JPH0531464B2

JPH0531464B2 -

Info

Publication number: JPH0531464B2
Application number: JP62120930A
Authority: JP
Inventors: Nobuo Kuwabara
Original assignee: Reiko Co Ltd
Current assignee: Reiko Co Ltd
Priority date: 1987-05-18
Filing date: 1987-05-18
Publication date: 1993-05-12
Also published as: JPS63286337A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は金属光沢性モールに関し、詳細に
は、テレビ、VTR等の電子機器の外枠の装飾用
モールとして使用すれば特に有益な、絶縁性を備
えた金属光沢性モールに関するものである。

（従来の技術）テレビ、VTR等の電子機器の外枠の装飾用モ
ールとして従来、モール成形したモール成形用樹
脂とAl箔又はAl蒸着フイルムとを貼り合わせた
金属光沢性モールが知られている。

（発明が解決しようとする課題）しかし、従来の金属光沢性モールをテレビ、
VTR等の電子機器の外枠に使用した場合、Al箔
又はAl蒸着フイルムのAl蒸着層が平面方向に連
続してつながつた導電性の層又は膜をなしている
から、Al箔又はAl蒸着層に電荷が帯電し、人が
これに接触すると電撃が生じたり、また逆に人体
に帯電した電荷により電子機器を破壊することが
ある。

そこで、Al箔を使用する場合は通常アースが
とられており、また、Al蒸着フイルムはAl蒸着
層が薄すぎてアースをとることは実際上困難であ
り、常に電撃が生じる危険性があることから、実
際上は殆ど使用されていない。

そこで、本発明者は鋭意研究の結果、金属蒸着
層のうち特定の構造をした金属蒸着層が、絶縁性
を備えていることを見出し、この発明を完成した
もので、この発明は、上記の欠点を除去し、平面
方向に連続した美麗な金属光沢性を備えていると
ともに絶縁性をも備えていて、テレビ、VTR等
の電子機器の外枠に使用した場合でも上記した電
撃が生じることがなく、もちろんアースも不要
な、絶縁性を備えた金属光沢性モールを提供する
ものである。

（課題を解決するための手段）この発明は、モール成形したモール成形用樹脂
と金属蒸着フイルムとを貼り合わせてなる金属光
沢性モールにおいて、金属蒸着フイルムの金属蒸
着層を島のサイズが200Å〜1μｍで島の間隔が
100Å〜5000Åの島状構造としたことを特徴とす
る、絶縁性を備えた金属光沢性モールである。

この発明は、モール成形したモール成形用樹
脂、すなわち、モール成形用樹脂による成形品と
金属蒸着フイルムとを貼り合わせた、金属光沢性
モールである。

そして、この発明は、モール成形したモール成
形用樹脂に金属光沢性を付与するために、例えば
塩化ビニル樹脂等のモール成形用樹脂のモール成
形と同時に貼り合わせたり、あるいは、フイルム
又はシート状にした塩化ビニル樹脂等のモール成
形用樹脂と予め貼り合わてその後モール成形した
りする場合に使用する金属蒸着フイルムの金属蒸
着層を、島状構造として絶縁性を備えたものとし
た点に特に大きな特徴を有するものである。

モール成形用樹脂としては、塩化ビニル樹脂等
の、従来からモール成形用樹脂として使用されて
いるものが使用できる。

モール成形したモール成形用樹脂と金属蒸着フ
イルムとの貼り合わせは、金属蒸着フイルムのフ
イルム側又は金属蒸着層側のいずれが外側又は内
側であつてもよい。

金属蒸着フイルムの金属蒸着層上には着色又は
未着色の保護層があつてもよい。

また、金属蒸着フイルムは他のプラスチツクフ
イルム等と貼着したものであつてもよい。

金属蒸着フイルムに使用するフイルムとして
は、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリ
プロピレンフイルム、ポリエチレンフイルム、ポ
リ塩化ビニルフイルム、その他各種のプラスチツ
クフイルムが使用できる。

