JPH0557260B2 - - Google Patents
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- JPH0557260B2 JPH0557260B2 JP61091259A JP9125986A JPH0557260B2 JP H0557260 B2 JPH0557260 B2 JP H0557260B2 JP 61091259 A JP61091259 A JP 61091259A JP 9125986 A JP9125986 A JP 9125986A JP H0557260 B2 JPH0557260 B2 JP H0557260B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0609—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen
- G03G5/0611—Squaric acid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03G5/0618—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen and nitrogen
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- Emergency Medicine (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真用感光材料、光デイスク用
記録材料、太陽電池、赤外線カツトフイルターの
分野で有用なスクエアリリウム化合物の合成原料
となる新規なシクロブテンジオン誘導体の製造方
法に関する。 〔従来の技術〕 従来、下記反応式（）および（）に示すよ
うに３，４−ジクロロ−３−シクロブテン−１，
２−ジオン（スクエアリツク酸塩化物）はルイス
酸触媒の存在下で芳香族化合物と反応して、対応
する ３−アリール−４−クロロ−３−シクロブテン−
１，２−ジオンを生成することが知られている。 〔B.R.Greenら、Synthesis，1974，46〕 〔L.A.Wendlingら、J.Org.Chem.，42（７）、
1126（1977）〕 これらの反応では、選択性に問題があり、特に
（）の反応では目的化合物（収率34％）のほか
に次式 で示される１，２−付加体（収率３％）が生成す
る。 スクエアリツク酸塩化物とＮ，Ｎ−ジメチルア
ニリンなどの第三級芳香族アミンとのフリーデル
クラフツ反応については報告例がない。なお、一
般のフリーデルクラフツ反応において第三級芳香
族アミンを用いた例として下記反応式（）で示
されるものがあるが、収率は38〜42％と低い。 〔Org.Syn.，41，１〕 また触媒を使用しないフリーデルクラフツ反応
の例としては、アニソール等の芳香族化合物とベ
ンゾイルクロライド等の反応が知られているが
（反応式（）参照）、比較的高い温度が必要であ
り、収率も低い。 〔D.E.Pearsonら、Synthesis，1972，533〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明の目的は電子写真感光体等の光導電材料
として有用なスクエアリリウム化合物の中間体で
あるヒドロキシシクロブテンジオン誘導体を選択
性よく、高純度で容易に製造できる方法を提供す
ることにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、式（） で示される３，４−ジクロロ−３−シクロブテン
−１，２−ジオンと一般式（） 〔式中、Ｘは水素原子、置換されていてもよい
アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、置換されて
いてもよいフエニル基、またはアルキル基が結合
したカルボンアミド基もしくはスルホンアミド基
を表わし、R1およびR2は互に独立したものであ
つて、各々置換されていてもよいアルキル基、置
換されていてもよいフエニル基または置換されて
いてもよいベンジル基を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体とを反応させ、一般式
（） 〔式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体を
得、この誘導体を加水分解することを特徴とする
一般式（） 〔式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるヒドロキシシクロブテンジオン誘導体
の製造方法を提供したものである。 本発明の方法では、まず式（）のスクエアリ
ツク酸塩化物と式（）のアニリン誘導体との反
応によつて式（）のクロロシクロブテンジオン
誘導体を合成する。 この合成反応においては、原料の式（）で示
されるアニリン誘導体は式（）のスクエアリツ
