JPH05303782A - 光磁気ディスク成膜用マスク - Google Patents

光磁気ディスク成膜用マスク

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JPH05303782A
JPH05303782A JP13173192A JP13173192A JPH05303782A JP H05303782 A JPH05303782 A JP H05303782A JP 13173192 A JP13173192 A JP 13173192A JP 13173192 A JP13173192 A JP 13173192A JP H05303782 A JPH05303782 A JP H05303782A
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JP
Japan
Prior art keywords
mask
substrate
film
forming
magnetic disk
Prior art date
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Pending
Application number
JP13173192A
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English (en)
Inventor
Kazuichi Yamamura
和市 山村
Masaki Ejima
正毅 江島
Arata Sakaguchi
新 阪口
Yoshio Tawara
好夫 俵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 本発明は軽く、成形が容易で弾性を有して
いることから、基板への装着、取外しが容易であり、安
価である磁気ディスク成膜用マスク材の提供を目的とす
るものである。 【構成】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材は、
ディスク基板と成膜用マスクとの固定をマスク素材の弾
性力を用いてなることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスク成膜用マ
スク、特には電子情報機器分野における情報記録媒体の
一つである光磁気ディスクの製造に使用される光磁気デ
ィスク成膜用マスクに関するものである。
【0002】
【従来の技術】光磁気ディスクの製造工程においては基
板上に誘電体膜、磁性膜、反射膜などからなる記録膜を
スパッタリング法などで成膜する工程があるが、これら
の膜はいずれも極く薄いものであるために傷つき易く、
またこれらは非常に酸化され易いものであるために、通
常この成膜面はその表面保護の目的でスピンコートによ
り樹脂が塗布されている。しかし、これではスピンコー
トによる樹脂液が良好に塗布できない外周部や後工程で
ハブを取り付ける中心部では記録膜の付着により不都合
が生じるので、この成膜工程では磁性ステンレス性など
の金属性部品でこの部分をマスキングするという方法が
行なわれている。
【0003】この金属性部品によるマスキングは例えば
図9〜図10に示したように基板1の中心部に磁石固定式
内周マスク6、基板1の外周部に磁石固定式外周マスク
7を、また基板1の外周部に磁石内蔵式基板支持台10、
基板中央部にマスク固定用磁石11を設置するか、あるい
は図11に示したように基板1の上部にターゲット8とカ
ソード9を設置すると共に、基板1の中央部に装置組み
込み式内周マスク12と基板1の外周部に装置組み込み式
外周マスクを設置するという方法で行なわれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このものは上
記したように金属性遮へい板とディスク基板との固定保
持が取付時間短縮のために磁石を用いて行なわれること
が多いために、製造コストが高くなるという不利がある
し、この場合には同じく遮へい板を複数回連続使用する
ようになり、その使用回数の増加につれて成膜時の発塵
率も高くなるが、成膜時のディスク基板へのダスト付着
は記録膜の孔食や記録媒体のエラーレート増加の原因に
なる。
【0005】そのため、この金属遮へい板を使用して、
製品の合格率を高く維持するためには定期的に遮へい板
を洗浄するなどのメンテナンスが必要とされるのである
が、この洗浄で遮へい板を酸性の液体に浸したり、サン
ドブラストなどで表面処理を行なうと遮へい板に水分や
異物が付着するために、眞空到達時間が著しく増大する
し、記録膜形成物質の組成変化の原因になるので、ディ
スク製造効率が低下し、これにはまた遮へい板の寸法が
徐々に変化するなどの機構的問題もあり、製品の品質管
理に影響が現れてくるという不利もある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、欠点を解決することができる光磁気ディスク成膜用
マスクに関するものであり、これはディスク基板と成膜
用マスクとの固定に弾性力を用いてなること特徴とする
ものである。
【0007】すなわち、本発明者らは従来公知の不利を
解決することのできる光磁気ディスク成膜用マスクを開
発すべく種々検討した結果、このマスクを合成樹脂材で
作られたものとすると、このものが従来の金属性マスク
に比べて軽く、複雑な形状のものも比較的容易に成形す
ることができ、これはまた基板への固定も樹脂の弾性力
で確保できるので、基板への影響も少なく、基板への保
持構造も簡略化することができ、さらには製品コストも
安いのでくり返し使用せず1回で使い捨てしてもよいの
で発塵も少ないという有利性の与えられるこを見出し、
この実用性なども検討して本発明を完成させた。以下に
これをさらに詳述する。
【0008】
【作用】本発明の磁気ディスク成膜用マスクはディスク
基板と成膜用マスクとの固定にマスク素材の弾性力を用
いるものであるが、これによればマスク素材がステンレ
スなどの金属性のものから弾性力をもつ合成樹脂製のも
のに変更されるのでマスクの製造方法に選択性が広が
り、これは例えば射出成形とすることによって量産化が
できてコストが低減されるし、大量生産の結果使い捨て
化も実現でき、マスク回収再利用のメンテナンスも不要
となるので、磁気ディスクを効率よく製造できるという
有利性が与えられる。
【0009】本発明の磁気ディスク成膜用マスクは上記
したように弾性力をもつ合成樹脂材からなるものとされ
るが、この合成樹脂材はポリカーボネート樹脂、アモル
ファスポリオレフィン樹脂、ポリメタクル酸メチル樹脂
など射出成形が可能で吸湿性の低いものとすればよい。
このものは射出成形などによって任意の形状を成形する
ことができるので、各種形状のマスキング材を容易に、
かつ安価に得ることができるし、このようにして作られ
た成形品は弾性を有しているので、これを基板に装着し
たときにその弾性で基板に容器に固定されるという有利
性も与えられ、これはまた安価であるので、複数回使用
してもよいが、一回で使い捨ててもよいので発塵などの
心配をする必要もないという有利性を持つものとなる。
【0010】本発明の磁気ディスク成膜用マスクの使用
による磁気ディスク製造法は図1〜図8に示した方法で
行われる。図1は本発明の磁気ディスク成膜用マスクを
装着した基板の平面図、図2はその縦断面図、図3〜図
6は本発明の磁気ディスク成膜用マスクの基板への装着
