JP2571819B2 - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体の製造方法Info
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- JP2571819B2 JP2571819B2 JP12064888A JP12064888A JP2571819B2 JP 2571819 B2 JP2571819 B2 JP 2571819B2 JP 12064888 A JP12064888 A JP 12064888A JP 12064888 A JP12064888 A JP 12064888A JP 2571819 B2 JP2571819 B2 JP 2571819B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチック基板を用いた情報記録媒体の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
従来、プラスチック基板を用いた情報記録媒体を製造
する際には、成形したプラスチック基板を無変形状態で
保持し、これの上に情報記録機能を有する膜構造体を蒸
着法やスパッタリング法、スピンコート法等によって、
成膜していた。
する際には、成形したプラスチック基板を無変形状態で
保持し、これの上に情報記録機能を有する膜構造体を蒸
着法やスパッタリング法、スピンコート法等によって、
成膜していた。
ところが、蒸着法やスパッタリング法、スピンコート
法等によって形成した膜は、一般に内部応力が発生す
る。このため、基板上に膜構造体を形成すると、膜中に
発生した内部応力により膜形成後にプラスチック基板が
変形して、反りを生じたり、基板の弾性変形に伴い発生
する復元力と平衡状態をとって残留する膜の内部応力の
ために、膜割れや膜はがれが起こる等の問題があった。
法等によって形成した膜は、一般に内部応力が発生す
る。このため、基板上に膜構造体を形成すると、膜中に
発生した内部応力により膜形成後にプラスチック基板が
変形して、反りを生じたり、基板の弾性変形に伴い発生
する復元力と平衡状態をとって残留する膜の内部応力の
ために、膜割れや膜はがれが起こる等の問題があった。
本発明は、上記問題点を解決するために成されたもの
であり、その目的は、基板の変形および膜構造中の残留
内部応力が少なく、信頼性の高い情報記録媒体の製造方
法を提供することにある。
であり、その目的は、基板の変形および膜構造中の残留
内部応力が少なく、信頼性の高い情報記録媒体の製造方
法を提供することにある。
上記の目的は、プラスチック基板上に情報記録機能を
有する膜構造体を設けることにより情報記録媒体を製造
する方法において、膜構造体中に発生する内部応力を緩
和する方向に復元作用が働くようプラスチック基板に外
力を加えて弾性変形状態に保持し、かかる弾性変形状態
のプラスチック基板の上に膜構造体を形成した後、外力
を除去し、プラスチック基板を復元させることにより達
成できる。
有する膜構造体を設けることにより情報記録媒体を製造
する方法において、膜構造体中に発生する内部応力を緩
和する方向に復元作用が働くようプラスチック基板に外
力を加えて弾性変形状態に保持し、かかる弾性変形状態
のプラスチック基板の上に膜構造体を形成した後、外力
を除去し、プラスチック基板を復元させることにより達
成できる。
上記外力を加えるには、平板状の基板を保持するディ
スクホルダーとして、表面が凹状または凸状のものを用
いること等の方法により、なしうる。
スクホルダーとして、表面が凹状または凸状のものを用
いること等の方法により、なしうる。
以下、本発明を実施例によって、さらに詳細に説明す
る。
る。
実施例１ 第３図に示すような光磁気ディスクを以下に述べる方
法で作製した。
法で作製した。
射出成形したφ130mmの平板状のポリカーボネート基
板１上に、下地保護層２、光磁気記録層３、上地保護層
４を順次スパッタリング法により、成膜した。このと
き、上、下地保護層２、４は、材料として窒化シリコン
を用い、これを0.1PaのArガス雰囲気中で成膜して、各
々1000Åの膜厚とした。
板１上に、下地保護層２、光磁気記録層３、上地保護層
４を順次スパッタリング法により、成膜した。このと
き、上、下地保護層２、４は、材料として窒化シリコン
を用い、これを0.1PaのArガス雰囲気中で成膜して、各
々1000Åの膜厚とした。
光磁気記録層３は、材料としてTb−Fe非晶質合金薄膜
を用い、二次元同時スパッタ法により成膜し、800Åの
膜厚とした。
を用い、二次元同時スパッタ法により成膜し、800Åの
膜厚とした。
ここで、成膜時のポリカーボネート基板は、第１図に
示すような形状に弾性変形させて保持しておいた。即
ち、ディスク支持テーブル６、センターマスク７、およ
び外周マスク８を主構成部品とするディスクホルダー５
