参考とすることができる。 かかる一般式()で示されるヒドロキシフエ
ニルアルカノール類において、置換基R1として
はメチル基、エチル基、プロピル基、n−または
t−ブチル基、2,2−ジメチルプロピル基、ヘ
キシル基、2,2,4,4−テトラメチルペンチ
ル基などが例示でき、置換基R2としてはメチル
基、エチル基、イソプロピル基などが例示でき
る。置換基(―CyH2y)―としては、メチレン基、
エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン
基、ヘプタメチレン基、2,2−ジメチルトリメ
チレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン
基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメ
チレン基などが例示される。 一般式()で示されるヒドロキシフエニルア
ルカノール類の具体的化合物としては 4−ヒドロキシ−3−メチル−5−(1,1−
ジメチルプロピル)フエニルメタノール 3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−4−(1,
1,2,2−テトラメチルプロピル)フエニルメ
タノール 2−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−(1,
1−ジメチルブチル)フエニル)エタノール 2−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
エチルフエニル)エタノール 2−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−(1,
1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル)フ
エニル)−1−メチルエタノール 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフエニル)プロパノール 3−(3−t−ブチル−5−エチル−4−ヒド
ロキシフエニル)プロパノール 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
イソプロピルフエニル)プロパノール 3−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)フエニル)プ
ロパノール 3−(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,
6−ジメチルフエニル)プロパノール 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフエニル)−2,2−ジメチルプロパノー
ル 4−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−(1,
1−ジメチルヘキシル)フエニル)ブタノール 5−(3−t−ブチル−5−エチル−4−ヒド
ロキシフエニル)ペンタノール 6−(4−ヒドロキシ−3−イソプロピル−5
−(1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキ
シル)フエニル)ヘキサノールなどが例示され
る。 また一般式()で示される2〜6価の多価カ
ルボン酸としては下記a〜eのグループが例示さ
れる。 (a) カルボン酸残基Aが炭素数1〜18の非環状脂
肪族基である多価カルボン酸類。 具体化合物としてはマロン酸、マレイン酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、
テトラデカン−1,14−ジカボン酸、オクタデ
カン−1,18−ジカルボン酸、6−エチル/ド
デカン−1,12−ジカルボン酸、7−エチル/
ヘキサデカン−1,16−ジカルボン酸、ブタン
−1,2,3,4−テトラカルボン酸、テトラ
デカン−1,6,7,8,9,14−ヘキサカル
ボン酸などがあげられる。 (b) カルボン酸残基Aが単なる結合である2価の
カルボン酸。具体化合物としてシユウ酸があげ
られる。 (c) カルボン酸残基Aが炭素数5〜16の環状脂肪
族基である多価カルボン酸類。 具体化合物としては1,2−シクロペンタン
ジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジ酢
酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,1
−シクロヘキサンジ酢酸、1,1−シクロトリ
デカンジ酢酸、5−ノルボルネン−2,3−ジ
カルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサン
テトラカルボン酸などがあげられる。 (d) カルボン酸残基Aが炭素数6または10の芳香
族基である多価カルボン酸類。 具体化合物としては、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、1,2,3−ベンゼントリ
カルボン酸、1,2,4−ベンゼントリカルボ
ン酸、1,3,5−ベンゼントリカルボン酸、
1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸、
1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナ
フタレンジカルボン酸、1,4,5,8−ナフ
タレンテトラカルボン酸などがあげられる。 (e) カルボン酸残基Aが、側鎖または主鎖に芳香
族基を含有した脂肪族基であつて、脂肪族部分
の炭素数が1〜16である多価カルボン酸類 具体化合物としてはフエニルマロン酸、o−
フエニレンジ酢酸、m−フエニレンジ酢酸、p
−フエニレンジ酢酸、7,8−ジフエニルテト
ラデカン−1,14−ジカルボン酸などがあげら
れる。 本発明の一般式()で示されるフエノール系
化合物は上記のような一般式()で示される。
ヒドロキシフエニルアルカノール類と一般式
()で示される多価カルボン酸もしくはその誘
導体との反応により製造されるものであるが、そ
の具体例を表に示す。 ここで表中、
【式】は
【式】を、
【式】は
【式】を
【式】は
【式】を、
【式】は
【式】をそれぞれ現わ す。 また一般式(−1)で示されるイオウ系化合
物において置換基R4は炭素数6〜18のアルキル
基が好ましく、とりわけドデシル基が最も好まし
い。 かかる化合物の代表例を表−2に示す。
【表】 また、一般式(−2)で示される化合物にお
いて、置換基R5は炭素数12〜18のアルキル基が、
またR6およびR7は水素原子もしくは炭素数1〜
3のアルキル基が好ましい。 かかる化合物の代表例を表−3に示す。
【表】 本発明の合成樹脂用安定剤は前記した一般式
()で示されるフエノール系化合物()と一
般式(−1)および(−2)で示される化合
物から選ばれる少なくとも1種のイオウ系化合物
()混合物からなるが、その混合割合は重量比
で():()=1:0.5〜15、好ましくは1:1
〜10さらに好ましくは1:2〜6である。 ここで、イオウ系化合物()がフエノール系
化合物に対して0.5重量倍未満では目的とする効
果が十分に得られ難く、また15重量倍を越えても
それに見合うだけの効果が得難く、経済的にも不
利となる。 本発明の安定剤の使用にあたり、高分子への配
合量は、高分子100重量部に対して通常0.01〜5
重量部、好ましくは0.05〜1重量部である。ま
た、使用に際してはフエノール系化合物()お
よびイオウ系化合物()をあらかじめ混合する
ことなくそれぞれを別個に合成樹脂に配合しても
よい。 高分子への配合方法としては、高分子中に安定
剤、顔料、充填剤等を混合配合するための公知の
装置および操作法がほとんどそのまま適用でき
る。 本発明の高分子用安定剤を使用するにあたつて
は、他の添加剤、たとえば紫外線吸収剤、光安定
剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、金属石ケン
類、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料お
よび充填剤などを併用してもよい。 とりわけ光安定剤を併用することによつてその
耐光性を改善することができる。これらの光安定
剤としては、例えば2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4−n−オ
クトキシベンゾフエノン、2,2′−ジ−ヒドロキ
シ−4,4′−ジ−メトキシベンゾフエノン等のベ
ンゾフエノン系化合物、2−(2−ヒドロキシ−
5−メチルフエニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチル
フエニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2
−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフ
エニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−t−ブチルフエニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−アミルフエニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オ
クチルフエニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチル
ベンジルノフエニル)ベンゾトリアゾール等のベ
ンゾトリアゾール系化合物、フエニル、サリシレ
ート、p−t−ブチルフエニル サリシレート、
2,4−ジ−t−ブチルフエニル 3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキ
サデシル 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンゾエート等のベンゾエート系化合物、
N,N−ジブチルジチオカルバミン酸のNi塩、
〔2,2′−チオビス(4−t−オクチルフエノラ
ート)〕−ブチルアミンNi錯体、(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ホスホン酸
モノエチルエステルNi塩等のNi系化合物、2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル ベ
ンゾエート、ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)セバケート、2−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−
2−n−ブチルマロン酸ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)、1−(2−(3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
エニル)プロピオニルオキシ)エチル)−4−(3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
エニル)プロピオニルオキシ)−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチルと
1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合
物、ジハロアルキレンとN,N′−ビス(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジル)アルキレンジ
アミンとの反応物、2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジン類とN,N′−ビス(2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)アルキレンジアミ
ンとの反応物等のヒンダードピペリジン系化合
物、α−シアノ−β,β−ジフエニルアクリル酸
エチル、α−シアノ−β−メチル−β−(p−メ
トキシフエニル)アクリル酸メチル等のアクリロ
ニトリル系化合物、およびN−2−エチルフエニ
ル−N′−2−エトキシ−5−t−ブチルフエニ
ルシユウ酸ジアミド、N−2−エチルフエニル−
N′−2−エトキシフエニルシユウ酸ジアミド等
のシユウ酸ジアミド系化合物が例示される。 また、ホスフアイト系酸化防止剤を添加するこ
とによつて、その色相を改善することができる。
これらのホスフアイト系酸化防止剤としては、た
とえばトリスノニルフエニルホスフアイト、ジス
テアリルペンタエリスリトールジホスフアイト、
トリス(2,4−ジ−t−ブチルフエニル)ホス
フアイト、トリス(2−t−ブチル−4−メチル
フエニル)ホスフアイト、ビス(2,4−ジ−t
−ブチルフエニル)ペンタエリスリトールジホス
フアイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル
フエニル) 4,4′−ビフエニレンジホスフオナ
イトなどがあげられる。 かくして、本発明の安定剤を用いることによ
り、高分子の安定性は非常に向上するが、かかる
高分子としては低密度ポリエチレン、高密度ポリ
エチレン、リニヤー低密度ポリエチレン、塩素化
ポリエチレン、EVA樹脂、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、メタクリル樹脂、ポリスチレン、
耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、AES樹脂、
MBS樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウ
レタン、不飽和ポリエステル樹脂、更に、天然ゴ
ム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブ
タジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂
のブレンド品などが挙げられ、特にポリプロピレ
ンに有効である。 次に実施例をあげて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。 実施例中の供試化合物のうちAO−1〜AO−
8の化合物は表−4に示すものであり、これ以外
のものは表1〜3に記載のものである。
【表】
【表】 参考例 1(化合物No.1の製造例) 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフエニル)−2,2−ジメチルプロパノー
ル19.62g(0.078モル)、アジピン酸ジメチル5.75
g(0.033モル)、ジメチルホルムアミド20mlの混
合物にナトリウムメトキシド0.54g(0.010モル)
を加え、撹拌しながら140℃まで昇温し、2時間
反応させた。その後、徐々に減圧しながら溶媒を
留去し、反応を完結させた。 得られた反応混合物をトルエンで希釈し、触媒
を中和・洗浄後溶媒を留去し、n−ヘキサン−酢
酸エチルから再結晶することにより、白色の結晶
であるアジピン酸ビス(3−(3−t−ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)−2,2
−ジメチルプロピル)11.2gを得た。 融 点 111〜112℃ 質量分析値(FD−マス) 611(M+1)+ プロトンNMR(CDCl3/TMS)δ0.90(s.12H) δ1.39(s.18H) δ1.7(m.4H) δ2.21(s.6H) δ2.4(m.4H) δ2.47(s.4H) δ3.76(s.4H) δ4.58(s.2H) δ6.76(s.2H) δ6.87(s.2H) 参考例 2(化合物No.2の製造例) 参考例1におけるアジピン酸ジメチルのかわり
にセバシン酸ジメチル7.60g(0.033モル)を用
いること以外は参考例1と同様に操作するによ
り、白色結晶セバシン酸ビス(3−(3−t−ブ
チル−4−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)−
2,2−ジメチルプロピル)13.2gを得た。 融 点 95〜96℃ 質量分析値(FD−マス) 667(M+1)+ プロトンNMR(CDCl3/TMS)δ0.89(s.12H) δ1.39(s.18H) δ1.5(m.12H) δ2.20(s.6H) δ2.4(m.4H) δ2.47(s.4H) δ3.75(s.4H) δ4.64(s.2H) δ6.74(s.2H) δ6.86(s.2H) 参考例 3(化合物No.3の製造例) 参考例1において、アジピン酸ジメチルのかわ
りにテレフタル酸ジメチル6.41g(0.033モル)
を用いる以外は参考例1と同様に反応を行い、得
