JPH0554377A - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0554377A JPH0554377A JP24283191A JP24283191A JPH0554377A JP H0554377 A JPH0554377 A JP H0554377A JP 24283191 A JP24283191 A JP 24283191A JP 24283191 A JP24283191 A JP 24283191A JP H0554377 A JPH0554377 A JP H0554377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- magnetic
- magnetic recording
- film layer
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体の耐候性を向上する。
【構成】 金属基板１と、この金属基板１を被覆する金
属中間層２と、この金属中間層２を被覆する磁性薄膜層
３と、この磁性薄膜層３を被覆する酸化被膜層５とを順
次形成した後に、各種金属浴の超音波処理６を施す。 【効果】 Ｎｉ酸化被膜層５がもつ微小なピンホールを
各種（Ｚｎ，Ｃｒ，Ｍｏ）化学金属浴の超音波処理する
ことにより耐候性に備えた高記録密度用の磁気記録体が
得られる。
属中間層２と、この金属中間層２を被覆する磁性薄膜層
３と、この磁性薄膜層３を被覆する酸化被膜層５とを順
次形成した後に、各種金属浴の超音波処理６を施す。 【効果】 Ｎｉ酸化被膜層５がもつ微小なピンホールを
各種（Ｚｎ，Ｃｒ，Ｍｏ）化学金属浴の超音波処理する
ことにより耐候性に備えた高記録密度用の磁気記録体が
得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記憶装置に用いら
れる磁気ディスク，磁気ドラム等の磁気記録体の製造方
法に関する。
れる磁気ディスク，磁気ドラム等の磁気記録体の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高密度磁気記録体として、磁性薄
膜媒体を使用したハード磁気ディスク，フロッピ磁気デ
ィスクが急速に普及してきた。
膜媒体を使用したハード磁気ディスク，フロッピ磁気デ
ィスクが急速に普及してきた。
【０００３】磁気記録体に磁性薄膜媒体を用いる利点
は、磁性薄膜化で高飽和磁束密度が可能であり、且つ高
保磁力が得られることであり、この特性のため、磁性薄
膜媒体は、高密度磁気記録体に適し、メッキ法，スパッ
ター法，蒸着法，イオンプレーティング法等を用いて薄
膜作製を容易に行うことができる。
は、磁性薄膜化で高飽和磁束密度が可能であり、且つ高
保磁力が得られることであり、この特性のため、磁性薄
膜媒体は、高密度磁気記録体に適し、メッキ法，スパッ
ター法，蒸着法，イオンプレーティング法等を用いて薄
膜作製を容易に行うことができる。
【０００４】磁気記憶装置における高密度化の進展は、
年々高まりつつあり、これらを実現するために記録媒体
特性の改善，磁気ヘッド特性の改善が挙げられるが、一
方では耐久性の改善，耐候性の改善が高密度化に重要な
課題となっている。
年々高まりつつあり、これらを実現するために記録媒体
特性の改善，磁気ヘッド特性の改善が挙げられるが、一
方では耐久性の改善，耐候性の改善が高密度化に重要な
課題となっている。
【０００５】保護膜には摩擦性，耐摩耗性のような機械
的耐久性だけでなく、磁性薄膜媒体の化学的耐久性も要
求される。また、磁気記録媒体の機械的耐久性，化学的
耐久性を向上させるために磁性薄膜媒体の上に保護膜が
被覆される。
的耐久性だけでなく、磁性薄膜媒体の化学的耐久性も要
求される。また、磁気記録媒体の機械的耐久性，化学的
耐久性を向上させるために磁性薄膜媒体の上に保護膜が
被覆される。
【０００６】一般的な保護膜として、Ｒｈ，Ｎｉ，Ｚｎ
等の金属を電気メッキ法で被覆する法及びＮｉＰ，Ｃｏ
Ｂ等を無電解メッキ法で磁気記録媒体の表面に形成した
後に、酸化雰囲気中で酸化させて形成する方法がある。
等の金属を電気メッキ法で被覆する法及びＮｉＰ，Ｃｏ
Ｂ等を無電解メッキ法で磁気記録媒体の表面に形成した
後に、酸化雰囲気中で酸化させて形成する方法がある。
【０００７】また、Ｐｔ，Ｃ，Ｗ等を高真空機（蒸着，
スパッター装置）を使用して磁気記録体の表面に形成す
る方法がある。
スパッター装置）を使用して磁気記録体の表面に形成す
る方法がある。
【０００８】さらに、保護膜を構成する材料を液体溶媒
させ、スピンコート法により磁気記録体の表面に塗布し
た後に、加熱乾燥することにより形成する方法がある。
させ、スピンコート法により磁気記録体の表面に塗布し
た後に、加熱乾燥することにより形成する方法がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】磁気記憶装置における
高密度化の進展は、年々高まりつつあり、これらを実現
するために記録媒体特性の改善，磁気ヘッド特性の改善
が挙げられるが特に保護膜を薄くすることが高密度化に
大きい効果がある。しかし、保護膜を薄くすると耐候性
が悪くなり、一定時間放置した後ビットエラーが増加す
るという問題があった。
高密度化の進展は、年々高まりつつあり、これらを実現
するために記録媒体特性の改善，磁気ヘッド特性の改善
が挙げられるが特に保護膜を薄くすることが高密度化に
大きい効果がある。しかし、保護膜を薄くすると耐候性
が悪くなり、一定時間放置した後ビットエラーが増加す
るという問題があった。
【００１０】本発明の目的は従来の保護膜の欠点を改善
し、実用的な耐候性を備えた高記録密度用の磁気記録体
の製造方法を提供することにある。
し、実用的な耐候性を備えた高記録密度用の磁気記録体
の製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による磁気記録体の製造方法においては、金
属基板と、この金属基板を被覆する金属中間層と、この
金属中間層を被覆する磁性薄膜層と、この磁性薄膜層を
被覆する酸化被膜層を順次形成した後に、化学処理する
磁気記録体の製造方法であって、化学処理は、各種化学
金属浴の超音波処理であり、超音波処理時間を３０秒か
ら１８０秒の範囲に設定するものである。
め、本発明による磁気記録体の製造方法においては、金
属基板と、この金属基板を被覆する金属中間層と、この
金属中間層を被覆する磁性薄膜層と、この磁性薄膜層を
被覆する酸化被膜層を順次形成した後に、化学処理する
磁気記録体の製造方法であって、化学処理は、各種化学
金属浴の超音波処理であり、超音波処理時間を３０秒か
ら１８０秒の範囲に設定するものである。
【００１２】
【作用】本発明は、金属基板と、この金属基板を被覆す
る金属中間層と、この金属中間層を被覆する磁性薄膜層
と、この磁性薄膜層を被覆する酸化被膜層とを順次形成
した後に、化学処理して耐防蝕性を高め、酸化被膜層の
もつ微小なピンホールが化学処理被膜されている構造を
得るものである。
る金属中間層と、この金属中間層を被覆する磁性薄膜層
と、この磁性薄膜層を被覆する酸化被膜層とを順次形成
した後に、化学処理して耐防蝕性を高め、酸化被膜層の
もつ微小なピンホールが化学処理被膜されている構造を
得るものである。
【００１３】本発明に用いて得られる磁気記録体の磁性
薄膜とは、メッキ法，スパッター法，蒸着法，イオンプ
レーティング法等によって作製され、Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ
より選ばれた一種以上の金属を５０重量％以上含んでな
る金属膜を示す。
薄膜とは、メッキ法，スパッター法，蒸着法，イオンプ
レーティング法等によって作製され、Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ
より選ばれた一種以上の金属を５０重量％以上含んでな
る金属膜を示す。
【００１４】これには、さらに他の添加元素として、
Ｃ，Ｂ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍ
ｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｏ，Ｇａ，Ｇｅ，Ａｓ，Ｓｅ，Ｍｏ，
Ｒｈ，Ｐｄ，Ｈｇ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｐ
ｒ，Ｎ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ｐｂ，Ｂｉ等が５０重量％以下の割合で含まれても
よい。
Ｃ，Ｂ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍ
ｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｏ，Ｇａ，Ｇｅ，Ａｓ，Ｓｅ，Ｍｏ，
Ｒｈ，Ｐｄ，Ｈｇ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｃｅ，Ｐ
ｒ，Ｎ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｐｔ，Ａ
ｕ，Ｐｂ，Ｂｉ等が５０重量％以下の割合で含まれても
よい。
【００１５】本発明に用いて得られる酸化被膜とは、Ｒ
ｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｃｏ又はそれ
らの合金（Ｂ，Ｐのいずれか一方又は両方を含む場合も
ある）を被覆した後、酸素又はオゾンなどを含む酸化性
雰囲気中で焼成することにより表面に酸化被膜が形成さ
れる被膜である。
ｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｃｏ又はそれ
らの合金（Ｂ，Ｐのいずれか一方又は両方を含む場合も
ある）を被覆した後、酸素又はオゾンなどを含む酸化性
雰囲気中で焼成することにより表面に酸化被膜が形成さ
れる被膜である。
【００１６】本発明に用いて得られる化学処理とは、Ｒ
ｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｃｏ，Ｔｉ，Ｔａ，
Ｃｄ，Ｖ，又はそれらの合金（Ｂ，Ｐのいずれか一方又
は両方を含む場合もある）が、記録媒体の磁性薄膜に影
響を与えない化学的処理である。
ｅ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｃｏ，Ｔｉ，Ｔａ，
Ｃｄ，Ｖ，又はそれらの合金（Ｂ，Ｐのいずれか一方又
は両方を含む場合もある）が、記録媒体の磁性薄膜に影
響を与えない化学的処理である。
【００１７】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。
【００１８】図１において、アルミ合金圧延板よりプレ
スにて打ち抜いたドーナツ状円板を切削加工により表面
を平坦、且つ、平滑に仕上げ、これを金属基板１とす
る。
スにて打ち抜いたドーナツ状円板を切削加工により表面
を平坦、且つ、平滑に仕上げ、これを金属基板１とす
る。
【００１９】この上に、無電解ニッケル−リンめっき液
（日本カニゼン社製，シューマーＢＯ）を用いて膜厚２
０μｍのニッケル−リンめっき膜（金属中間層）２を形
成した。
（日本カニゼン社製，シューマーＢＯ）を用いて膜厚２
０μｍのニッケル−リンめっき膜（金属中間層）２を形
成した。
【００２０】この両面を機械加工により鏡面研磨した
後、下記１に示すめっき浴にて膜厚０．０６μｍのコバ
ルト−ニッケル−リン合金めっき層（磁性薄膜媒体）３
を形成した。
後、下記１に示すめっき浴にて膜厚０．０６μｍのコバ
ルト−ニッケル−リン合金めっき層（磁性薄膜媒体）３
を形成した。
【００２１】この上に、０．０５μｍのＮｉＰ非磁性層
４を形成した後に、電気炉で２９０℃，１時間焼成し、
Ｎｉ酸化被膜層５を形成する。更に、酸化被膜層５を下
記２に示す金属濃度で、各種化学金属浴の超音波処理６
を施して磁気記録体を作製した。
４を形成した後に、電気炉で２９０℃，１時間焼成し、
Ｎｉ酸化被膜層５を形成する。更に、酸化被膜層５を下
記２に示す金属濃度で、各種化学金属浴の超音波処理６
を施して磁気記録体を作製した。
【００２２】耐候性の評価については、例えば通研実報
３１，Ｎｏ．１．Ｐ２８８，（１９８２）［３．２ＧＢ
集合形磁気ディスク装置］に示すように、温度２５℃，
相対湿度５０％，期間５年間の保証をすることと記載さ
れている。
３１，Ｎｏ．１．Ｐ２８８，（１９８２）［３．２ＧＢ
集合形磁気ディスク装置］に示すように、温度２５℃，
相対湿度５０％，期間５年間の保証をすることと記載さ
れている。
【００２３】しかし、これらの条件の通りに試験するこ
とは効率的でないため、例えば電子通信学会公演論文集
１−１７２．（１９８３）［めっき磁気ディスクの耐湿
性評価］で示すように加速試験方法によって下記３の測
定条件に設定して下記４．の耐候性加速条件で行った。
とは効率的でないため、例えば電子通信学会公演論文集
１−１７２．（１９８３）［めっき磁気ディスクの耐湿
性評価］で示すように加速試験方法によって下記３の測
定条件に設定して下記４．の耐候性加速条件で行った。
【００２４】１．めっき浴 硫酸コバルト ０．０６ｍｏｌ／ｌ 硫酸ニッケル ０．０４ｍｏｌ／ｌ 次亜リン酸ナトリウム ０．２ ｍｏｌ／ｌ 硫酸アンモニウム ０．１ ｍｏｌ／ｌ マロン酸ナトリウム ０．３ ｍｏｌ／ｌ リンゴ酸ナトリウム ０．４ ｍｏｌ／ｌ コハク酸ナトリウム ０．５ ｍｏｌ／ｌ ＰＨ＝９．２ 浴温＝８０℃
【００２５】２．各種化学金属濃度条件 無水クロム酸 ３ｇ／ｌ 硫酸亜鉛 ３０ｇ／ｌ モリブデン酸 ２ｇ／ｌ 化学金属浴ｐＨ ６．０ 化学金属浴温 室温
【００２６】３．測定条件 ディスク ５インチ ディスク回転数 ３６００ｒｐｍ ヘッド条件 ギャップ長 ０．６μｍ ヘッド幅 １５μｍ コイル巻数 １６Ｔ＋１６Ｔ ヘッド浮上量 ０．２μｍ トラックピッチ １０μｍ テスト範囲（ｒ） ３３〜６１ｍｍ エラー条件 記録密度 ２０ＫＦＲＰＩ 記録電流 ４０ｍＡＰ−Ｐ
【００２７】４．耐候性加速試験条件 温度 ５０℃ 湿度 ８５％ 試験日数 ３０日間
【００２８】
【比較例】実施例と比較するために、化学処理無しの試
料を同様に試作した。耐候性の加速試験を行い、ビット
エラー個数は、規格化ビットエラー数とし、定義は、規
格化ビットエラー数＝（化学処理無しで加速試験後−加
速試験前）−（化学処理有りで加速試験後−加速試験
前）とした。
料を同様に試作した。耐候性の加速試験を行い、ビット
エラー個数は、規格化ビットエラー数とし、定義は、規
格化ビットエラー数＝（化学処理無しで加速試験後−加
速試験前）−（化学処理有りで加速試験後−加速試験
前）とした。
【００２９】図２に示すように、いずれの金属浴におい
て、金属浴の超音波処理を行わないものに比して超音波
時間を３０秒から１８０秒の範囲で規格化ビットエラー
数が減少できることがわかった。
て、金属浴の超音波処理を行わないものに比して超音波
時間を３０秒から１８０秒の範囲で規格化ビットエラー
数が減少できることがわかった。
【００３０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、金属基板
と、この金属基板を被覆する金属中間層と、この金属中
間層を被覆する磁性薄膜層と、この磁性薄膜層を被覆す
る酸化被膜層とを有する磁気記録体の製造方法におい
て、酸化被膜層を形成した後に、各種金属浴の超音波処
理をすることにより、各種化学金属浴の超音波処理によ
って、酸化膜被膜層のもつ微小なピンホールが化学処理
被膜され、良好な耐候性を有する磁気記録体を得ること
ができる効果を有する。
と、この金属基板を被覆する金属中間層と、この金属中
間層を被覆する磁性薄膜層と、この磁性薄膜層を被覆す
る酸化被膜層とを有する磁気記録体の製造方法におい
て、酸化被膜層を形成した後に、各種金属浴の超音波処
理をすることにより、各種化学金属浴の超音波処理によ
って、酸化膜被膜層のもつ微小なピンホールが化学処理
被膜され、良好な耐候性を有する磁気記録体を得ること
ができる効果を有する。
【図１】各種金属浴の超音波処理を本発明に基づいて試
