JPH0527257B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0527257B2 JPH0527257B2 JP59125229A JP12522984A JPH0527257B2 JP H0527257 B2 JPH0527257 B2 JP H0527257B2 JP 59125229 A JP59125229 A JP 59125229A JP 12522984 A JP12522984 A JP 12522984A JP H0527257 B2 JPH0527257 B2 JP H0527257B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shaft
- cartridges
- wafers
- moving mechanism
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H10P72/3411—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
- H10P72/3412—Batch transfer of wafers
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は移し替え技術、特に、半導体装置の製
造過程におけるウエハ処理工程において、ウエハ
搬送治具相互間でのウエハの移し替えに適用して
効果のある技術に関する。
造過程におけるウエハ処理工程において、ウエハ
搬送治具相互間でのウエハの移し替えに適用して
効果のある技術に関する。
［背景技術］
一般に、半導体装置の製造過程におけるウエハ
処理工程では、多数のウエハの搬送や取り扱いを
簡便にするため、搬送治具として複数のウエハを
収納できるもの、たとえばカートリツジ等が用い
られる。
処理工程では、多数のウエハの搬送や取り扱いを
簡便にするため、搬送治具として複数のウエハを
収納できるもの、たとえばカートリツジ等が用い
られる。
一方、ウエハ処理の各工程においてウエハがお
かれる温度あるいはガス雰囲気等の環境はさまざ
まであり、ウエハとともにこれらの環境におかれ
るカートリツジには、使用される工程の環境に適
合した種々の材質や形状を有するものが用いられ
る。
かれる温度あるいはガス雰囲気等の環境はさまざ
まであり、ウエハとともにこれらの環境におかれ
るカートリツジには、使用される工程の環境に適
合した種々の材質や形状を有するものが用いられ
る。
このため、たとえばウエハのアニール工程にお
いては、ウエハをアニール炉に挿入する前にたと
えば合成樹脂製のカートリツジから耐熱性のたと
えば石英ボート等にウエハを移し替える操作が必
要となる。
いては、ウエハをアニール炉に挿入する前にたと
えば合成樹脂製のカートリツジから耐熱性のたと
えば石英ボート等にウエハを移し替える操作が必
要となる。
ウエハを移し替える方法としては、たとえば真
空吸着によつてウエハ平面を保持し、一枚毎に取
り出して他のカートリツジへ順次収納することが
考えられる。
空吸着によつてウエハ平面を保持し、一枚毎に取
り出して他のカートリツジへ順次収納することが
考えられる。
ところが、前記のような方法では多数のウエハ
を移し替える場合には長時間を要し、生産性の向
上は困難である。
を移し替える場合には長時間を要し、生産性の向
上は困難である。
さらに、ウエハの要部である平面部に対する接
触動作が行われるため、ウエハ平面への異物の付
着や損傷を伴い歩留りの低下を招く等の問題点を
本発明者は見い出した。
触動作が行われるため、ウエハ平面への異物の付
着や損傷を伴い歩留りの低下を招く等の問題点を
本発明者は見い出した。
［発明の目的］
本発明の目的は作業が迅速なウエハ移し替え技
術を提供することにある。
術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特
徴は、本明細書の記述および添付図面から明らか
になるであろう。
徴は、本明細書の記述および添付図面から明らか
になるであろう。
［発明の概要］
本願において開示される発明のうち代表的なも