方法を示す縦断面図、図7〜図8は本発明の磁気ディス
ク成膜用マスクの基板からの取外し方法を示す縦断面図
を示したものである。
【0011】本発明の磁気ディスク成膜用マスクを装着
した基板1は図1、図2に示したように基板1の中央部
に合成樹脂製の内周マスクが、またその外周部に合成樹
脂製の外周マスク3が装着されたものである。この基板
1に対する本発明の磁気ディスク成膜用マスクの装着は
図3に示したように基板1の中央部に合成樹脂製の内周
マスクを押圧挿入し、その外周部支持台4に合成樹脂製
の外周マスク3を装着することによって行えばよいが、
この合成樹脂製の外周マスク3の装着は図4に示したよ
うに外周部支持台4にこの上から押圧した状態で図5に
示したように基板1の下方から基板セット用押し棒5を
有する外周部支持台4を押し当てこれに外周マスク3を
押圧して装着するものである。これによれば図6に示し
たように内周マスク2と外周マスク3の装置したものが
得られる。
【0012】また、本発明の磁気ディスク成膜用マスク
は図1〜図6に示した方法によって基板1に装着後、こ
の基板1にSiN膜などの誘電体膜、TbFeCo膜などの記
録膜、SiN膜などの第2の誘電体膜およびAl膜など
の反射膜などからなる記録膜を成膜したのち、基板から
これを取外して磁気ディスクを成形するようにすればよ
い。
【0013】この成膜用マスクの取り外しは例えば第7
図に示したように外周マスク3を上面から全周にたって
均等に押すと、(断面形状の関係で)下部が若干開くの
で、この状態で内周マスク2を下に押すとディスク基板
1が外周マスク3から外れるし、さらに内周マスク2の
突起部を内側につぼめた状態でマスク2を上方に持ち上
げれば、内周マスク2および外周マスク3を取り外すこ
とができるが、これは図8に示したように外周マスク3
を取外し、ついで内周マスク2を上方に引き上げてこれ
らを基板1から取外すようにすればこれを容易に行なう
ことができる。
【0014】
【実施例】つぎに本発明の実施例を示す。 実施例 直径86mm、厚さ 1.2mmで中央部に直径15mmの空所をもつ
トラッキングガイドグループの成形されたポリカーボネ
ート樹脂製基板1の中央空所に、直径31mmで中央部位に
直径16mm、長さ5mmのつめを有する図2に示したような
形状のポリカーボネート樹脂製の内周マスク2を装着す
ると共に、この基板の外周部に内径が84mmであるリング
状の外周マスク3を装着した。
【0015】ついで、この内周マスクおよび外周マスク
3を装着した基板に、SiN膜からなる第1誘電体膜を
厚さ 1,000Åに、TbFeCo膜からなる記膜膜を厚さ 250Å
に、SiN膜からなる第2誘電体膜を厚さ 250〜 350Å
に、さらにAl膜からなる反射膜を厚さ 600Åに、それ
ぞれスパッタリング法で成膜したのち、この内周マスク
と、外周マスクを取外して、光磁気記録媒体を作った。
【0016】この場合、内周マスク2、外周マスク3が
ポリカーボネート樹脂の射出成形で作られたものである
ことから、これは成形が容易であるし、このものは基板
への装着も容易でこれが弾性を有するものであることか
ら装着したものが、基板から外れることもなく、記録膜
の成膜は全く支障なく行なうことができ、さらにこの取
外しも容易であることから目的とする磁気ディスクの製
造を容易に行なうことができた。
【0017】
【発明の効果】本発明は磁気ディスク成膜用マスクに関
するものであり、これは前記したようにディスク基板と
成膜マスクとの固定にマスク素材の弾力性を用いてなる
ことを特徴とするものであるが、これによれば従来公知
の金属製マスクに比べてこれが弾性力をもつ合成樹脂材
とされるので、軽く、複雑な形状のものも容易に成形す
ることができるし、これは弾性を有しているので、これ
を基板に容易に、かつ確実に固定し、取外しすることが
できるし、これはまた1回だけの使用で使い捨てること
もできるので洗浄のメンテナンスも不要であり、したが
って目的とする磁気ディスクを容易にかつ安価に得るこ
とができるという有利性が与えられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材を装着
したディスク基板の平面図を示したものである。
【図2】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材を装着
したディスク基板の縦断面図を示したものである。
【図3】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材の基板
への装着方法の一例の縦断面図を示したものである。
【図4】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材の基板
への装着方法の他の例の縦断面図を示したものである。
【図5】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材の基板
への装着方法のさらに他の例の縦断面図を示したもので
ある。
【図6】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材の基板
からの取外し方法の一例の縦断面図を示したものであ
る。
【図7】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材の基板
からの取外し方法の他の例の縦断面図を示したものであ
る。
【図8】 本発明の磁気ディスク成膜用マスク材の基板
からの取外し方法のさらに他の例の縦断面図を示したも
のである。
【図9】 従来公知の磁気ディスク成膜用金属製マスク
材の基板への装着の一例の縦断面図を示したものであ
る。
【図10】 従来公知の磁気ディスク成膜用金属製マスク
材の基板への装着の他の例の縦断面図を示したものであ
る。
【図11】 従来公知の磁気ディスク成膜用金属製マスク
材の基板への装着のさらに他の例の縦断面図を示したも
のである。
【符号の説明】
1・・・・・・ディスク基板、2・・・・・・合成樹脂製内周マスク 3・・・・・・合成樹脂製外周マスク、4・・・・・・外周マスク支
持台 5・・・・・・基板セット用押し棒、6・・・・・・磁石固定式内周
マスク 7・・・・・・磁石固定式外周マスク、8・・・・・・ターゲット 9・・・・・・カソード、10・・・・・・磁石内蔵式基板支持台 11・・・・・・マスク固定用磁石、12・・・・・・装置組み込み式内
周マスク 13・・・・・・装置組み込み式外周マスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阪口 新 神奈川県川崎市高津区坂戸3丁目2番1号 信越化学工業株式会社コーポレートリサ ーチセンター内 (72)発明者 俵 好夫 神奈川県川崎市高津区坂戸3丁目2番1号 信越化学工業株式会社コーポレートリサ ーチセンター内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ディスク基板と成膜用マスクとの固定にマ
    スク素材の弾性力を用いてなることを特徴とする光磁気
    ディスク成膜用マスク。
  2. 【請求項2】樹脂材をもちいることによりバネ性を具備
    した請求項1に記載した光磁気ディスク成膜用マスク。
JP13173192A 1992-04-24 1992-04-24 光磁気ディスク成膜用マスク Pending JPH05303782A (ja)

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JP13173192A JPH05303782A (ja) 1992-04-24 1992-04-24 光磁気ディスク成膜用マスク

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JP13173192A JPH05303782A (ja) 1992-04-24 1992-04-24 光磁気ディスク成膜用マスク

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JPH05303782A true JPH05303782A (ja) 1993-11-16

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JP13173192A Pending JPH05303782A (ja) 1992-04-24 1992-04-24 光磁気ディスク成膜用マスク

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JP (1) JPH05303782A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6258432B1 (en) 1996-11-14 2001-07-10 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Optical information recording medium and production method thereof
JP2004022153A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Tdk Corp 円板状基板用成膜装置に対する基板の受け渡し方法、当該方法に用いられる基板受け渡し機構および基板ホルダ、および当該方法を用いたディスク状記録媒体の製造方法
JP2004022154A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Tdk Corp 円板状基板用成膜装置に対する基板の受け渡し方法、当該方法に用いられる基板受け渡し機構および基板ホルダ、および当該方法を用いたディスク状記録媒体の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6258432B1 (en) 1996-11-14 2001-07-10 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Optical information recording medium and production method thereof
JP2004022153A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Tdk Corp 円板状基板用成膜装置に対する基板の受け渡し方法、当該方法に用いられる基板受け渡し機構および基板ホルダ、および当該方法を用いたディスク状記録媒体の製造方法
JP2004022154A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Tdk Corp 円板状基板用成膜装置に対する基板の受け渡し方法、当該方法に用いられる基板受け渡し機構および基板ホルダ、および当該方法を用いたディスク状記録媒体の製造方法

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