ク酸塩化物に対して１当量以上、好ましくは２〜
５当量使用する。 原料のアニリン誘導体が液体の場合には溶媒を
兼ねるので必ずしも溶媒を用いなくてもよいが、
塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルムなどの
ハロゲン化炭化水素、ニトロベンゼン、エチルエ
ーテル、二硫化炭素、アセトニトリルなど、好ま
しくは塩化メチレンを溶媒として使用するのがよ
い。 意外なことではあるが、触媒は使用しなくても
反応は充分に進行し、かえつて触媒を用いる場合
よりも高純度の目的物を得ることができるので好
ましい。しかし反応性の低いアニリン誘導体（Ｘ
がハロゲン原子、アルキル基が結合したカルボン
アミド基およびスルホンアミド基を表わす化合
物）については通常のフリーデルクラフツ反応触
媒、例えば塩化アルミニウム、塩化アンチモン、
塩化鉄、塩化チタン、塩化スズ、塩化ビスマス、
塩化亜鉛、塩化水銀、三フツ化ホウ素などのルイ
ス酸、好ましくは三フツ化ホウ素を、スクエアリ
ツク酸塩化物に対して0.01当量以上、好ましくは
0.1〜１当量使用する。 反応温度は０〜80℃、好ましくは０〜40℃であ
り、反応時間は30分〜20時間である。 反応終了後は、常法により後処理し、カラムク
ロマトグラフイーにより分離精製して目的物を得
ることができる。 このようにして得られた一般式（）のクロロ
シクロブテンジオン誘導体を加水分解することに
よつて、一般式（）のヒドロキシクロブテンジ
オン誘導体を容易に得ることができる。 この加水分解反応は、水の存在下で触媒を用い
ることなく、または酸あるいは塩基触媒の存在下
室温乃至還流温度で行われる。好ましくは、水−
酢酸混合溶媒中還流加熱して行われる。反応終了
後は、生成した結晶を別、洗浄して高純度の目
的物をほぼ定量的に得ることができる。 〔発明の効果〕 本発明はヒドロキシシクロブテンジオン誘導体
を選択性よく、高純度で容易に得ることのできる
製造方法を提供したものである。 本発明により得られるヒドロキシシクロブテン
ジオン誘導体は新規な化合物であり、この化合物
を各種アニリン誘導体等と反応させて、電子写真
感光体の光導電材料として有用な、対称型あるい
は非対称型のスクリエアリリウム化合物を合成す
ることができる。 〔実施例〕 以下、実施例を挙げて本発明を説明する。 実施例 １
記録材料、太陽電池、赤外線カツトフイルターの
分野で有用なスクエアリリウム化合物の合成原料
となる新規なシクロブテンジオン誘導体の製造方
法に関する。 〔従来の技術〕 従来、下記反応式（）および（）に示すよ
うに３，４−ジクロロ−３−シクロブテン−１，
２−ジオン（スクエアリツク酸塩化物）はルイス
酸触媒の存在下で芳香族化合物と反応して、対応
する ３−アリール−４−クロロ−３−シクロブテン−
１，２−ジオンを生成することが知られている。 〔B.R.Greenら、Synthesis，1974，46〕 〔L.A.Wendlingら、J.Org.Chem.，42（７）、
1126（1977）〕 これらの反応では、選択性に問題があり、特に
（）の反応では目的化合物（収率34％）のほか
に次式 で示される１，２−付加体（収率３％）が生成す
る。 スクエアリツク酸塩化物とＮ，Ｎ−ジメチルア
ニリンなどの第三級芳香族アミンとのフリーデル
クラフツ反応については報告例がない。なお、一
般のフリーデルクラフツ反応において第三級芳香
族アミンを用いた例として下記反応式（）で示
されるものがあるが、収率は38〜42％と低い。 〔Org.Syn.，41，１〕 また触媒を使用しないフリーデルクラフツ反応
の例としては、アニソール等の芳香族化合物とベ
ンゾイルクロライド等の反応が知られているが
（反応式（）参照）、比較的高い温度が必要であ
り、収率も低い。 〔D.E.Pearsonら、Synthesis，1972，533〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明の目的は電子写真感光体等の光導電材料
として有用なスクエアリリウム化合物の中間体で
あるヒドロキシシクロブテンジオン誘導体を選択
性よく、高純度で容易に製造できる方法を提供す
ることにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、式（） で示される３，４−ジクロロ−３−シクロブテン
−１，２−ジオンと一般式（） 〔式中、Ｘは水素原子、置換されていてもよい
アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、置換されて
いてもよいフエニル基、またはアルキル基が結合
したカルボンアミド基もしくはスルホンアミド基
を表わし、R1およびR2は互に独立したものであ
つて、各々置換されていてもよいアルキル基、置
換されていてもよいフエニル基または置換されて
いてもよいベンジル基を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体とを反応させ、一般式
（） 〔式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体を
得、この誘導体を加水分解することを特徴とする
一般式（） 〔式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示されるヒドロキシシクロブテンジオン誘導体
の製造方法を提供したものである。 本発明の方法では、まず式（）のスクエアリ
ツク酸塩化物と式（）のアニリン誘導体との反
応によつて式（）のクロロシクロブテンジオン
誘導体を合成する。 この合成反応においては、原料の式（）で示
されるアニリン誘導体は式（）のスクエアリツ
ク酸塩化物に対して１当量以上、好ましくは２〜
５当量使用する。 原料のアニリン誘導体が液体の場合には溶媒を
兼ねるので必ずしも溶媒を用いなくてもよいが、
塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルムなどの
ハロゲン化炭化水素、ニトロベンゼン、エチルエ
ーテル、二硫化炭素、アセトニトリルなど、好ま
しくは塩化メチレンを溶媒として使用するのがよ
い。 意外なことではあるが、触媒は使用しなくても
反応は充分に進行し、かえつて触媒を用いる場合
よりも高純度の目的物を得ることができるので好
ましい。しかし反応性の低いアニリン誘導体（Ｘ
がハロゲン原子、アルキル基が結合したカルボン
アミド基およびスルホンアミド基を表わす化合
物）については通常のフリーデルクラフツ反応触
媒、例えば塩化アルミニウム、塩化アンチモン、
塩化鉄、塩化チタン、塩化スズ、塩化ビスマス、
塩化亜鉛、塩化水銀、三フツ化ホウ素などのルイ
ス酸、好ましくは三フツ化ホウ素を、スクエアリ
ツク酸塩化物に対して0.01当量以上、好ましくは
0.1〜１当量使用する。 反応温度は０〜80℃、好ましくは０〜40℃であ
り、反応時間は30分〜20時間である。 反応終了後は、常法により後処理し、カラムク
ロマトグラフイーにより分離精製して目的物を得
ることができる。 このようにして得られた一般式（）のクロロ
シクロブテンジオン誘導体を加水分解することに
よつて、一般式（）のヒドロキシクロブテンジ
オン誘導体を容易に得ることができる。 この加水分解反応は、水の存在下で触媒を用い
ることなく、または酸あるいは塩基触媒の存在下
室温乃至還流温度で行われる。好ましくは、水−
酢酸混合溶媒中還流加熱して行われる。反応終了
後は、生成した結晶を別、洗浄して高純度の目
的物をほぼ定量的に得ることができる。 〔発明の効果〕 本発明はヒドロキシシクロブテンジオン誘導体
を選択性よく、高純度で容易に得ることのできる
製造方法を提供したものである。 本発明により得られるヒドロキシシクロブテン
ジオン誘導体は新規な化合物であり、この化合物
を各種アニリン誘導体等と反応させて、電子写真
感光体の光導電材料として有用な、対称型あるい
は非対称型のスクリエアリリウム化合物を合成す
ることができる。 〔実施例〕 以下、実施例を挙げて本発明を説明する。 実施例 １
【式】
スクエアリツク酸塩化物15.1ｇ（0.1mol）およ
び三フツ化ホウ素エチルエーテル錯体13ml
（0.1mol）を塩化メチレン60mlに溶解し、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン63ml（0.5mol）と混合、室
温で５時間攪拌して反応を行なつた。反応終了
後、混合物を希塩酸、ついで水で洗浄し、カラム
クロマトグラフイーを用いて分離生成を行ない、
標題の化合物19.0ｇ（収率81％）を得た。 mp：194〜195℃（分解）； IR（KBr）：1802，1772，1754cm-1； UV（CH2Cl2）：409nm； 元素分析：C12H10ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 61.16 61.32 Ｈ 4.28 4.17 Ｎ 5.94 5.84 実施例 ２ スクエアリツク酸塩化物15.1ｇ（0.1mol）を塩
化メチレン60mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン63ml（0.5mol）と混合、室温で10時間攪拌
し反応を行なつた。反応終了後、混合物を希塩
酸、ついで水で洗浄し、カラムクロマトグラフイ
ーを用いて分離精製を行ない、実施例１と同じ化
合物17.7ｇ（収率75％）を得た。 実施例 ３ スクエアリツク酸塩化物3.00ｇ（0.02mol）を
塩化メチレン30mlに溶かし塩化アルミニウム2.67
ｇ（0.02mol）を懸濁させ、氷冷、攪拌下Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン2.43ｇ（0.02mol）を滴下し
た。さらに2.5時間氷冷下で攪拌した後混合物を
希塩酸、ついで水で洗浄、カラムクロマトグラフ
イーを用いて分離生成を行ない、実施例１と同じ
化合物1.17ｇ（収率21％）を得た。この際副生成
物として１，２−付加体が0.13ｇ（収率２％）得
られた。 実施例 ４
び三フツ化ホウ素エチルエーテル錯体13ml
（0.1mol）を塩化メチレン60mlに溶解し、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン63ml（0.5mol）と混合、室
温で５時間攪拌して反応を行なつた。反応終了
後、混合物を希塩酸、ついで水で洗浄し、カラム
クロマトグラフイーを用いて分離生成を行ない、
標題の化合物19.0ｇ（収率81％）を得た。 mp：194〜195℃（分解）； IR（KBr）：1802，1772，1754cm-1； UV（CH2Cl2）：409nm； 元素分析：C12H10ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 61.16 61.32 Ｈ 4.28 4.17 Ｎ 5.94 5.84 実施例 ２ スクエアリツク酸塩化物15.1ｇ（0.1mol）を塩
化メチレン60mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン63ml（0.5mol）と混合、室温で10時間攪拌
し反応を行なつた。反応終了後、混合物を希塩
酸、ついで水で洗浄し、カラムクロマトグラフイ
ーを用いて分離精製を行ない、実施例１と同じ化
合物17.7ｇ（収率75％）を得た。 実施例 ３ スクエアリツク酸塩化物3.00ｇ（0.02mol）を
塩化メチレン30mlに溶かし塩化アルミニウム2.67
ｇ（0.02mol）を懸濁させ、氷冷、攪拌下Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン2.43ｇ（0.02mol）を滴下し
た。さらに2.5時間氷冷下で攪拌した後混合物を
希塩酸、ついで水で洗浄、カラムクロマトグラフ
イーを用いて分離生成を行ない、実施例１と同じ
化合物1.17ｇ（収率21％）を得た。この際副生成
物として１，２−付加体が0.13ｇ（収率２％）得
られた。 実施例 ４
【式】
スクエアリツク酸塩化物15.1ｇ（0.1mol）およ
び三フツ化ホウ素エチルエーテル錯体13ml
（0.1mol）を塩化メチレン60mlに溶解し、Ｎ，Ｎ
−ジメチル−ｍ−トルイジン72ml（0.5mol）と
混合、室温で１時間攪拌し反応を行ない、以下実
施例１と同様に処理して標題の化合物16.8ｇ（収
率67％）を得た。 mp：170.5〜171.5℃（分解）； IR（KBr）：1790，1770cm-1； UV（CH2Cl2）：421nm； 元素分析：C13H12ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 62.53 62.48 Ｈ 4.84 4.79 Ｎ 5.61 5.60 実施例 ５ スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）を塩
化メチレン30mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ
−トルイジン22ml（0.15mol）と混合、室温で５
時間攪拌し反応を行ない、以下実施例１と同様に
処理し、実施例４と同じ化合物7.9ｇ（収率63％）
を得た。 実施例 ６
び三フツ化ホウ素エチルエーテル錯体13ml
（0.1mol）を塩化メチレン60mlに溶解し、Ｎ，Ｎ
−ジメチル−ｍ−トルイジン72ml（0.5mol）と
混合、室温で１時間攪拌し反応を行ない、以下実
施例１と同様に処理して標題の化合物16.8ｇ（収
率67％）を得た。 mp：170.5〜171.5℃（分解）； IR（KBr）：1790，1770cm-1； UV（CH2Cl2）：421nm； 元素分析：C13H12ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 62.53 62.48 Ｈ 4.84 4.79 Ｎ 5.61 5.60 実施例 ５ スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）を塩
化メチレン30mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ
−トルイジン22ml（0.15mol）と混合、室温で５
時間攪拌し反応を行ない、以下実施例１と同様に
処理し、実施例４と同じ化合物7.9ｇ（収率63％）
を得た。 実施例 ６
【式】
スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）およ
び三フツ化ホウ素エチルエーテル錯体6.5ml
（0.05mol）を塩化メチレン30mlに溶解し、Ｎ，
Ｎ−ジメチル−ｍ−フルオロアニリン35ｇ
（0.25mol）と混合、室温で16時間攪拌し反応を
行ない。以下実施例１と同様に処理し、標題の化
合物9.1ｇ（収率72％）を得た。 mp：224℃（分解）； IR（KBr）：1816，1784，1760cm-1； UV（CH2Cl2）：402nm； 元素分析：C12H9ClFNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 56.82 56.85 Ｈ 3.58 3.39 Ｎ 5.52 5.39 実施例 ７
び三フツ化ホウ素エチルエーテル錯体6.5ml
（0.05mol）を塩化メチレン30mlに溶解し、Ｎ，
Ｎ−ジメチル−ｍ−フルオロアニリン35ｇ
（0.25mol）と混合、室温で16時間攪拌し反応を
行ない。以下実施例１と同様に処理し、標題の化
合物9.1ｇ（収率72％）を得た。 mp：224℃（分解）； IR（KBr）：1816，1784，1760cm-1； UV（CH2Cl2）：402nm； 元素分析：C12H9ClFNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 56.82 56.85 Ｈ 3.58 3.39 Ｎ 5.52 5.39 実施例 ７
【式】
スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）を、
塩化メチレン30mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
ｍ−アミノフエノール13.7ｇ（0.1mol）を塩化メ
チレン100mlに溶解した溶液を５〜10℃で徐々に
加え、30分間攪拌した。反応終了後、生じた沈殿
を別し、カラムクロマトグラフイーを用いて分
離生成を行ない、標題の化合物6.3ｇ（収率50％）
を得た。 mp：207〜209℃（分解）； IR（KBr）：1816，1766，1730cm-1； UV（CH2Cl2）：421nm； 元素分析：C12H10ClNO3として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 57.27 57.41 Ｈ 4.00 4.06 Ｎ 5.57 5.39 実施例 ８ スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）、Ｎ
−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）アニリン
35ｇ（0.15ml）および三フツ化ホウ素エチルエー
テル錯体6.5ml（0.05mol）を塩化メチレン100ml
に溶解し、室温で24時間攪拌した。以下実施例１
と同様に処理し、標題の化合物10.2ｇ（収率59
％）を得た。 mp：175〜176℃（分解）； IR（KBr）：1800，1758cm-1； UV（CH2Cl2）：405nm； 元素分析：C18H13Cl2NO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 62.45 62.67 Ｈ 3.78 3.66 Ｎ 4.05 4.02 実施例 ９
塩化メチレン30mlに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
ｍ−アミノフエノール13.7ｇ（0.1mol）を塩化メ
チレン100mlに溶解した溶液を５〜10℃で徐々に
加え、30分間攪拌した。反応終了後、生じた沈殿
を別し、カラムクロマトグラフイーを用いて分
離生成を行ない、標題の化合物6.3ｇ（収率50％）
を得た。 mp：207〜209℃（分解）； IR（KBr）：1816，1766，1730cm-1； UV（CH2Cl2）：421nm； 元素分析：C12H10ClNO3として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 57.27 57.41 Ｈ 4.00 4.06 Ｎ 5.57 5.39 実施例 ８ スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）、Ｎ
−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）アニリン
35ｇ（0.15ml）および三フツ化ホウ素エチルエー
テル錯体6.5ml（0.05mol）を塩化メチレン100ml
に溶解し、室温で24時間攪拌した。以下実施例１
と同様に処理し、標題の化合物10.2ｇ（収率59
％）を得た。 mp：175〜176℃（分解）； IR（KBr）：1800，1758cm-1； UV（CH2Cl2）：405nm； 元素分析：C18H13Cl2NO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 62.45 62.67 Ｈ 3.78 3.66 Ｎ 4.05 4.02 実施例 ９
【式】
スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）と
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアニリン27.3ｇ（0.1mol）を
塩化メチレン50mlに溶解し、10時間、加熱還流し
た。放冷後、混合物を希塩酸、ついで水で洗浄、
カラムクロマトグラフイーにより分離生成を行な
い、標題の化合物14.3ｇ（収率74％）を得た。 mp：171〜173℃； IR（KBr）：1756cm-1； UV（CH2Cl2）：406nm； 元素分析：C24H18ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 74.32 74.21 Ｈ 4.68 4.75 Ｎ 3.61 3.69 実施例 10
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアニリン27.3ｇ（0.1mol）を
塩化メチレン50mlに溶解し、10時間、加熱還流し
た。放冷後、混合物を希塩酸、ついで水で洗浄、
カラムクロマトグラフイーにより分離生成を行な
い、標題の化合物14.3ｇ（収率74％）を得た。 mp：171〜173℃； IR（KBr）：1756cm-1； UV（CH2Cl2）：406nm； 元素分析：C24H18ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 74.32 74.21 Ｈ 4.68 4.75 Ｎ 3.61 3.69 実施例 10
【式】
スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）とト
リフエニルアミン14.7ｇ（0.06mol）を塩化メチ
レン50mlに溶解し、24時間、加熱還流した。放冷
後、混合物を水で洗浄、カラムクロマトグラフイ
ーにより分離生成を行ない、標題化合物7.0ｇ
（収率39％）を得た。 mp：218〜219.5℃（分解）； IR（KBr）：1802，1782cm-1； UV（CH2Cl2）：423nm； 元素分析：C22H14ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 73.44 73.48 Ｈ 3.92 3.77 Ｎ 3.89 3.69 実施例 11 スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）、ト
リフエニルアミン14.7ｇ（0.06mol）、および三フ
ツ化ホウ素エーテル錯体6.5ml（0.05mol）を塩化
メチレン50mlに溶解し、15時間加熱攪拌した。放
冷後、混合物を水で洗浄、カラムクロマトグラフ
イーにより分離精製を行ない、実施例10と同じ化
合物8.5ｇ（収率47％）を得た。 実施例 12〜14 実施例１と同様の方法により、対応する原料を
用いて表１に示す化合物を得た。各化合物の物性
値等をも表１に示す。
リフエニルアミン14.7ｇ（0.06mol）を塩化メチ
レン50mlに溶解し、24時間、加熱還流した。放冷
後、混合物を水で洗浄、カラムクロマトグラフイ
ーにより分離生成を行ない、標題化合物7.0ｇ
（収率39％）を得た。 mp：218〜219.5℃（分解）； IR（KBr）：1802，1782cm-1； UV（CH2Cl2）：423nm； 元素分析：C22H14ClNO2として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 73.44 73.48 Ｈ 3.92 3.77 Ｎ 3.89 3.69 実施例 11 スクエアリツク酸塩化物7.5ｇ（0.05mol）、ト
リフエニルアミン14.7ｇ（0.06mol）、および三フ
ツ化ホウ素エーテル錯体6.5ml（0.05mol）を塩化
メチレン50mlに溶解し、15時間加熱攪拌した。放
冷後、混合物を水で洗浄、カラムクロマトグラフ
イーにより分離精製を行ない、実施例10と同じ化
合物8.5ｇ（収率47％）を得た。 実施例 12〜14 実施例１と同様の方法により、対応する原料を
用いて表１に示す化合物を得た。各化合物の物性
値等をも表１に示す。
【表】
実施例 15
【式】
実施例１で得た化合物19.0ｇ（0.08mol）に、
酢酸75mlおよび水25mlを加え、１時間加熱還流、
放冷後、沈殿物を別、水で洗浄し、標題化合物
17.2ｇ（収率98％）を得た mp：＞240℃（徐々に分解）； IR（KBr）：1772，1756，1710cm-1； UV（H2Ｏ）：389nm； 元素分析：C12H11NO3として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 66.35 66.34 Ｈ 5.10 5.01 Ｎ 6.45 6.35 実施例 16〜24 実施例15と同様の方法によつて、対応するクロ
ロシクロブテンジオン誘導体を加水分解して表２
に示すヒドロキシシクロブテンジオン誘導体を得
た。物性値等の分析結果をも表２に示す。
酢酸75mlおよび水25mlを加え、１時間加熱還流、
放冷後、沈殿物を別、水で洗浄し、標題化合物
17.2ｇ（収率98％）を得た mp：＞240℃（徐々に分解）； IR（KBr）：1772，1756，1710cm-1； UV（H2Ｏ）：389nm； 元素分析：C12H11NO3として 計算値（％） 実測値（％） Ｃ 66.35 66.34 Ｈ 5.10 5.01 Ｎ 6.45 6.35 実施例 16〜24 実施例15と同様の方法によつて、対応するクロ
ロシクロブテンジオン誘導体を加水分解して表２
に示すヒドロキシシクロブテンジオン誘導体を得
た。物性値等の分析結果をも表２に示す。
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式（） で示される３，４−ジクロロ−３−シクロブテン
−１，２−ジオンと一般式（） 〔式中、Ｘは水素原子、置換されていてもよい
アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、置換されて
いてもよいフエニル基、またはアルキル基が結合
したカルボンアミド基もしくはスルホンアミド基
を表わし、R1およびR2は互に独立したものであ
つて、各々置換されていてもよいアルキル基、置
換されていてもよいフエニル基または置換されて
いてもよいベンジル基を表わす。〕で示されるア
ニリン誘導体とを反応させ、一般式（） 〔式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるクロロシクロブテンジオン誘導
体を得、この誘導体を加水分解することを特徴と
する一般式（） 〔式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。〕で示されるヒドロキシシクロブテンジオン
誘導体の製造方法。 ２ 式（）と式（）の化合物の反応にルイス
酸触媒を使用する特許請求の範囲第１項に記載の
製造方法。 ３ ルイス酸触媒が三フツ化ホウ素である特許請
求の範囲第２項に記載の製造方法。 ４ 溶媒を使用する特許請求の範囲第１項、第２
項または第３項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61091259A JPS62249952A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | ヒドロキシシクロブテンジオン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61091259A JPS62249952A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | ヒドロキシシクロブテンジオン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62249952A JPS62249952A (ja) | 1987-10-30 |
| JPH0557260B2 true JPH0557260B2 (ja) | 1993-08-23 |
Family
ID=14021420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61091259A Granted JPS62249952A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | ヒドロキシシクロブテンジオン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62249952A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0754390B2 (ja) * | 1988-02-10 | 1995-06-07 | 富士ゼロックス株式会社 | 非線形光学素子用材料 |
| US5004661A (en) * | 1989-05-30 | 1991-04-02 | Xerox Corporation | Photoconductive member having symmetrical and unsymmetrical squaraine compositions |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4624904A (en) * | 1985-06-28 | 1986-11-25 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with unsymmetrical squaraine compounds containing an hydroxyl group |
-
1986
- 1986-04-22 JP JP61091259A patent/JPS62249952A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62249952A (ja) | 1987-10-30 |
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