られた反応混合物をクロロホルムで希釈し、中
和、水洗後溶媒を留去し、再結晶することにより
白色結晶テレフタル酸ビス(3−(3−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)−2,
2−ジメチルプロピル)7.3gを得た。 融 点 192〜193℃ 質量分析値(FD−マス) 631(M+1)+ プロトンNMR(CDCl3/TMS)δ0.99(s.12H) δ1.34(s.18H) δ2.16(s.6H) δ2.58(s.4H) δ4.00(s.4H) δ4.58(s.2H) δ6.74(s.2H) δ6.87(s.2H) δ8.08(s.4H) 実施例 1 下記配合物をミキサーで5分間混合したあと、
180℃のミキシングロールで溶融混練して得られ
たコンパウンドを210℃の熱プレスで厚さ0.5mmの
シートに成形し、40×40×0.5mmの試験片を作成
した。155℃のギヤーオーブン中で試験片面積の
30%が脆化するまでの時間を測定し、これを熱脆
化誘導期とし、熱および酸化安定性を評価した。
その結果を表−5に示す。 <配合> 未安定化ポリプロピレン樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.1 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノール
0.2 供試化合物フエノール系 0.05 イオウ系 0.15
【表】
【表】 実施例 2 グラフトABSラテツクスに、表−6に示す供
試化合物をアニオン系界面活性剤でビーズ解コウ
させたサスペンジヨンを表−6に示すとおり所定
量添加した。(添加量は樹脂固型分100重量部あた
りの供試化合物重量である)次いで常法に従い硫
酸マグネシウム水溶液で塩析し、過・水洗後乾
燥し、得られたABS樹脂パウダーを220℃で押し
出し加工してペレツトを作成し、このペレツトを
用い250℃でインジエクシヨン加工してJIS
K71111に規定した1号試験片を作製した。この
試験片の150℃ギヤーオーブン中で10時間熱老化
した後のABS樹脂変色度を、未熱処理の無添加
ABS試験片との色差△YIで示した。さらに試験
片のシヤルピー衝撃値を測定した。 結果を表−6に示す。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中、R1は炭素数1〜9のアルキル基を、R2
    は炭素数1〜3のアルキル基を、R3は水素原子
    またはメチル基を示し、xは2〜6の整数を、y
    は1〜10の整数を示し、Aはxが2の場合は単な
    る結合であつてもよい2〜6価のカルボン酸残基
    を示す。) で示されるフエノール系化合物の少なくとも1種
    と、一般式(−1) (式中、R4は炭素数4〜20のアルキル基を示
    す。) および一般式(−2) (式中、R5は炭素数3〜18のアルキル基を、R6
    およびR7は各々独立に水素原子または炭素数1
    〜6のアルキル基を示す。) で示される化合物から選ばれる少なくとも1種の
    イオウ系化合物()が():()=1:0.5〜
    15(重量比)の割合からなる混合物を有効成分と
    する高分子用安定剤。 2 フエノール系化合物()において、Aが炭
    素数1〜18の非環状脂肪族基である特許請求の範
    囲第1項に記載の高分子用安定剤。 3 フエノール系化合物()において、xが2
    でAが単なる結合である特許請求の範囲第1項に
    記載の高分子用安定剤。 4 フエノール系化合物()において、Aが炭
    素数5〜16の環状脂肪族基である特許請求の範囲
    第1項に記載の高分子用安定剤。 5 フエノール系化合物()において、Aが炭
    素数6または10の芳香族基である特許請求の範囲
    第1項に記載の高分子用安定剤。 6 フエノール系化合物()において、Aが側
    鎖または主鎖に芳香族基を含有した脂肪族基であ
    つて、脂肪族基部分の炭素数が1〜16である特許
    請求の範囲第1項に記載の高分子用安定剤。 7 イオウ系化合物(−1)がペンタエリスリ
    トール テトラキス(3−ドデシルチオプロピオ
    ネート)である特許請求の範囲第1〜第6項のい
    ずれかに記載の高分子用安定剤。 8 イオウ系化合物(−2)が3,9−ビス
    (2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テ
    トラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンである特
    許請求の範囲第1〜第6項のいずれかに記載の高
    分子用安定剤。 9 イオウ系化合物(−2)が3,9−ビス
    (2−オクタデシルチオプロピル)−2,4,8,
    10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウンデカンで
    ある特許請求の範囲第1〜第6項のいずれかに記
    載の高分子用安定剤。 10 高分子がポリオレフイン樹脂である特許請
    求の範囲第1〜第9項のいずれかに記載の安定
    剤。 11 ポリオレフイン樹脂がポリプロピレンであ
    る特許請求の範囲第10項に記載の安定剤。
JP59098363A 1984-05-15 1984-05-15 高分子用安定剤 Granted JPS60240745A (ja)

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