のの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。
のの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、カートリツジ内に収容された複数の
ウエハを、カートリツジ下部に位置する第１の軸
体をカートリツジ内に挿入することによつて同時
に持ち上げ、カートリツジ真上に位置する箱体に
移行させ保持機構によつて保持させる。
ウエハを、カートリツジ下部に位置する第１の軸
体をカートリツジ内に挿入することによつて同時
に持ち上げ、カートリツジ真上に位置する箱体に
移行させ保持機構によつて保持させる。
次に、箱体を石英ボート上に移動させ、石英ボ
ートの下部より挿入された第２の軸体によつて箱
体内のウエハを保持させたのち保持機構を開放し
第２の軸体を降下させ、箱体内のウエハを石英ボ
ート内に移行させる。
ートの下部より挿入された第２の軸体によつて箱
体内のウエハを保持させたのち保持機構を開放し
第２の軸体を降下させ、箱体内のウエハを石英ボ
ート内に移行させる。
上記の動作を、箱体の動作と第１の軸体および
第２の軸体の動作とを同期的に連動させ、複数の
カートリツジと石英ボートとの相互間で繰り返す
ことにより迅速なウエハの移し替え作業を実現
し、前記目的を達成するものである。
第２の軸体の動作とを同期的に連動させ、複数の
カートリツジと石英ボートとの相互間で繰り返す
ことにより迅速なウエハの移し替え作業を実現
し、前記目的を達成するものである。
［実施例］
第１図は本発明の一実施例であるウエハ移し替
え装置の一部を破断した外観斜視図であり、第２
図はこの要部を示す略断面図である。
え装置の一部を破断した外観斜視図であり、第２
図はこの要部を示す略断面図である。
第１図において、ウエハ移し替え装置１の本体
２の上には各々に複数のウエハ３が収容された複
数のカートリツジ４および石英ボート５が所定の
間隔で平行に配置されている。
２の上には各々に複数のウエハ３が収容された複
数のカートリツジ４および石英ボート５が所定の
間隔で平行に配置されている。
カートリツジ４および石英ボート５の上部空間
には中間カートリツジ６（箱体）が設けられ、伸
縮自在なアーム７および支柱８を介して中間カー
トリツジ移動台９（箱体移動機構）に支持されて
いる。
には中間カートリツジ６（箱体）が設けられ、伸
縮自在なアーム７および支柱８を介して中間カー
トリツジ移動台９（箱体移動機構）に支持されて
いる。
中間カートリツジ移動台９は、複数のカートリ
ツジ４と平行に配置された案内レール１０の上に
複数のカートリツジ４の配列方向に移動自在に支
持されている。
ツジ４と平行に配置された案内レール１０の上に
複数のカートリツジ４の配列方向に移動自在に支
持されている。
本体２の内部には、平行に配置された複数のカ
ートリツジ４および石英ボート５の直下にそれぞ
れ位置するように、中間カートリツジ６の動作に
同期的に連動し、かつ上下に独立に伸縮自在なプ
ツシヤ１１（第１の軸体）およびプツシヤ１２
（第２の軸体）が設けられ、プツシヤ移動台１１
Ａ（第１の軸体移動機構）およびプツシヤ１２Ａ
（第２の軸体移動機構）にそれぞれ支持されてい
る。
ートリツジ４および石英ボート５の直下にそれぞ
れ位置するように、中間カートリツジ６の動作に
同期的に連動し、かつ上下に独立に伸縮自在なプ
ツシヤ１１（第１の軸体）およびプツシヤ１２
（第２の軸体）が設けられ、プツシヤ移動台１１
Ａ（第１の軸体移動機構）およびプツシヤ１２Ａ
（第２の軸体移動機構）にそれぞれ支持されてい
る。
プツシヤ移動台１１Ａ，１２Ａは複数のカート
リツジ４および石英ボート５の下方にそれぞれ平
行に配置された案内レール１１Ｂ，１２Ｂによつ
て複数のカートリツジ４の配列方向に独立に移動
自在にされている。
リツジ４および石英ボート５の下方にそれぞれ平
行に配置された案内レール１１Ｂ，１２Ｂによつ
て複数のカートリツジ４の配列方向に独立に移動
自在にされている。
プツシヤ１１およびプツシヤ１２の先端部に
は、１個のカートリツジ４に収容された複数のウ
エハ３の数量および間隔と同一の数量および間隔
を有する溝が刻設されたウエハ支持体１１Ｃおよ
び１２Ｃがそれぞれ設けられ、その複数の溝の
各々にウエハ３が一枚ずつ保持される構造とされ
ている。
は、１個のカートリツジ４に収容された複数のウ
エハ３の数量および間隔と同一の数量および間隔
を有する溝が刻設されたウエハ支持体１１Ｃおよ
び１２Ｃがそれぞれ設けられ、その複数の溝の
各々にウエハ３が一枚ずつ保持される構造とされ
ている。
本体２には、平行に配置された複数のカートリ
ツジ４および石英ボート５の位置する部分の全長
にわたつて開口部１３および開口部１４がそれぞ
れ設けられ、プツシヤ１１およびプツシヤ１２の
先端部にそれぞれ設けられたウエハ支持体１１Ｃ
およびウエハ支持体１２Ｃが通過自在に構成され
ている。
ツジ４および石英ボート５の位置する部分の全長
にわたつて開口部１３および開口部１４がそれぞ
れ設けられ、プツシヤ１１およびプツシヤ１２の
先端部にそれぞれ設けられたウエハ支持体１１Ｃ
およびウエハ支持体１２Ｃが通過自在に構成され
ている。
さらに、第２図に示されるようにカートリツジ
４の底部には本体２の開口部１３と同一の幅で開
口され、ウエハ支持体１１Ｃの上下方向の通過動
作を妨げない構造にされている。
４の底部には本体２の開口部１３と同一の幅で開
口され、ウエハ支持体１１Ｃの上下方向の通過動
作を妨げない構造にされている。
また、石英ボート５の底部枠材の間隔はウエハ
支持体１２Ｃが通過自在な大きさに構成され、ウ
エハ支持体１２Ｃの上下方向の通過動作を妨げな
い構造にされている。
支持体１２Ｃが通過自在な大きさに構成され、ウ
エハ支持体１２Ｃの上下方向の通過動作を妨げな
い構造にされている。
中間カートリツジ６の底部には、たとえばソレ
ノイド機構（図示せず）で駆動される一対のホツ
パ機構１５（保持機構）が開閉自在に構成され、
中間カートリツジ６内に収容された複数のウエハ
３を一時的に保持できる構造となつている。
ノイド機構（図示せず）で駆動される一対のホツ
パ機構１５（保持機構）が開閉自在に構成され、
中間カートリツジ６内に収容された複数のウエハ
３を一時的に保持できる構造となつている。
ホツパ機構１５は、閉止状態であつても空隙部
が生じるような構造とされ、ウエハ支持体１１Ｃ
あるいはウエハ支持体１２Ｃが通過可能とされて
いる。
が生じるような構造とされ、ウエハ支持体１１Ｃ
あるいはウエハ支持体１２Ｃが通過可能とされて
いる。
さらに、中間カートリツジ６の内部壁面には、
カートリツジ４に設けられているウエハ保持溝４
Ａと同一のピツチで案内溝６Ａが設けられ、中間
カートリツジ６に一時的に保持される複数のウエ
ハ３の平行な姿勢が維持される構造となつてい
る。
カートリツジ４に設けられているウエハ保持溝４
Ａと同一のピツチで案内溝６Ａが設けられ、中間
カートリツジ６に一時的に保持される複数のウエ
ハ３の平行な姿勢が維持される構造となつてい
る。
同様に、石英ボート５にもカートリツジ４に設
けられているウエハ保持溝４Ａと同一のピツチで
ウエハ保持溝５Ａが設けられ、複数のウエハ３の
平行な姿勢が保持される構造とされている。
けられているウエハ保持溝４Ａと同一のピツチで
ウエハ保持溝５Ａが設けられ、複数のウエハ３の
平行な姿勢が保持される構造とされている。
次に、本実施例の作用について説明する。
中間カートリツジ６はアーム７、支柱８を適宜
伸縮させ、さらに中間カートリツジ移動台９を適
宜移動させることにより、第２図においてで示
される所定のカートリツジ４の直上の所定の高さ
に位置決めされ、底部のホツパ機構１５は開放状
態とされる。
伸縮させ、さらに中間カートリツジ移動台９を適
宜移動させることにより、第２図においてで示
される所定のカートリツジ４の直上の所定の高さ
に位置決めされ、底部のホツパ機構１５は開放状
態とされる。
一方、本体２の内部においては、上記の中間カ
ートリツジ６の位置決め動作と同時に、プツシヤ
１１が中間カートリツジ６の動作に同期的に連動
して所定のカートリツジ４の直下に位置決めされ
る。
ートリツジ６の位置決め動作と同時に、プツシヤ
１１が中間カートリツジ６の動作に同期的に連動
して所定のカートリツジ４の直下に位置決めされ
る。
位置決めされたプツシヤ１１は伸長され、先端
部のウエハ支持体１１Ｃは本体２の開口部１３を
通過して上昇し、カートリツジ４に収納された複
数のウエハ３の外周部を同時に保持する。
部のウエハ支持体１１Ｃは本体２の開口部１３を
通過して上昇し、カートリツジ４に収納された複
数のウエハ３の外周部を同時に保持する。
複数のウエハ３を保持したウエハ支持体１１Ｃ
はさらに上昇され、複数のウエハ３はカートリツ
ジ４の直上に位置決めされた中間カートリツジ６
の内部に挿入される。
はさらに上昇され、複数のウエハ３はカートリツ
ジ４の直上に位置決めされた中間カートリツジ６
の内部に挿入される。
次に、中間カートリツジ６の底部に設けられた
ホツパ機構１５は閉止され、複数のウエハ３が中
間カートリツジ６の内部の複数の溝６Ａの各々に
保持されたのち、プツシヤ１１は縮退され先端部
のウエハ支持体１１Ｃは本体２の内部に降下され
る。
ホツパ機構１５は閉止され、複数のウエハ３が中
間カートリツジ６の内部の複数の溝６Ａの各々に
保持されたのち、プツシヤ１１は縮退され先端部
のウエハ支持体１１Ｃは本体２の内部に降下され
る。
続いて、中間カートリツジ６を支持するアーム
７が伸長され、中間カートリツジ６は第２図にお
いてで示される位置、すなわち石英ボート５の
直上に位置決めされる。
７が伸長され、中間カートリツジ６は第２図にお
いてで示される位置、すなわち石英ボート５の
直上に位置決めされる。
前記の中間カートリツジ６の位置決め動作と同
時に、本体２の内部において、プツシヤ１２が中
間カートリツジ６の動作に同期的に連動して石英
ボート５の下部を移動され、複数のウエハ３を保
持した中間カートリツジ６の直下に位置決めされ
る。
時に、本体２の内部において、プツシヤ１２が中
間カートリツジ６の動作に同期的に連動して石英
ボート５の下部を移動され、複数のウエハ３を保
持した中間カートリツジ６の直下に位置決めされ
る。
中間カートリツジ６の直下に位置決めされたプ
ツシヤ１２は伸長され、先端部のウエハ支持体１
２Ｃは本体２の開口部１４および石英ボード５を
通過して上昇し、中間カートリツジ６に収容され
る複数のウエハ３の外周部を保持したのち停止さ
れる。
ツシヤ１２は伸長され、先端部のウエハ支持体１
２Ｃは本体２の開口部１４および石英ボード５を
通過して上昇し、中間カートリツジ６に収容され
る複数のウエハ３の外周部を保持したのち停止さ
れる。
複数のウエハ３がウエハ支持体１２Ｃに保持さ
れたのち、ホツパ機構１５が開放され、プツシヤ
１２は縮退され複数のウエハ３を保持したウエハ
支持体１２Ｃは降下される。
れたのち、ホツパ機構１５が開放され、プツシヤ
１２は縮退され複数のウエハ３を保持したウエハ
支持体１２Ｃは降下される。
ウエハ支持体１２Ｃとともに降下される複数の
ウエハ３は中間カートリツジ５の直下に位置する
石英ボート５の高さまで降下したとき、石英ボー
ト５のウエハ保持溝５Ａにそれぞれ収納され、ウ
エハ支持体１２Ｃから離脱される。
ウエハ３は中間カートリツジ５の直下に位置する
石英ボート５の高さまで降下したとき、石英ボー
ト５のウエハ保持溝５Ａにそれぞれ収納され、ウ
エハ支持体１２Ｃから離脱される。
ウエハ支持体１２Ｃは複数のウエハ３を離脱し
た後も降下され、本体２の内部に退避される。
た後も降下され、本体２の内部に退避される。
上記の一連のウエハ移し替え動作をカートリツ
ジ４の配列された方向に遂次移動しつつ繰り返す
ことにより、複数のカートリツジ４に収納された
多数のウエハ３を石英ボート５に迅速に移し替え
られる。
ジ４の配列された方向に遂次移動しつつ繰り返す
ことにより、複数のカートリツジ４に収納された
多数のウエハ３を石英ボート５に迅速に移し替え
られる。
［効果］
(1) 多数のウエハを同時に自動的に移動させるた
め、ウエハの移し替え作業に要する時間を大幅
に短縮できる。
め、ウエハの移し替え作業に要する時間を大幅
に短縮できる。
(2) 多数のカートリツジを移動させることなく、
ウエハの移し替え作業が可能であるため、カー
トリツジの取り替えに要する時間が短縮され、
作業性が向上する。
ウエハの移し替え作業が可能であるため、カー
トリツジの取り替えに要する時間が短縮され、
作業性が向上する。
(3) ウエハの外周部を保持するため、ウエハ平面
上への異物の付着およびウエハ平面の損傷が防
止され、移し替え作業における不良品の発生が
低減される。
上への異物の付着およびウエハ平面の損傷が防
止され、移し替え作業における不良品の発生が
低減される。
(4) 前記(1)〜(3)の結果、生産性が向上する。
以上本発明者によつてなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
たとえば、中間カートリツジおよびプツシヤの
一連の動作を逆に行わせることによつて、石英ボ
ートからカートリツジへのウエハの移し替えを行
うことも可能である。
一連の動作を逆に行わせることによつて、石英ボ
ートからカートリツジへのウエハの移し替えを行
うことも可能である。
［利用分野］
以上の説明では主として本発明者によつてなさ
れた発明をその背景となつた利用分野であるウエ
ハの移し替え技術に適用した場合について説明し
たが、それに限定されるものではなく、たとえ
ば、板状の形態を有する物品に広く適用できる。
れた発明をその背景となつた利用分野であるウエ
ハの移し替え技術に適用した場合について説明し
たが、それに限定されるものではなく、たとえ
ば、板状の形態を有する物品に広く適用できる。
第１図は本発明の一実施例であるウエハ移し替
え装置の一部を破断した外観斜視図、第２図はそ
の要部を示す略断面図である。 １……ウエハ移し替え装置、２……本体、３…
…ウエハ、４……カートリツジ、４Ａ……ウエハ
保持溝、５……石英ボート、５Ａ……ウエハ保持
溝、６……中間カートリツジ（箱体）、６Ａ……
案内溝、７……アーム、８……支柱、９……中間
カートリツジ移動台（箱体移動機構）、１０……
案内レール、１１……プツシヤ（第１の軸体）、
１１Ａ……プツシヤ移動台（第１の軸体移動機
構）、１２……プツシヤ（第２の軸体）、１２Ａ…
…プツシヤ移動台（第２の軸体移動機構）、１１
Ｂ，１２Ｂ……案内レール、１１Ｃ，１２Ｃ……
ウエハ支持体、１３，１４……開口部、１５……
ホツパ機構（保持機構）。
え装置の一部を破断した外観斜視図、第２図はそ
の要部を示す略断面図である。 １……ウエハ移し替え装置、２……本体、３…
…ウエハ、４……カートリツジ、４Ａ……ウエハ
保持溝、５……石英ボート、５Ａ……ウエハ保持
溝、６……中間カートリツジ（箱体）、６Ａ……
案内溝、７……アーム、８……支柱、９……中間
カートリツジ移動台（箱体移動機構）、１０……
案内レール、１１……プツシヤ（第１の軸体）、
１１Ａ……プツシヤ移動台（第１の軸体移動機
構）、１２……プツシヤ（第２の軸体）、１２Ａ…
…プツシヤ移動台（第２の軸体移動機構）、１１
Ｂ，１２Ｂ……案内レール、１１Ｃ，１２Ｃ……
ウエハ支持体、１３，１４……開口部、１５……
ホツパ機構（保持機構）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 各々に複数のウエハが収容される複数のカー
リツジおよび石英ボートが所定の間隔で平行に配
置され、この複数のカーリツジと石英ボート間で
前記ウエハを移し替える移し替え装置であつて、
下端面に開閉自在なウエハの保持機構を有し一時
的にウエハを保持する箱体と、この箱体を支持し
箱体の位置決めを行う箱体移動機構と、箱体下方
に位置し、前記複数のカートリツジから箱体下部
を通じて箱体内部に複数のウエハを同時に挿入す
る伸縮自在な第１の軸体と、この第１の軸体を支
持し該第１の軸体の位置決めを行う第１の軸体移
動機構と、箱体内部から箱体下部を通じて前記石
英ボートに複数のウエハを同時に取り出し前記第
１の軸体と独立に伸縮自在な第２の軸体と、この
第２の軸体を支持し前記第１の軸体移動機構と独
立に該第２の軸体の位置決めを行う第２の軸体移
動機構とからなり、前記箱体移動機構の上下方
向、移し替え方向および前記複数のカートリツジ
および石英ボートの配置方向への動作と、前記第
１の軸体移動機構および前記第２の軸体移動機構
の上下方向および前記複数のカートリツジおよび
石英ボートの配置方向への動作とを同期的に連動
して駆動させることを特徴とする移し替え装置。 ２ 前記箱体移動機構は、前記複数のカートリツ
ジと平行に配置された案内レールの上に該複数の
カートリツジの配列方向に移動自在に支持され、
かつ前記第１の軸体移動機構および第２の軸体移
動機構は、前記複数のカートリツジおよび石英ボ
ートの下方にそれぞれ平行に配置された案内レー
ルによつて該複数のカートリツジの配列方向に独
立に移動自在に支持されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の移し替え装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125229A JPS615541A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 移し替え装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125229A JPS615541A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 移し替え装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS615541A JPS615541A (ja) | 1986-01-11 |
| JPH0527257B2 true JPH0527257B2 (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=14905014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59125229A Granted JPS615541A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 移し替え装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS615541A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH068100Y2 (ja) * | 1986-07-01 | 1994-03-02 | 東京エレクトロン相模株式会社 | ウエハ移し替え突き上げ装置 |
| JPH01122135A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置 |
| JPH07111963B2 (ja) * | 1988-09-12 | 1995-11-29 | 株式会社スガイ | 基板の洗浄乾燥装置 |
| JPH02215570A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 印字装置 |
| CN113247611B (zh) * | 2021-04-20 | 2022-04-29 | 深圳市真味生物科技有限公司 | 一种电子雾化液调味瓶选取系统 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5945219B2 (ja) * | 1976-05-17 | 1984-11-05 | 株式会社日立製作所 | ウェハ処理装置 |
| JPS5434774A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-14 | Hitachi Ltd | Article transfer device |
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| JPS5643718A (en) * | 1979-09-17 | 1981-04-22 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor wafer shifting device |
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-
1984
- 1984-06-20 JP JP59125229A patent/JPS615541A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS615541A (ja) | 1986-01-11 |
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