金属蒸着層は、真空蒸着、スパツタリング、イ
オンプレーティング等の従来公知の薄膜生成法に
より、フイルム上に形成する。

金属蒸着層は、薄膜生成過程でいえば、「核生
成」から、「核結合」、「初期島状構造」を経た後
の島状構造となるようにフイルム上に形成する。

島状構造をした金属蒸着層状には保護層があつ
てもよく、島状構造をした金属蒸着層の下には前
処理としての下地層があつてもよい。

また、この発明は、島状構造をした金属蒸着層
を部分的に形成してもよく、このようにした場合
は、島状構造をした金属蒸着層の存在する部分と
存在しない部分とが相まつて適宜の模様、図柄等
を現出させることができる。

この発明は、金属蒸着層の構造を島状構造とす
ることにより、金属蒸着層を使用しているにもか
かわらず、絶縁性のものとしたものである。

金属蒸着層の島状構造は、島のサイズが200Å
〜1μｍで島の間隔が100Å〜5000Åの島状構造と
する。

金属蒸着層の島状構造における島のサイズが
200Åより小さいと、島が小さすぎて、平面方向
に連続した美麗な金属光沢が得られない。島のサ
イズが1μｍより大きいと、島が大きすぎるので
島と島とが接して一体となつてきて、絶縁性が低
下する。

金属蒸着層の島状構造における島の間隔が100
Åより小さいと、帯電した電荷のトンネル電流が
流れて、絶縁性が低下する。島の間隔が5000Åよ
り大きいと、全体としての金属の量が少なくなる
ので、平面方向に連続した美麗な金属光沢が得ら
れない。

島状構造をした金属蒸着層には、Sn、Pb、
Zn、Bi、Ti、Cr、Fe、Ｃ、Ni、Si、Ge等の各
種の金属が使用できる。

この発明の島状構造をした金属蒸着層は、真空
蒸着等における蒸発速度、蒸着層厚等を制御する
ことにより形成することができる。

真空蒸着等における制御は、薄膜生成過程でい
えば、「核生成」から、「核結合」、「初期島状構
造」を経た後の島状構造となるように制御する。

制御は使用する金属により難易がある。大ざつ
ぱにいえば、融点の低い金属や貴金属は制御が比
較的容易であり、中でもSn、Pb、Zn、Bi等は特
に容易である。また、Ti、Cr、Fe、Co、Ni等の
遷移金属や、Si、Ge等の半導体金属は制御は比
較的容易でない。

島状構造をした金属蒸着層の形成時の制御にお
いて、一般的には、蒸発速度を速くする程島のサ
イズは小さくなる傾向にある。しかし、蒸着層厚
の影響は特に大きく、蒸着層厚を光線過程率で換
算した場合、光線透過率１％〜15％程度がこの発
明の金属蒸着層の島状構造を得るのに最適であ
る。もつともこれも金属により異なり、Sn、Pb、
Zn、Bi等はこれでよいが、その他の金属では必
ずしもこの範囲が最適とはならない場合もある。

この発明に使用する代表的金属であるSnの場
合、Sn蒸着層の光線透過率が３〜10％より低い
と、絶縁破壊電圧が1000Vに達せず、光線透過率
が15％を超えると、絶縁破壊電圧は12000V以上
となるが、平面方向に連続した美麗な金属光沢が
得られない。

平面方向に連続した美麗な金属光沢を得るに
は、Sn蒸着層の場合、光沢度で大体350以上を要
するのであるが、Sn蒸着層の光線透過率が大体
15％以下であれば光沢度が大体350以上となるも
のである。

しかし、Sn蒸着層の光線透過率が３〜10％よ
り少ないと、光沢度は450以上となるのであるが、
絶縁破壊電圧は1000Vに達しなくなるものであ
る。

（実施例及び比較例）実施例１厚さ12μｍの長尺なポリエチレンテレフタレー
トフイルムの片面に、半連続式真空蒸着機を使用
して、蒸発速度0.5ｇ／min、光線透過率15％に
コントロールしつつSn蒸着層を形成して、金属
蒸着フイルムを得た（光線透過率はフイルム巻取
りスピードの制御によりコントロールした）。