により、平板状のポリカーボネート基板１を、基板中心
部での接平面に対する、基板端部（ｒ＝65mm）における
変位量で定義した反り量が5mmになるように基板の成膜
面側に凹型の反りをもたせた固定しておいた。この状態
で、上記したように各膜を成膜し積層すると、膜中に強
い圧縮応力が生じる。この内部応力は、基板に対して、
膜構造体が膨張しようとする方向、即ち、基板を成膜面
側に凸型に変形させようとする方向に作用する。また、
膜中の圧縮応力は、膜自体が膨張すると、膨張に伴なっ
て減少し緩和される。
示すような形状に弾性変形させて保持しておいた。即
ち、ディスク支持テーブル６、センターマスク７、およ
び外周マスク８を主構成部品とするディスクホルダー５
により、平板状のポリカーボネート基板１を、基板中心
部での接平面に対する、基板端部（ｒ＝65mm）における
変位量で定義した反り量が5mmになるように基板の成膜
面側に凹型の反りをもたせた固定しておいた。この状態
で、上記したように各膜を成膜し積層すると、膜中に強
い圧縮応力が生じる。この内部応力は、基板に対して、
膜構造体が膨張しようとする方向、即ち、基板を成膜面
側に凸型に変形させようとする方向に作用する。また、
膜中の圧縮応力は、膜自体が膨張すると、膨張に伴なっ
て減少し緩和される。
さて、上記の方法で成膜された光磁気ディスクをディ
スクホルダー５から解放し復元させると、膜構造体は成
膜直後の状態に比して膨張し、内部応力が緩和される。
スクホルダー５から解放し復元させると、膜構造体は成
膜直後の状態に比して膨張し、内部応力が緩和される。
こうして製造された光磁気ディスク単板の、前述した
定義による反り量を測定すると、10μｍほど膜面側に凸
型に反っていた。
定義による反り量を測定すると、10μｍほど膜面側に凸
型に反っていた。
比較例１ 比較用に、ポリカーボネート基板１を無変形状態で保
持して各膜を成膜した他は、実施例１と同様の材料、方
法で同様の構成の光磁気ディスクを製造したところ、反
り量は膜面側凸型に150μｍであった。
持して各膜を成膜した他は、実施例１と同様の材料、方
法で同様の構成の光磁気ディスクを製造したところ、反
り量は膜面側凸型に150μｍであった。
（耐久試験） 更に、実施例１および比較例１の光磁気ディスクを60
℃、相対湿度90％の恒温恒湿槽に投入し、1000時間の耐
久試験を行なったところ、比較例１の光磁気ディスク
は、膜面全体に膜割れが発生したが、実施例１の光磁気
ディスクは外観上全く変化が見られなかった。
℃、相対湿度90％の恒温恒湿槽に投入し、1000時間の耐
久試験を行なったところ、比較例１の光磁気ディスク
は、膜面全体に膜割れが発生したが、実施例１の光磁気
ディスクは外観上全く変化が見られなかった。
実施例２ 実施例１で作製した光磁気ディスクを、紫外線硬化型
樹脂で以下のように保護コートした。
樹脂で以下のように保護コートした。
光磁気ディスクの成膜面側に未硬化樹脂を通常の方法
でスピンコートした後、この光磁気ディスク９を第２図
に示すような形状に弾性変形させて保持した。即ち、デ
ィスクホルダー５により、基板の成膜面側に凸型に10μ
ｍほどの反りをもった実施例１のディスクを、更に、3m
m程度の反りをもたせた状態に弾性変形させて排気孔10
による真空チャックで固定した。この状態で、塗布済み
の紫外線硬化型樹脂を紫外線11で硬化させると、保護コ
ート層の硬化収縮により保護コート層中に収縮しようと
する引張応力が発生する。この内部応力は保護コート層
の収縮に伴なって、減少し緩和される。
でスピンコートした後、この光磁気ディスク９を第２図
に示すような形状に弾性変形させて保持した。即ち、デ
ィスクホルダー５により、基板の成膜面側に凸型に10μ
ｍほどの反りをもった実施例１のディスクを、更に、3m
m程度の反りをもたせた状態に弾性変形させて排気孔10
による真空チャックで固定した。この状態で、塗布済み
の紫外線硬化型樹脂を紫外線11で硬化させると、保護コ
ート層の硬化収縮により保護コート層中に収縮しようと
する引張応力が発生する。この内部応力は保護コート層
の収縮に伴なって、減少し緩和される。
上記の方法で保護コート層を形成した光磁気ディスク
をディスクホルダー５から開放し復元させると保護コー
ト層は、形成直後の状態に比して収縮し、内部応力が緩
和される。
をディスクホルダー５から開放し復元させると保護コー
ト層は、形成直後の状態に比して収縮し、内部応力が緩
和される。
こうして製造された、保護コート層で膜面が被覆され
た光磁気ディスクの反り量を測定したが、測定精度内で
反りは測定されなかった。
た光磁気ディスクの反り量を測定したが、測定精度内で
反りは測定されなかった。
比較例２ 比較用に、実施例１の光磁気ディスクに未硬化樹脂を
塗布した後、外力を加えずに、そのままの状態で硬化さ
せた保護コート層付き光磁気ディスクを製造したとこ
ろ、反り量はコート面側に凹型に100μｍであった。