作した磁気ディスクの部分断面図を示す図である。
作した磁気ディスクの部分断面図を示す図である。
【図２】各種金属浴の超音波処理による加速耐候性試験
後の規格化ビットエラー数を示す図である。
後の規格化ビットエラー数を示す図である。
１ 金属基板 ２ 金属中間層 ３ 磁性薄膜層 ４ ＮｉＰ非磁性層 ５ Ｎｉ酸化被膜層 ６ 各種金属浴超音波処理
Claims (1)
- 【請求項１】 金属基板と、この金属基板を被覆する金
属中間層と、この金属中間層を被覆する磁性薄膜層と、
この磁性薄膜層を被覆する酸化被膜層を順次形成した後
に、化学処理する磁気記録体の製造方法であって、 化学処理は、各種化学金属浴の超音波処理であり、超音
波処理時間を３０秒から１８０秒の範囲に設定するもの
であることを特徴とする磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24283191A JPH0554377A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24283191A JPH0554377A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0554377A true JPH0554377A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=17094942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24283191A Pending JPH0554377A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0554377A (ja) |
-
1991
- 1991-08-28 JP JP24283191A patent/JPH0554377A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1991006948A1 (fr) | Procede de production d'un support d'enregistrement magnetique | |
| NL192897C (nl) | Magnetische film van gamma-Fe2O3 voor magnetisch registratiemedium, en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
| JP3108637B2 (ja) | 軟磁性薄膜の製造方法 | |
| US4876113A (en) | Method for producing magnetic recording media | |
| JP2773477B2 (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JPH04281214A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0481268B2 (ja) | ||
| JPH05151567A (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JPS62117143A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59177725A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JP2538123B2 (ja) | 固定磁気ディスクおよびその製造方法 | |
| JPS59180829A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0816975B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62183021A (ja) | 保護層を有する磁気記録媒体 | |
| JPS6233322A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63104214A (ja) | 磁気記憶体およびその製造方法 | |
| JPS6038731A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPH0426920A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPS6085433A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS60124021A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6085431A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS62214521A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62291719A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS644255B2 (ja) | ||
| JPS63217520A (ja) | 磁気記憶体 |