なお、光線透過率は、全光線透過率をJISK−
6714の方法により測定した。

Sn蒸着層の島のサイズ、島の間隔を測定した
ところ、島のサイズは0.4μｍで島の間隔は500Å
であつた。

なお、島のサイズについては、電子顕微鏡にて
Sn蒸着層を観察して平均的な大きさを表示し、
島の間隔については、電子顕微鏡にてSn蒸着層
を観察して平均的な間隔を表示した。

また、Sn蒸着層の絶縁破壊電圧及び光沢度に
ついても測定した。

次いで、得られた金属蒸着フイルムのSn蒸着
層上にロールコーターにより塩ビ酢ビ共重合体樹
脂を2μｍの厚さに塗布し、該塩ビ酢ビ共重合体
樹脂面を内側として、加熱加圧により200μｍの
厚さの塩化ビニルフイルムとラミネートした。

その後このようにして得られたものを10mm幅に
スリツトし、モール成形用樹脂である塩化ビニル
樹脂のモール成形と同時に、塩化ビニルフイルム
を内側としてポリエチレンテレフタレートフイル
ムを外側としてモール成形用塩化ビニル樹脂と貼
り合わせて、絶縁性を備えた金属光沢性モールを
得た。

実施例２蒸発速度1.0ｇ／min、光線透過率10％とした
ほかは実施例１と同様にして、金属蒸着フイルム
を得た。

Sn蒸着層の島のサイズは1.0μｍで島の間隔は
500Åであつた。

次いで、実施例１と同様にして、絶縁性を備え
た金属光沢性モールを得た。

比較例１厚さ12μｍの長尺なポリエチレンテレフタレー
トフイルムの片面に、半連続式真空蒸着機を使用
して、厚さ500ÅのAl蒸着層を形成して、金属蒸
着フイルムを得た。

該Al蒸着層は島状構造でなく平面方向に連続
した層をなしていて、平面方向に連続した美麗な
金属光沢をしていた。

なお、Al蒸着層は電子顕微鏡にて観察した。

また、Al蒸着層の絶縁破壊電圧及び光沢度に
ついても測定した。

次いで、実施例１と同様にして、金属光沢性モ
ールを得た。

上記の実施例１、実施例２及び比較例１におけ
る200μｍの厚さの塩化ビニルフイルムをラミネ
ートする前の金属蒸着フイルムを一部それぞれサ
ンプルとして絶縁破壊電圧を測定した。

絶縁破壊電圧の測定は、サンプルの金属蒸着層
表面に50mmφの円柱による電極と70ｍφ肉厚50mm
のガードリング電極とを接触させ、この両電極間
に電圧を印可し、放電により金属蒸着層に孔があ
いてポリエチレンテレフタレートフイルムが露出
したときの電圧を測定した。

また、それぞれのサンプルにつき金属蒸着層の
光沢度についても測定した。

なお、光沢度は、JIS Ｚ−874の方法により測
定した。

実施例１、実施例２及び比較例１の場合の絶縁
破壊電圧及び光沢度測定の結果は次の表の通りで
あつた。

絶縁破壊電圧光沢度実施例１ 12000V以上 350 実施例２ 1000V 450 比較例１ 300V 800 （発明の効果）この発明は、金属蒸着フイルムの金属蒸着層を
島のサイズが200Å〜1μｍで島の間隔が100Å〜
5000Åの島状構造としたから、平面方向に連続し
た美麗な金属光沢を備えているとともに絶縁性を
備えていて、1000V以上もの絶縁破壊電圧を容易
に得ることができる。

従つて、従来のAl箔又はAl蒸着フイルムを使
用したものとは異なり、テレビ、VTR等の電子
機器の外枠に使用した場合に、手を触れても何ら
通電することがないから電撃が生じることがなく
安心して使用でき、もちろんアースも不要であ
る。

Claims

【特許請求の範囲】

１モール成形したモール成形用樹脂と金属蒸着
フイルムとを貼り合わせてなる金属光沢性モール
において、金属蒸着フイルムの金属蒸着層を島の
サイズが200Å〜1μｍで島の間隔が100Å〜5000
Åの島状構造としたことを特徴とする、絶縁性を
備えた金属光沢性モール。