塗布した後、外力を加えずに、そのままの状態で硬化さ
せた保護コート層付き光磁気ディスクを製造したとこ
ろ、反り量はコート面側に凹型に100μｍであった。
以上詳細に説明したように、本発明の情報記録媒体の
製造方法によれば、プラスチック基板上に形成された膜
構造体の内部応力を低減させることができ、情報記録媒
体の耐環境性を向上させることができるばかりでなく、
基板の反りを低下させることができる。
製造方法によれば、プラスチック基板上に形成された膜
構造体の内部応力を低減させることができ、情報記録媒
体の耐環境性を向上させることができるばかりでなく、
基板の反りを低下させることができる。
第１図は本発明の実施例１を実施する場合の成膜時にお
ける、基板の保持状態を示す略断面図、第２図は本発明
の実施例２を実施する場合の紫外線照射時における、デ
ィスクの保持状態を示す略断面図、第３図は本発明の一
実施例により製造された情報記録媒体の模式断面図であ
る。 1:基板、2:下地保護層 3:光磁気記録層、4:上地保護層 5:ディスクホルダー 6:ディスク支持テーブル 7:センターマスク、8:外周マスク 9:未硬化樹脂を塗布した状態の光磁気ディスク 10:真空チャック用排気孔 11:照射紫外線
ける、基板の保持状態を示す略断面図、第２図は本発明
の実施例２を実施する場合の紫外線照射時における、デ
ィスクの保持状態を示す略断面図、第３図は本発明の一
実施例により製造された情報記録媒体の模式断面図であ
る。 1:基板、2:下地保護層 3:光磁気記録層、4:上地保護層 5:ディスクホルダー 6:ディスク支持テーブル 7:センターマスク、8:外周マスク 9:未硬化樹脂を塗布した状態の光磁気ディスク 10:真空チャック用排気孔 11:照射紫外線
Claims (1)
- 【請求項１】プラスチック基板上に情報記録機能を有す
る膜構造体を設けることにより情報記録媒体を製造する
方法において、膜構造体中に発生する内部応力を緩和す
る方向に復元作用が働くようプラスチック基板に外力を
加えて弾性変形状態に保持し、かかる弾性変形状態のプ
ラスチック基板の上に膜構造体を形成した後、外力を除
去し、プラスチック基板を復元させることを特徴とする
情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12064888A JP2571819B2 (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12064888A JP2571819B2 (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 情報記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01292645A JPH01292645A (ja) | 1989-11-24 |
| JP2571819B2 true JP2571819B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=14791428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12064888A Expired - Fee Related JP2571819B2 (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2571819B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH692000A5 (de) * | 1995-11-13 | 2001-12-31 | Unaxis Balzers Ag | Beschichtungskammer, Substratträger hierfür, Verfahren zum Vakuumbedampfen sowie Beschichtungsverfahren. |
| US6184157B1 (en) * | 1998-06-01 | 2001-02-06 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Stress-loaded film and method for same |
| CN107498896A (zh) * | 2017-08-15 | 2017-12-22 | 珠海市春生五金工业有限公司 | 塑料产品的内应力去除方法及喷漆方法 |
-
1988
- 1988-05-19 JP JP12064888A patent/JP2571819B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01292645A (ja) | 1989-11-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |